[發明專利]一種物鏡保護裝置及其工作方法、光刻機

在審

• 申請號: 202011567057.1
• 申請日: 2020-12-25
• 公開（公告）號: CN114690568A
• 公開（公告）日: 2022-07-01
• 發明（設計）人: 楊憲;戴思雨;劉偉
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備(集團)股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B27/00
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

本發明公開了一種物鏡保護裝置及其工作方法、光刻機。所述物鏡保護裝置內中間連接板與待保護物鏡的鏡頭鏡面相對設置，中間連接板包括出氣口，出氣口貫穿中間連接板露出鏡頭鏡面的取光區；第一環形氣腔包括第一進氣孔和第一出氣濾網，第一進氣孔設置于第一環形氣腔遠離中間連接板一側的側壁上，第一出氣濾網與待保護物鏡的鏡頭側壁相對且等間距設置；第二環形氣腔包括第二進氣孔和第二出氣濾網，第二進氣孔設置于第二環形氣腔遠離中間連接板一側的側壁上，第二出氣濾網與待保護物鏡的鏡筒靠近物鏡保護裝置一側的表面相對且等間距設置。本發明實施例提供的技術方案，避免了物鏡受污染。

技術領域

本發明實施例涉及光刻技術領域，尤其涉及一種物鏡保護裝置及其工作方法、光刻機。

背景技術

光刻機中物鏡用于將掩膜版上的圖案按照一定比例縮小后映射至涂覆有光刻膠的硅片上，同時在上述過程中進行光學誤差補償，是光刻機的重要組成部件，對光刻精度的影響較大。

現有技術中在物鏡與硅片之間設置底部流動板，底部流動板能夠在物鏡鏡頭的取光區與硅片之間形成氣簾，阻止光刻膠曝光產生的氣體和顆粒污染物鏡。但氣簾通過抽排方式形成，抽排區域附近形成負壓環境，導致氣簾密封不嚴，光刻膠曝光一段時間后，仍然會有有害氣體和顆粒穿過氣簾污染物鏡。

發明內容

本發明提供一種物鏡保護裝置及其工作方法、光刻機，以避免物鏡受污染。

第一方面，本發明實施例提供了一種物鏡保護裝置，包括保護裝置本體，所述保護裝置本體包括中間連接板以及依次圍繞所述中間連接板設置的第一環形氣腔、第二環形氣腔；

其中，所述中間連接板與待保護物鏡的鏡頭鏡面相對設置，所述中間連接板包括出氣口，所述出氣口貫穿所述中間連接板露出所述鏡頭鏡面的取光區；

所述第一環形氣腔包括第一進氣孔和第一出氣濾網，所述第一進氣孔設置于所述第一環形氣腔遠離所述中間連接板一側的側壁上，所述第一出氣濾網與所述待保護物鏡的鏡頭側壁相對且等間距設置；

所述第二環形氣腔包括第二進氣孔和第二出氣濾網，所述第二進氣孔設置于所述第二環形氣腔遠離所述中間連接板一側的側壁上，所述第二出氣濾網與所述待保護物鏡的鏡筒靠近所述物鏡保護裝置一側的表面相對且等間距設置。

第二方面，本發明實施例還提供了一種光刻機，包括上述第一方面所述的物鏡保護裝置。

第三方面，本發明實施例還提供了一種物鏡保護裝置的工作方法，采用上述第一方面所述物鏡保護裝置執行，該物鏡保護裝置的工作方法包括：

固定所述物鏡保護裝置的保護裝置本體，以使所述物鏡保護裝置的中間連接板與待保護物鏡的鏡頭鏡面相對設置，所述鏡頭鏡面的取光區從所述中間連接板上的出氣口露出，第一出氣濾網與所述待保護物鏡的鏡頭側壁相對且等間距設置，所述第二出氣濾網與所述待保護物鏡的鏡筒靠近所述物鏡保護裝置一側的表面相對且等間距設置；

通過所述第一進氣孔向所述第一環形氣腔輸入第一氣體，通過所述第二進氣孔向所述第二環形氣腔輸入第二氣體，所述第一氣體的流量小于所述第二氣體的流量，所述第一氣體的密度和所述第二氣體的密度不同。