[發明專利]光調節柔性天線及其制作方法

在審

• 申請號: 202011568408.0
• 申請日: 2020-12-25
• 公開（公告）號: CN112736445A
• 公開（公告）日: 2021-04-30
• 發明（設計）人: 馮雪;王志建;陳穎
• 申請（專利權）人: 浙江清華柔性電子技術研究院;清華大學
• 主分類號: H01Q1/38
• 分類號: H01Q1/38;H01Q1/14
• 代理公司: 上海波拓知識產權代理有限公司 31264
• 代理人: 李萌

光調節柔性天線及其制作方法，該光調節柔性天線包括柔性基體層、線路層及光敏感材料，所述線路層設置于所述柔性基體層上，所述光敏感材料設置于所述柔性基體層內，所述柔性基體層的介電性能根據照射光線的特性發生改變。該光調節柔性天線能夠通過光線的照射調節柔性天線的電學性能參數進行改變。

技術領域

本發明涉及柔性天線技術領域，尤其是一種光調節柔性天線及其制作方法。

背景技術

柔性天線具有輕、薄、柔、易于共形的特點而得到廣泛研究。柔性天線的工作主頻、阻抗匹配等電學性能參數受到天線電學尺寸和形狀影響。當柔性天線定型后，其各項性能參數均已經確定，很少能夠進行更改。這不利于柔性天線性能的擴展。

在現有技術中，一般會通過使用介電可調的介質基板，通過電壓調節介質基板的介電常數，使得柔性天線的各項電學性能參數發生改變。但該方式較為繁瑣。

進一步地，在柔性天線工作時，會在一些情況下產生彎曲，而在柔性天線彎曲時，由于彎曲應變導致柔性天線的尺寸發生改變，以及彎曲變形造成柔性天線的形狀發生改變，其介電基板的介電性能，如介電常數和介電損耗，會與平面狀態時會有巨大的差異，一旦柔性天線彎曲至一定程度，其就無法在設計的工作頻率下正常工作，無法獲得好的阻抗匹配，且駐波也會比較大，影響天線的工作效率。

發明內容

有鑒于此，本發明提供了一種光調節柔性天線及其制作方法，該光調節柔性天線能夠通過光線的照射調節柔性天線的電學性能參數進行改變。

本發明提供了一種光調節柔性天線，包括柔性基體層、線路層及光敏感材料，所述線路層設置于所述柔性基體層上，所述光敏感材料設置于所述柔性基體層內，所述柔性基體層的介電性能根據照射光線的特性發生改變。

進一步地，所述柔性基體層呈透明狀，所述光敏感材料為顆粒狀光敏感材料，所述顆粒狀光敏感材料分散設置于所述柔性基體層內。

進一步地，所述柔性基體層包括由所述光敏感材料制成的光敏感材料層及透明介電層，所述透明介電層設置于所述光敏感材料層的兩側，并將所述光敏感材料層包覆于內。

進一步地，所述線路層布設于所述柔性基體層一側的表面上。

進一步地，所述線路層分別設置于所述柔性基體層的兩個相對的表面上，至少在所述柔性基體層的一個表面上，所述線路層呈透明狀。

進一步地，所述光調節柔性天線包括光源模塊及控制單元，所述光源模塊與所述控制單元電性相連，所述控制單元對所述光源模塊的光照強度進行控制，所述光源模塊發出的光線照射于所述柔性基體層內的所述光敏感材料上。

進一步地，所述光調節柔性天線包括對所述柔性基體層的彎曲形態進行檢測的彎曲形態檢測模塊，所述彎曲形態檢測模塊與所述控制單元電性相連，并將所述柔性基體層的彎曲形態信息傳遞至所述控制單元，所述控制單元根據所述柔性基體層的彎曲形態，對所述光源模塊的光照強度進行控制。

進一步地，所述光敏感材料為VO₂、MoO₃或TiO₂。

本發明還提供了一種光調節柔性天線的制作方法，該方法包括如下步驟：

S1：提供一柔性基體層，在所述柔性基體層內設置有光敏感材料；

S2：在所述柔性基體層上形成線路層。

進一步地，在進行S12步驟之前，該方法還包括在所述工作電極上形成電子傳導層，然后在將所述枝狀金納米顆粒層設置于所述電子傳導層上。

進一步地，在所述S1步驟中，所述光敏感材料可以為顆粒狀光敏感材料，所述顆粒狀光敏感材料分散設置于所述柔性基體層內，在形成所述柔性基體層時，該方法包括：