[發明專利]一種應用于動態分離砂磨機的氧化鋯研磨珠及其制備方法在審
| 申請號： | 202011561289.6 | 申請日： | 2020-12-25 |
| 公開（公告）號： | CN112592176A | 公開（公告）日： | 2021-04-02 |
| 發明（設計）人： | 任永國;孟超;朱振宇;魏小威;范孝友 | 申請（專利權）人： | 安徽致磨新材料科技有限公司 |
| 主分類號： | C04B35/48 | 分類號： | C04B35/48;C04B35/622;C09K3/14;B24B31/14 |
| 代理公司： | 合肥正則元起專利代理事務所(普通合伙) 34160 | 代理人： | 匡立嶺 |
| 地址： | 234200 安*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 應用于 動態 分離 砂磨 氧化鋯 研磨 及其 制備 方法 | ||
1.一種應用于動態分離砂磨機的氧化鋯研磨珠，其特征在于：由以下重量份的原料制成：四方多晶氧化鋯65-95份、四方多晶氧化鋯10-35份和氧化鋁1-5份；
該應用于動態分離砂磨機的氧化鋯研磨珠的制備方法包括以下步驟：
第一步：將所述的D50＝500nm的四方多晶氧化鋯、D50＝200nm的四方多晶氧化鋯、氧化鋁充分混合得到A料；
第二步：將A料經過滾動成球工藝，采用5％wt濃度的PEG-2000水溶液作為粘接劑,控制研磨珠生坯含水率為15wt％得到B料；
第三步：將B料經高溫窯爐進行燒制，自然冷卻后得到C料；
第四步：將C料經過粗拋光、精拋光工序獲得D料；
第五步：將D料經過干燥、自然晾干、分選、篩分工序獲得氧化鋯研磨珠成品。
2.根據權利要求1所述的一種應用于動態分離砂磨機的氧化鋯研磨珠，其特征在于，所述四方多晶氧化鋯的粒徑D50＝500nm。
3.根據權利要求1所述的一種應用于動態分離砂磨機的氧化鋯研磨珠，其特征在于，所述四方多晶氧化鋯的粒徑D50＝200nm。
4.根據權利要求1所述的一種應用于動態分離砂磨機的氧化鋯研磨珠，其特征在于，所述氧化鋁的粒徑D50＝50nm。
5.一種應用于動態分離砂磨機的氧化鋯研磨珠的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
第一步：將所述的D50＝500nm的四方多晶氧化鋯、D50＝200nm的四方多晶氧化鋯、氧化鋁充分混合得到A料；
第二步：將A料經過滾動成球工藝，采用5％wt濃度的PEG-2000水溶液作為粘接劑,控制研磨珠生坯含水率為15wt％得到B料；
第三步：將B料經高溫窯爐進行燒制，自然冷卻后得到C料；
第四步：將C料經過粗拋光、精拋光工序獲得D料；
第五步：將D料經過干燥、自然晾干、分選、篩分工序獲得氧化鋯研磨珠成品。
6.根據權利要求5所述的一種應用于動態分離砂磨機的氧化鋯研磨珠的制備方法，其特征在于，在第二步中，A料經過冷等靜壓成型得到B料。
7.根據權利要求5所述的一種應用于動態分離砂磨機的氧化鋯研磨珠的制備方法，其特征在于，在第三步中，燒結溫度為1320℃-1400℃,保溫時間3小時。
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