[發明專利]一種光軸偏差測量方法、智能終端及計算機可讀存儲介質在審
| 申請號: | 202011547034.4 | 申請日: | 2020-12-24 |
| 公開(公告)號: | CN114677285A | 公開(公告)日: | 2022-06-28 |
| 發明(設計)人: | 胡錦麗;劉陽興 | 申請(專利權)人: | 武漢TCL集團工業研究院有限公司 |
| 主分類號: | G06T5/00 | 分類號: | G06T5/00;G06T7/80 |
| 代理公司: | 深圳市君勝知識產權代理事務所(普通合伙) 44268 | 代理人: | 謝松 |
| 地址: | 430000 湖北省武漢市東湖*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 光軸 偏差 測量方法 智能 終端 計算機 可讀 存儲 介質 | ||
1.一種光軸偏差測量方法,其特征在于,所述光軸偏差測量方法具體包括:
獲取針對同一場景拍攝的第一圖像和第二圖像;
根據所述第一圖像和所述第二圖像,計算對應的目標本征矩陣;
根據所述目標本征矩陣,計算與所述第一圖像和所述第二圖像對應的光軸偏差值。
2.根據權利要求1所述的光軸偏差測量方法,其特征在于,所述根據所述第一圖像和所述第二圖像,計算對應的目標本征矩陣,具體包括:
提取所述第一圖像中的特征點,生成第一特征點集;以及提取所述第二圖像中的特征點,生成第一特征點集;
將所述第一特征點集和所述第二特征點集進行匹配,生成若干對特征點對;
根據所述特征點對,計算所述第一圖像和所述第二圖像之間的目標本征矩陣。
3.根據權利要求2所述的光軸偏差測量方法,其特征在于,所述第一圖像為第一攝像頭拍攝的圖像,所述第二圖像為第二攝像頭拍攝的圖像;所述提取所述第一圖像和所述第二圖像中的特征點,生成第一特征點集和第二特征點集,具體包括:
將所述第一圖像和所述第二圖像進行灰度化處理,生成第一灰度圖像和第二灰度圖像;
根據預設的第一畸變系數,對所述第一灰度圖像進行矯正,生成第一矯正圖像,以及根據預設的第二畸變系數,對所述第二灰度圖像進行矯正,生成第二矯正圖像,其中,所述第一畸變系數為所述第一攝像頭的畸變系數,所述第二畸變系數為所述第二攝像頭的畸變系數;
對所述第一矯正圖像進行特征點提取,生成對應的第一特征點集;以及對所述第二矯正圖像進行特征點進行提取,生成對應的第二特征點集。
4.根據權利要求2所述的光軸偏差測量方法,其特征在于,所述根據所述特征點對,計算所述第一圖像和所述第二圖像之間的目標本征矩陣,具體包括:
根據預設的擬合規則,對所述特征點對進行擬合計算,生成對應的第N本征矩陣和第N內點數值,其中,N為正整數且當初次進行擬合計算時,N等于1;
當所述第N內點數值大于預設的內點數閾值時,將所述第N內點數值作為內點數閾值,并將預設的迭代次數加一,其中,當初次進行擬合計算時,迭代次數為零;
迭代計算第N本征矩陣并根據第N內點數值更新所述迭代次數,直至所述迭代次數大于預設的迭代次數閾值;
確定數值最大的第N內點數值對應的本征矩陣為所述目標本征矩陣。
5.根據權利要求4所述的光軸偏差測量方法,其特征在于,所述根據預設的擬合規則,對所述特征點對進行擬合計算,生成對應的第N本征矩陣和第N內點數值,具體包括:
選取所述特征對點集中與預設的測試數量相等數量的特征點對作為測試特征點對;
根據所述測試特征點對,計算對應的第N本征矩陣和第N內點數值。
6.根據權利要求5所述的光軸偏差測量方法,其特征在于,所述根據所述測試特征點對,計算對應的第N本征矩陣和第N內點數值,具體包括:
將所述測試特征點寫入預設的矩陣模板中,生成測試矩陣;
根據所述測試矩陣,計算所述測試矩陣對應的零空間,得到第N本征矩陣;
根據所述第N本征矩陣,計算所述特征點對中匹配的特征點的數量,得到所述第N內點數值。
7.根據權利要求6所述的光軸偏差測量方法,其特征在于,所述根據所述測試矩陣,計算所述測試矩陣對應的零空間,得到第N本征矩陣,具體包括:
根據所述測試矩陣,對所述測試矩陣對應的零空間進行消元,得到對應的系統方程;
根據預設的附加方程,對所述系統方程進行消元,生成中間矩陣;
對所述中間矩陣求解,生成對應的中間值;
根據所述中間值,對所述零空間進行求解,生成第N本征矩陣。
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