[發明專利]光調節柔性天線及其制作方法

在審

• 申請號: 202011568408.0
• 申請日: 2020-12-25
• 公開（公告）號: CN112736445A
• 公開（公告）日: 2021-04-30
• 發明（設計）人: 馮雪;王志建;陳穎
• 申請（專利權）人: 浙江清華柔性電子技術研究院;清華大學
• 主分類號: H01Q1/38
• 分類號: H01Q1/38;H01Q1/14
• 代理公司: 上海波拓知識產權代理有限公司 31264
• 代理人: 李萌

1.一種光調節柔性天線，其特征在于：包括柔性基體層和線路層，所述線路層設置于所述柔性基體層上，所述柔性基體層包括光敏感材料，所述柔性基體層的介電性能根據照射光線的特性發生改變。

2.根據權利要求1所述的光調節柔性天線，其特征在于：所述柔性基體層呈透明狀，所述光敏感材料為顆粒狀光敏感材料，所述顆粒狀光敏感材料分散設置于所述柔性基體層內。

3.根據權利要求1所述的光調節柔性天線，其特征在于：所述柔性基體層包括由所述光敏感材料制成的光敏感材料層及透明介電層，所述透明介電層設置于所述光敏感材料層的兩側，并將所述光敏感材料層包覆于內。

4.根據權利要求1所述的光調節柔性天線，其特征在于：所述線路層布設于所述柔性基體層一側的表面上。

5.根據權利要求1所述的光調節柔性天線，其特征在于：所述線路層分別設置于所述柔性基體層的兩個相對的表面上，至少在所述柔性基體層的一個表面上，所述線路層呈透明狀。

6.根據權利要求1所述的光調節柔性天線，其特征在于：所述光調節柔性天線包括光源模塊及控制單元，所述光源模塊與所述控制單元電性相連，所述控制單元對所述光源模塊的光照強度進行控制，所述光源模塊發出的光線照射于所述柔性基體層內的所述光敏感材料上。

7.根據權利要求6所述的光調節柔性天線，其特征在于：所述光調節柔性天線包括對所述柔性基體層的彎曲形態進行檢測的彎曲形態檢測模塊，所述彎曲形態檢測模塊與所述控制單元電性相連，并將所述柔性基體層的彎曲形態信息傳遞至所述控制單元，所述控制單元根據所述柔性基體層的彎曲形態，對所述光源模塊的光照強度進行控制。

8.根據權利要求1所述的光調節柔性天線，其特征在于：所述光敏感材料為VO₂、MoO₃或TiO₂。

9.一種光調節柔性天線的制作方法，其特征在于：該方法包括：

S1：提供一柔性基體層，在所述柔性基體層內設置有光敏感材料；

S2：在所述柔性基體層上形成線路層。

10.根據權利要求9所述的光調節柔性天線的制作方法，其特征在于：在所述S1步驟中，所述光敏感材料可以為顆粒狀光敏感材料，所述顆粒狀光敏感材料分散設置于所述柔性基體層內，所述提供一柔性基體層包括：

S11：將所述顆粒狀光敏感材料分散于多巴胺溶液內，并與所述多巴胺溶液進行表面枝接反應，以及制備柔性基體層材料的溶液；

S12：將所述顆粒狀光敏感材料的多巴胺溶液與所述柔性基體層材料的溶液進行混合，得到混合溶液，并對所述混合溶液進行固化成型。