[發明專利]一種質譜儀器極片清洗裝置及清洗質譜儀器極片的方法

有效

• 申請號: 202011548548.1
• 申請日: 2020-12-24
• 公開（公告）號: CN112676270B
• 公開（公告）日: 2022-02-08
• 發明（設計）人: 黃正旭;蔣濤;李磊;高偉;周振
• 申請（專利權）人: 暨南大學
• 主分類號: B08B7/00
• 分類號: B08B7/00
• 代理公司: 北京高沃律師事務所 11569
• 代理人: 王術娜

1.一種清洗質譜儀器極片的方法，采用質譜儀器極片清洗裝置對質譜儀器極片進行清洗；

所述質譜儀器極片清洗裝置包括載氣輸入管，輔助氣輸入管，固定件，內管，中管，外管，固態微波源，微波傳輸線，耦合環，開口端，反射功率調節環，矩管和微波組件；

所述矩管包括由內向外嵌套設置的內管、中管和外管；所述內管、中管和外管為同軸結構；所述中管一端的管壁上設有開口；

所述質譜儀器極片清洗裝置包括微波組件；所述微波組件包括電連接的固態微波源和耦合環；所述固態微波源設置于矩管的上方；所述耦合環設置于所述中管上的開口處；所述固態微波源的微波頻率為2.45GHz；

所述矩管靠近微波組件的一端的管口為開口端；所述固態微波源上設有反射功率檢測儀；

所述外管上與所述耦合環對應的位置設置開口，所述耦合環通過微波傳輸線穿過所述開口與固態微波源連接；所述矩管未設置耦合環的一端設有調諧件，所述調諧件包括固定件和反射功率調節環；所述反射功率調節環套于所述中管的外壁上，所述固定件設置于所述反射功率調節環的外側，支撐所述外管；

所述內管遠離微波組件的管口與載氣輸入管連接，所述中管遠離微波組件的一端的管口與輔助氣輸入管連接；所述矩管的開口端與所述反射功率調節環的距離為1/4微波波長；

所述質譜儀器極片清洗裝置還包括三維移動平臺，三維移動平臺位于遠離微波組件的一端；

采用質譜儀器清洗極片裝置對極片進行清洗時的操作為：開啟三維移動平臺，將質譜儀器清洗極片裝置移動至固定并調整好位置在離子源腔體內的極片正下方位置，內管和中管開始通入純度為99.999％的氬氣，固態微波源開啟，在開口端形成等離子炬焰，對極片進行清洗，等離子炬焰與質譜儀器極片的距離d為0.5～1cm，將離子源極片中的離子束孔周圍的區域加熱到80～250℃并保持3分鐘的時間。