[發明專利]自動曝光控制方法及系統

有效

• 申請號: 202011543513.9
• 申請日: 2020-12-23
• 公開（公告）號: CN112672068B
• 公開（公告）日: 2022-05-03
• 發明（設計）人: 黃翌敏;何承林
• 申請（專利權）人: 上海奕瑞光電子科技股份有限公司
• 主分類號: H04N5/235
• 分類號: H04N5/235
• 代理公司: 上海光華專利事務所(普通合伙) 31219
• 代理人: 施婷婷

1.一種自動曝光控制方法，其特征在于，所述自動曝光控制方法至少包括：

1)待拍攝物體進入拍攝區域，對所述待拍攝物體進行圖形采集并獲取待拍攝部位的位置信息；

2)基于所述待拍攝物體與平板探測器的相對位置，確定所述平板探測器的曝光輻照射野；

3)選定所述平板探測器的曝光輻照射野，對所述待拍攝部位進行曝光，完成曝光后所述平板探測器觸發圖像采集；其中，曝光開始后，所述平板探測器實時檢測整個所述曝光輻照射野內圖像的灰度值以得到曝光劑量率，通過對所述曝光劑量率積分獲取曝光劑量，并對曝光結束時的曝光劑量進行預測判斷，得到預測曝光劑量，若預測曝光劑量達到曝光劑量閾值則觸發閘斷控制信號。

2.根據權利要求1所述的自動曝光控制方法，其特征在于：步驟1)中基于紅外線、可見光或紫外線對所述待拍攝物體的圖像進行采集。

3.根據權利要求1或2所述的自動曝光控制方法，其特征在于：所述自動曝光控制方法還包括：基于所述待拍攝物體的圖像獲取所述待拍攝部位的形狀信息，并測量所述待拍攝部位的厚度信息，根據所述待拍攝部位的形狀信息及厚度信息確定曝光劑量閾值。

4.根據權利要求3所述的自動曝光控制方法，其特征在于：基于超聲波測量或激光測量獲取所述待拍攝部位的厚度信息。

5.根據權利要求1所述的自動曝光控制方法，其特征在于：基于曝光劑量率及信號傳輸鏈路延遲時長預測曝光結束時的曝光劑量，所述曝光劑量率及所述信號傳輸鏈路延遲時長與曝光結束時的曝光劑量成相關關系。

6.根據權利要求1或5所述的自動曝光控制方法，其特征在于：所述自動曝光控制方法還包括：當包括至少兩個曝光輻照射野時，基于各曝光輻照射野之間的邏輯關系確定所述平板探測器是否發出閘斷控制信號。

7.根據權利要求6所述的自動曝光控制方法，其特征在于：各曝光輻照射野之間的邏輯關系包括邏輯與、邏輯或及加權平均中的至少一種。

8.根據權利要求1所述的自動曝光控制方法，其特征在于：基于曝光傳感器檢測曝光起始時刻；或掃描所述平板探測器的曝光劑量，若曝光劑量大于預設起始值則判定為曝光開始，其中，所述預設起始值不小于零。

9.根據權利要求1所述的自動曝光控制方法，其特征在于：基于曝光傳感器檢測曝光結束時刻；或掃描所述平板探測器的曝光劑量，若檢測到曝光劑量率的增加量小于預設閾值則判定曝光結束，其中，所述預設閾值大于零。

10.一種自動曝光控制系統，實現如權利要求1～9任意一項所述的自動曝光控制方法，其特征在于，所述自動曝光控制系統至少包括：

視覺裝置、計算裝置、平板探測器、高壓控制器、高壓發生裝置及球管；

所述視覺裝置對待拍攝物體進行圖像采集；

所述計算裝置連接所述視覺裝置的輸出端，基于所述待拍攝物體的圖像獲取所述待拍攝部位的位置信息，并基于所述待拍攝物體與平板探測器的相對位置，確定所述平板探測器的曝光輻照射野；

所述平板探測器連接所述計算裝置，基于所述計算裝置確定的曝光輻照射野對所述待拍攝部位進行自動曝光控制；

所述高壓控制器連接于所述平板探測器的輸出端，用于控制所述高壓發生裝置產生高壓信號；

所述球管連接所述高壓發生裝置，基于所述高壓發生裝置發出的高壓信號產生X射線。

11.根據權利要求10所述的自動曝光控制系統，其特征在于：所述平板探測器還包括測量裝置；所述計算裝置連接所述視覺裝置及所述測量裝置的輸出端，從所述視覺裝置獲取所述待拍攝部位的形狀信息，從所述測量裝置獲取所述待拍攝部位的厚度信息，并基于所述待拍攝部位的形狀信息及厚度信息確定曝光劑量閾值。