[發明專利]一種黑色亮光聚酰亞胺薄膜及其制備方法

有效

• 申請號: 202011551379.7
• 申請日: 2020-12-24
• 公開（公告）號: CN112708272B
• 公開（公告）日: 2022-03-11
• 發明（設計）人: 劉宸宇;貝潤鑫;韓春香;李敏
• 申請（專利權）人: 無錫順鉉新材料有限公司;無錫順鉉光電科技有限公司;無錫順意銳新材料研究有限公司
• 主分類號: C08L79/08
• 分類號: C08L79/08;C08K9/10;C08K3/04;C08J5/18
• 代理公司: 北京慕達星云知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11465
• 代理人: 崔自京

本發明公開了一種黑色亮光聚酰亞胺薄膜及其制備方法，其原料包括：聚酰亞胺基體，和占聚酰亞胺基體質量3％～10％的碳黑粉體，且所述碳黑粉體先經分散劑進行預處理；所述分散劑為磷酸聚酯、BYK?9077、硅烷偶聯劑、乙烷氧基鋁二異丙基、丙烯酸嵌段共聚物中的任意兩種或兩種以上的混合物。本發明解決了碳黑粉體容易團聚不易分散的問題，在聚酰亞胺薄膜亞胺后得到的成品光澤度高、不透光、膜平整。

技術領域

本發明涉及聚酰亞胺薄膜材料領域，具體的說涉及一種黑色亮光聚酰亞胺薄膜及其制備方法。

背景技術

聚酰亞胺(PI)薄膜自上世紀60年代投入應用以來，因其具有優良的耐熱性能、高絕緣性、耐稀酸性、機械性能、介電性能和低熱膨脹系數、高耐輻射性能、自熄阻燃性能、無毒等性能而廣泛應用于航空航天、國防軍工、電子電工、LED、電池等領域，被各國列入21世紀最有希望的工程塑料之一。同時，隨著電子技術的飛速發展，對聚酰亞胺薄膜性能的要求也越來越高。

當前電子設備更新升級迅速，其線路排布都需要保密，因此就需要一款可以遮光的聚酰亞胺薄膜。傳統方法是在黃色聚酰亞胺薄膜表面涂上黑色油墨，但是黑色油墨并不能耐高溫，容易出現油墨剝落的現象，因此出現了添加碳黑填料的不透明黑色聚酰亞胺薄膜。

碳黑本體粒徑很小，為納米級，但是粒徑越小的碳黑，表面能越大，粒子間的吸引力越容易產生聚集，尤其是在沒有對碳黑粒子充分包覆分散的前提下，脫離漿料體系以后，粒子也會因為粒子間的作用力而再次團聚，從而影響聚酰亞胺薄膜的機械性能和光澤度。因此在使用之前必須把團聚顆粒打開、分散均勻，而簡單的高速攪拌分散、超聲分散、砂磨球磨分散，無法達到最優的效果，

因此，如何提供一種分散性好的黑色亮光聚酰亞胺薄膜是本領域技術人員亟需解決的技術問題。

發明內容

鑒于上述問題，本發明提供了一種黑色亮光聚酰亞胺薄膜及其制備方法，解決了碳黑粉體容易團聚不易分散的問題，在聚酰亞胺薄膜亞胺后得到的成品光澤度高、不透光、膜平整。

為了實現上述目的，本發明采用如下技術方案：

一種黑色亮光聚酰亞胺薄膜，其原料包括：聚酰亞胺基體，和占聚酰亞胺基體質量3％～10％的碳黑粉體，且所述碳黑粉體先經分散劑進行預處理；所述分散劑為磷酸聚酯、BYK-9077、硅烷偶聯劑、乙烷氧基鋁二異丙基、丙烯酸嵌段共聚物中的的任意兩種或兩種以上的混合物。

采用上述技術方案的有益效果：分散劑的使用可以對碳黑表面進行包覆，減少碳黑粒子之間的分子作用力，從而避免碳黑粒子出現團聚現象影響光澤度。

優選的，所述分散劑占所述碳黑粉體質量的2％～20％。

采用上述技術方案的有益效果：分散劑添加2％～20％，既可將碳黑充分包覆又不影響聚酰亞胺基體原有的性質。

優選的，所述聚酰亞胺基體由芳香族二胺和芳香族二酐按照等摩爾比在溶劑中經縮聚反應制得。

優選的，所述硅烷偶聯劑為γ-縮水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷(KH560)、γ-氨丙基三乙氧基硅烷(KH550)中的一種或兩種的混合物；所述芳香族二胺為4,4’-二氨基二苯醚(ODA)、間苯二胺(m-PDA)、對苯二胺(p-PD)、2,2-雙[4-(4-氨基苯氧基)苯基]丙烷(BAPP)、4,4’-二(4-氨基苯氧基)二苯砜(m-BAPS)中的一種或任意多種的混合物；所述芳香族二酐為均苯四甲酸二酐(PMDA)、3,3’,4,4’-聯苯四甲酸二酐(s-BPDA)、2,3,3',4'-聯苯四羧酸二酐(α-BPDA)、3,3',4,4'-二苯酮四甲酸二酐(BTDA)、4,4’-聯苯醚二酐(ODPA)中的一種或多種的混合物；所述溶劑為N,N-二甲基乙酰胺(DMAC)、N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、γ-丁內酯(GBL)、N-甲基吡咯烷酮(NMP)中的一種或多種的混合物。

上述所述的一種黑色亮光聚酰亞胺薄膜的制備方法，包括以下步驟：