[發(fā)明專利]一種物鏡保護裝置及其工作方法、光刻機

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011567057.1
• 申請日: 2020-12-25
• 公開（公告）號: CN114690568A
• 公開（公告）日: 2022-07-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 楊憲;戴思雨;劉偉
• 申請（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備(集團)股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B27/00
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

1.一種物鏡保護裝置，其特征在于，包括保護裝置本體，所述保護裝置本體包括中間連接板以及依次圍繞所述中間連接板設(shè)置的第一環(huán)形氣腔、第二環(huán)形氣腔；

其中，所述中間連接板與待保護物鏡的鏡頭鏡面相對設(shè)置，所述中間連接板包括出氣口，所述出氣口貫穿所述中間連接板露出所述鏡頭鏡面的取光區(qū)；

所述第一環(huán)形氣腔包括第一進氣孔和第一出氣濾網(wǎng)，所述第一進氣孔設(shè)置于所述第一環(huán)形氣腔遠離所述中間連接板一側(cè)的側(cè)壁上，所述第一出氣濾網(wǎng)與所述待保護物鏡的鏡頭側(cè)壁相對且等間距設(shè)置；

所述第二環(huán)形氣腔包括第二進氣孔和第二出氣濾網(wǎng)，所述第二進氣孔設(shè)置于所述第二環(huán)形氣腔遠離所述中間連接板一側(cè)的側(cè)壁上，所述第二出氣濾網(wǎng)與所述待保護物鏡的鏡筒靠近所述物鏡保護裝置一側(cè)的表面相對且等間距設(shè)置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的物鏡保護裝置，其特征在于，所述保護裝置本體還包括抽排腔，所述抽排腔圍繞所述第一環(huán)形氣腔設(shè)置，且位于所述第二環(huán)形氣腔遠離所述待保護物鏡的一側(cè)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的物鏡保護裝置，其特征在于，所述抽排腔包括四個子抽排腔，四個所述子抽排腔依次等間距排列。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的物鏡保護裝置，其特征在于，還包括多個音圈電機，所述音圈電機與所述保護裝置本體連接，用于控制所述保護裝置本體朝向或遠離所述待保護物鏡移動。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的物鏡保護裝置，其特征在于，還包括絕壓傳感器，所述絕壓傳感器用于檢測待保護物鏡的底部壓力。

6.一種光刻機，其特征在于，包括權(quán)利要求1-5任一項所述的物鏡保護裝置。

7.一種物鏡保護裝置的工作方法，采用權(quán)利要求1-5任一項所述物鏡保護裝置執(zhí)行，其特征在于，包括：

固定所述物鏡保護裝置的保護裝置本體，以使所述物鏡保護裝置的中間連接板與待保護物鏡的鏡頭鏡面相對設(shè)置，所述鏡頭鏡面的取光區(qū)從所述中間連接板上的出氣口露出，第一出氣濾網(wǎng)與所述待保護物鏡的鏡頭側(cè)壁相對且等間距設(shè)置，第二出氣濾網(wǎng)與所述待保護物鏡的鏡頭靠近所述鏡頭一側(cè)的表面相對且等間距設(shè)置；

通過所述第一進氣孔向所述第一環(huán)形氣腔輸入第一氣體，通過所述第二進氣孔向所述第二環(huán)形氣腔輸入第二氣體，所述第一氣體的流量小于所述第二氣體的流量，所述第一氣體的密度和所述第二氣體的密度不同。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的工作方法，其特征在于，通過所述第一進氣孔向所述第一環(huán)形氣腔輸入第一氣體，通過所述第二進氣孔向所述第二環(huán)形氣腔輸入第二氣體之前，還包括：

控制抽排腔抽氣。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的工作方法，其特征在于，所述第一氣體為超純壓縮干燥氣體、氮氣或二氧化碳氣體，所述第二氣體為氦氣；或者，所述第一氣體為二氧化碳氣體，所述第二氣體為氮氣；或者，所述第一氣體為二氧化碳氣體，所述第二氣體為超純壓縮干燥氣體。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的工作方法，其特征在于，通過所述第一進氣孔向所述第一環(huán)形氣腔輸入第一氣體，通過所述第二進氣孔向所述第二環(huán)形氣腔輸入第二氣體之前，還包括：

控制系統(tǒng)控制多個音圈電機調(diào)節(jié)所述保護裝置本體的位置。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的工作方法，其特征在于，通過多個音圈電機調(diào)節(jié)所述保護裝置本體的位置之前，還包括：

通過絕壓傳感器檢測待保護物鏡的底部壓力，并將檢測到的底部壓力傳輸給所述控制系統(tǒng)。