[發明專利]面片細化方法、裝置、電子設備及存儲介質在審
| 申請號: | 202011535653.1 | 申請日: | 2020-12-23 |
| 公開(公告)號: | CN112598644A | 公開(公告)日: | 2021-04-02 |
| 發明(設計)人: | 陳海波;李宗劍 | 申請(專利權)人: | 深蘭人工智能芯片研究院(江蘇)有限公司 |
| 主分類號: | G06T7/00 | 分類號: | G06T7/00 |
| 代理公司: | 蘇州領躍知識產權代理有限公司 32370 | 代理人: | 王寧 |
| 地址: | 213000 江蘇省常州市武進*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 細化 方法 裝置 電子設備 存儲 介質 | ||
1.一種面片細化方法,其特征在于,所述方法包括:
獲取產品的點云輪廓數據;
根據所述產品的點云輪廓數據,獲取面片化處理后的點云輪廓數據,所述面片化處理后的點云輪廓數據包括多個面片的點云輪廓數據;
針對每個所述面片執行以下處理:
根據所述面片的點云輪廓數據,檢測所述面片的細化程度是否滿足預定條件;
當不滿足所述預定條件時,對所述面片進行插值處理,得到至少兩個新面片作為所述面片的細化結果。
2.根據權利要求1所述的面片細化方法,其特征在于,所述方法還包括:
當所述面片的細化程度滿足所述預定條件時,檢測下一個所述面片的細化程度是否滿足所述預定條件。
3.根據權利要求2所述的面片細化方法,其特征在于,所述檢測下一個所述面片的細化程度是否滿足所述預定條件,包括:
檢測所有所述面片是否均已完成檢測;
當存在未完成檢測的面片時,檢測下一個所述面片的細化程度是否滿足所述預定條件,所述下一個所述面片是所述未完成檢測的面片的其中一個。
4.根據權利要求1所述的面片細化方法,其特征在于,所述根據所述產品的點云輪廓數據,獲取面片化處理后的點云輪廓數據,包括:
根據所述產品的點云輪廓數據,獲取結構化的點云輪廓數據;
根據所述結構化的點云輪廓數據,獲取面片化處理后的點云輪廓數據。
5.根據權利要求1所述的面片細化方法,其特征在于,所述根據所述面片的點云輪廓數據,檢測所述面片的細化程度是否滿足預定條件,包括:
根據所述面片的點云輪廓數據,采用閾值管理的方式檢測所述面片的細化程度是否滿足預定條件。
6.根據權利要求1所述的面片細化方法,其特征在于,所述面片是多邊形面片;
所述對所述面片進行插值處理,得到至少兩個新面片作為所述面片的細化結果,包括:
對所述面片的每條邊分別進行多項式插值處理,得到每條所述邊對應的至少一個插值點;
根據所述面片的頂點和所述面片的所有邊對應的插值點,得到至少四個所述新面片作為所述面片的細化結果。
7.根據權利要求6所述的面片細化方法,其特征在于,所述面片是三角形面片;
所述對所述面片的每條邊分別進行多項式插值處理,得到每條所述邊對應的至少一個插值點,包括:
對所述面片的每條邊分別進行多項式插值處理,得到每條所述邊對應的一個所述插值點。
8.根據權利要求1所述的面片細化方法,其特征在于,所述對所述面片進行插值處理,得到至少兩個新面片作為所述面片的細化結果,包括:
對所述面片進行插值處理,得到至少兩個所述新面片;
針對每個所述新面片執行以下處理:
對所述新面片和所述新面片的每個相鄰新面片分別進行法線計算,得到所述新面片的法線信息以及每個所述相鄰新面片的法線信息;
根據所述新面片的法線信息以及每個所述相鄰新面片的法線信息,分別獲取所述新面片的法線和每個所述相鄰新面片的法線形成的銳角夾角;
檢測獲取到的所有所述銳角夾角是否均小于預定角度;
當所有所述銳角夾角均小于所述預定角度時,將所述至少兩個所述新面片作為所述面片的細化結果。
9.一種面片細化裝置,其特征在于,所述裝置包括:
數據獲取模塊,用于獲取產品的點云輪廓數據;
面片化處理模塊,用于根據所述產品的點云輪廓數據,獲取面片化處理后的點云輪廓數據,所述面片化處理后的點云輪廓數據包括多個面片的點云輪廓數據;
細化處理模塊,用于針對每個所述面片執行以下處理:根據所述面片的點云輪廓數據,檢測所述面片的細化程度是否滿足預定條件;當不滿足所述預定條件時,對所述面片進行插值處理,得到至少兩個新面片作為所述面片的細化結果。
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