[發(fā)明專利]一種應(yīng)用于動態(tài)分離砂磨機(jī)的氧化鋯研磨珠及其制備方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 202011561289.6
• 申請日: 2020-12-25
• 公開（公告）號: CN112592176A
• 公開（公告）日: 2021-04-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 任永國;孟超;朱振宇;魏小威;范孝友
• 申請（專利權(quán)）人: 安徽致磨新材料科技有限公司
• 主分類號: C04B35/48
• 分類號: C04B35/48;C04B35/622;C09K3/14;B24B31/14
• 代理公司: 合肥正則元起專利代理事務(wù)所(普通合伙) 34160
• 代理人: 匡立嶺

本發(fā)明公開了一種應(yīng)用于動態(tài)分離砂磨機(jī)的氧化鋯研磨珠及其制備方法，由下述重量份的原料制成：四方多晶氧化鋯65?95份、四方多晶氧化鋯10?35份、氧化鋁1?5份，將所述的四方多晶氧化鋯、四方多晶氧化鋯、氧化鋁充分混合得到A料；將A料經(jīng)過滾動成球工藝，得到B料；將B料經(jīng)高溫窯爐進(jìn)行燒制，自然冷卻后得到C料；將C料經(jīng)過粗拋光、精拋光工序獲得D料；將D料經(jīng)過干燥、自然晾干、分選、篩分工序獲得氧化鋯研磨珠成品；本發(fā)明能降低氧化鋯陶瓷的燒結(jié)溫度，同時提高氧化鋯陶瓷的強(qiáng)度和韌性，使其具有優(yōu)異的耐磨性，可以制成研磨介質(zhì)延長產(chǎn)品的使用壽命，保護(hù)動態(tài)分離砂磨機(jī)的分離系統(tǒng)動靜環(huán)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于無機(jī)非金屬材料技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種應(yīng)用于動態(tài)分離砂磨機(jī)的氧化鋯研磨珠及其制備方法。

背景技術(shù)

氧化鋯陶瓷具有高韌性、高抗彎強(qiáng)度和高耐磨性，熱膨脹系數(shù)接近于鋼等優(yōu)點，因此被廣泛應(yīng)用于結(jié)構(gòu)陶瓷領(lǐng)域。主要用于3Y-TZP研磨球，球閥球座，光纖套筒，光纖插針，手表鏈、殼，手機(jī)背板等領(lǐng)域，砂磨機(jī)的鋯珠與物料分離系統(tǒng)有靜態(tài)分離(主要組成部分為篩網(wǎng)，依靠篩網(wǎng)的縫隙)和動態(tài)分離(主要組成部分為動環(huán)和靜環(huán)，依靠動環(huán)和靜環(huán)之間的縫隙)，動態(tài)分離設(shè)備需要氧化鋯珠具有足夠高的強(qiáng)度和韌性，才能保證在設(shè)備運轉(zhuǎn)過程中鋯珠不被動靜環(huán)擠碎。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的就在于為了解決砂磨機(jī)的鋯珠與物料分離系統(tǒng)有靜態(tài)分離(主要組成部分為篩網(wǎng)，依靠篩網(wǎng)的縫隙)和動態(tài)分離(主要組成部分為動環(huán)和靜環(huán)，依靠動環(huán)和靜環(huán)之間的縫隙)，動態(tài)分離設(shè)備需要氧化鋯珠具有足夠高的強(qiáng)度和韌性，才能保證在設(shè)備運轉(zhuǎn)過程中鋯珠不被動靜環(huán)擠碎的問題，而提出一種應(yīng)用于動態(tài)分離砂磨機(jī)的氧化鋯研磨珠及其制備方法；這種氧化鋯研磨珠具有良好的韌性和高的機(jī)械強(qiáng)度，在使用過程中具有優(yōu)良的耐磨性，使用壽命長，而且燒結(jié)成本較低，節(jié)約能耗。

本發(fā)明的目的可以通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)：

一種應(yīng)用于動態(tài)分離砂磨機(jī)的氧化鋯研磨珠，由以下重量份的原料制成：四方多晶氧化鋯65-95份、四方多晶氧化鋯10-35份和氧化鋁1-5份；

該應(yīng)用于動態(tài)分離砂磨機(jī)的氧化鋯研磨珠的制備方法包括以下步驟：

第一步：將所述的D₅₀＝500nm的四方多晶氧化鋯、D₅₀＝200nm的四方多晶氧化鋯、氧化鋁充分混合得到A料；

第二步：將A料經(jīng)過滾動成球工藝，采用5％wt濃度的PEG-2000水溶液作為粘接劑,控制研磨珠生坯含水率為15wt％得到B料；

第三步：將B料經(jīng)高溫窯爐進(jìn)行燒制，自然冷卻后得到C料；

第四步：將C料經(jīng)過粗拋光、精拋光工序獲得D料；

第五步：將D料經(jīng)過干燥、自然晾干、分選、篩分工序獲得氧化鋯研磨珠成品。

優(yōu)選的，所述四方多晶氧化鋯的粒徑D₅₀＝500nm。

優(yōu)選的，所述四方多晶氧化鋯的粒徑D₅₀＝200nm。

優(yōu)選的，所述氧化鋁的粒徑D₅₀＝50nm。

一種應(yīng)用于動態(tài)分離砂磨機(jī)的氧化鋯研磨珠的制備方法，包括以下步驟：

第一步：將所述的D₅₀＝500nm的四方多晶氧化鋯、D₅₀＝200nm的四方多晶氧化鋯、氧化鋁充分混合得到A料；

第二步：將A料經(jīng)過滾動成球工藝，采用5％wt濃度的PEG-2000水溶液作為粘接劑,控制研磨珠生坯含水率為15wt％得到B料；

第三步：將B料經(jīng)高溫窯爐進(jìn)行燒制，自然冷卻后得到C料；

第四步：將C料經(jīng)過粗拋光、精拋光工序獲得D料；