[發明專利]一種質譜儀器極片清洗裝置及清洗質譜儀器極片的方法

有效

• 申請號: 202011548548.1
• 申請日: 2020-12-24
• 公開（公告）號: CN112676270B
• 公開（公告）日: 2022-02-08
• 發明（設計）人: 黃正旭;蔣濤;李磊;高偉;周振
• 申請（專利權）人: 暨南大學
• 主分類號: B08B7/00
• 分類號: B08B7/00
• 代理公司: 北京高沃律師事務所 11569
• 代理人: 王術娜

本發明提供了一種質譜儀器極片清洗裝置，包括微波組件和矩管；所述矩管包括由內向外嵌套設置的內管、中管和外管；所述中管一端的管壁上設有開口；所述微波組件包括電連接的固態微波源和耦合環；所述固態微波源設置于矩管外；所述耦合環設置于所述中管上的開口處。本發明提供的質譜儀器極片清洗裝置在使用時在中管和內管中通入放電氣體，利用固態微波源驅動微波放電，通過耦合環將微波能傳輸至中管，中管的放電氣體點燃等離子體，與內管的放電氣體在矩管的管口形成等離子炬焰，形成的等離子炬焰在極片外部進行燒蝕，利用高溫使極片上沉積的電絕緣體涂層在真空中升華而蒸發，在無需破真空取出極片就可以實現質譜儀器極片的清洗，簡化了清洗工藝。

技術領域

本發明屬于質譜儀技術領域，具體涉及一種質譜儀器極片清洗裝置及清洗質譜儀器極片的方法。

背景技術

基質輔助激光解吸飛行時間質譜儀(MALDI-TOF MS)是一種廣泛使用的生物質譜儀。通過MALDI離子源產生的激光向樣品和基質的混合物發射光，以使樣品離子化。當使用質譜儀時，MALDI離子源的激光器向樣品和樣品點中包含的基質的混合物發射光脈沖，以噴射出電離和非電離(即中性)樣品(“分析物”)和來自樣品點的基質。經過MALDI離子源的電極產生的電場將包含在該羽流中的電離材料(大部分為樣品的離子和一些基質的離子)加速，從而穿過電極中的孔，供離子檢測器檢測。但是，在該羽流中的非電離材料(主要是非電離的基質和一些非電離的樣品)通常會繼續從樣品點擴展，直到沉積在離子源附近的表面，例如MALDI離子源的電極表面。隨著時間的流逝，未電離的樣品和基質會在樣品斑點附近的表面上堆積，尤其是在MALDI離子源的電極表面上，從而形成污染物材料的絕緣層，該絕緣層會隨著時間的流逝而產生不利的電荷，影響MALDI離子源的運行。特別地，電極上的污染物材料的絕緣層會使電極產生的電場失真，從而使質譜儀的靈敏度或分辨率降低，因此，需要對電極片定期清洗。

目前，清洗電極片的主要方法是將裝有電極的MALDI離子源腔體先排氣再打開，以使電極片可以就地清洗或完全取出以進行徹底清洗。在這兩種情況下，在清洗完畢后，通常還需要幾個小時才能恢復MALDI離子源腔體的真空度，并執行高壓調節，儀器調諧和質量校準程序，導致清洗過程復雜。

因此，有必要設計一種清洗裝置來簡化清洗過程，使得儀器無需破真空就可以清洗。

發明內容

本發明的目的在于提供一種質譜儀器極片清洗裝置及清洗質譜儀器極片的方法。本發明提供的質譜儀器極片清洗裝置在無需手動拆卸儀器(破真空)的情況下就可以清洗MALDI-MS儀器的第一加速極片，同時實現360度無死角清理，提高使用效率。

為了實現上述發明目的，本發明提供以下技術方案：

本發明提供了一種質譜儀器極片清洗裝置，包括微波組件和矩管；

所述矩管包括由內向外嵌套設置的內管、中管和外管；所述中管一端的管壁上設有開口；

所述微波組件包括電連接的固態微波源和耦合環；所述固態微波源設置于矩管外；所述耦合環設置于所述中管上的開口處。

優選地，所述固態微波源上設有反射功率檢測儀。

優選地，所述矩管未設置耦合環的一端設有調諧件，所述調諧件包括固定件和反射功率調節環。

優選地，所述反射功率調節環套于所述中管的外壁上，所述固定件設置于所述反射功率調節環的外側，支撐所述外管。

優選地，所述內管遠離微波組件的管口與載氣輸入管連接，所述中管遠離微波組件的一端的管口與輔助氣輸入管連接。

優選地，所述外管上與所述耦合環對應的位置設置開口，所述耦合環通過微波傳輸線穿過所述開口與固態微波源連接。

本發明還提供了一種清洗質譜儀器極片的方法，采用上述技術方案所述質譜儀器極片清洗裝置對質譜儀器極片進行清洗。