[發明專利]柔性顯示面板及其制備方法有效
| 申請號： | 202011550836.0 | 申請日： | 2020-12-24 |
| 公開（公告）號： | CN112670248B | 公開（公告）日： | 2022-10-04 |
| 發明（設計）人： | 潘杰 | 申請（專利權）人： | 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號： | H01L21/84 | 分類號： | H01L21/84;H01L27/12;H01L27/32;G09F9/30;G09F9/33 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570 | 代理人： | 劉泳麟 |
| 地址： | 430079 湖北省武漢市東湖新技術*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 柔性 顯示 面板 及其 制備 方法 | ||
1.一種柔性顯示面板的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：
S10:提供一剛性基板，在所述剛性基板上形成磁性復合膜層；
S20:在所述磁性復合膜層上形成柔性襯底；
S30:在所述柔性襯底上形成陣列驅動層；
S40:在所述陣列驅動層上形成發光器件層；
S50:在所述發光器件層上形成封裝層；以及
S60:對所述磁性復合膜層施加磁場，使得所述磁性復合膜層發生形變，與所述剛性基板剝離；
S70:將所述磁性復合膜層從所述柔性襯底上去除。
2.如權利要求1所述的柔性顯示面板的制備方法，其特征在于，在所述步驟S10中，所述磁性復合膜層包括磁性粒子與具有彈性的有機材料。
3.如權利要求1所述的柔性顯示面板的制備方法，其特征在于，在所述步驟S10中，所述磁性復合膜層的厚度為6-10微米。
4.如權利要求2所述的柔性顯示面板的制備方法，其特征在于，所述磁性粒子在所述磁性復合膜層中的重量百分含量為2％-10％。
5.如權利要求2所述的柔性顯示面板的制備方法，其特征在于，所述磁性粒子為三氧化二鐵與四氧化三鐵的混合物，其中，所述三氧化二鐵的重量百分含量為2％-80％，所述四氧化三鐵的重量百分含量為20％-98％。
6.如權利要求2所述的柔性顯示面板的制備方法，其特征在于，所述有機材料為聚乙烯醇凝膠。
7.如權利要求1所述的柔性顯示面板的制備方法，其特征在于，在所述步驟S10中，所述磁性復合膜層通過涂布工藝或轉印工藝形成。
8.如權利要求1所述的柔性顯示面板的制備方法，其特征在于，在所述步驟S60中，所述磁場的強度為20-100毫特斯拉。
9.如權利要求1所述的柔性顯示面板的制備方法，其特征在于，所述步驟S70包括：使用溶解劑將所述磁性復合膜層從所述柔性襯底上溶解去除。
10.一種柔性顯示面板，其特征在于，所述柔性顯示面板由權利要求1-9任意一項所述的柔性顯示面板的制備方法制備而得。
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H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
