[發明專利]顯影裝置及其應用方法、顯示面板在審
| 申請號: | 202011534501.X | 申請日: | 2020-12-23 |
| 公開(公告)號: | CN112631088A | 公開(公告)日: | 2021-04-09 |
| 發明(設計)人: | 楊威 | 申請(專利權)人: | TCL華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/30 | 分類號: | G03F7/30 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570 | 代理人: | 劉泳麟 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯影 裝置 及其 應用 方法 顯示 面板 | ||
本發明公開了一種顯影裝置及其應用方法、顯示面板,所述顯影裝置包括顯影腔室、補水機構、傳感器以及控制器,本發明的技術效果在于,增加補水機構與傳感器,傳感器感知當前環境的濕度值,反饋給控制器后,控制器控制電子開關進行開閉,來調節顯影腔室的濕度,保證在顯影過程中,環境的濕度值處于標準濕度范圍內,不會對顯影造成影響,改善顯影的成功率,保障采用所述顯影裝置制備所得的顯示面板的品質。
技術領域
本發明涉及顯示面板裝置領域,特別涉及一種顯影裝置及其應用方法、顯示面板。
背景技術
顯影(developing)是半導體集成電路光刻過程中的一項基本工藝,就是使用弱堿性溶液將圓片上曝光后不需要的光刻膠去除,只在圓片上留下需要的條、孔等電路圖形。顯影后形成的線寬分辨率、圖形線寬均勻性、顆粒和缺陷、顯影成本和時間等是評價顯影工藝的重要要素。
在顯影過程中,當前環境下的濕度值過低或過高時,則會導致在顯影過程中,出現顯影氣泡(TPDEB)或是顯影液回濺異常(TPDS0)的問題,如果攔檢不及時則會導致線寬變異,引起顯影產品特性不良,造成產品批量降級的狀況。同時,處理顯影腔室時需要長時間停機,且一次處理成功率也不高,需要多次處理,則會造成設備浪費。
發明內容
本發明的目的在于,解決現有的顯影裝置在顯影過程中環境濕度不穩定,造成所制得的顯示面板良率不高的技術問題。
為實現上述目的,本發明提供一種顯影裝置,包括:顯影腔室;補水機構,具有至少一補水管以及設于所述補水管上的電子開關,所述補水管連通至所述顯影腔室內;傳感器,安裝至所述顯影腔室的底部,所述傳感器用以獲取所述顯影腔室的濕度;以及控制器,所述傳感器和所述補水機構的電子開關分別連接至所述控制器,當所述控制器從所述傳感器獲取所得的所述顯影腔室的濕度低于第一預設值時,所述控制器控制所述電子開關打開,通過補水管向所述顯影腔室補水;當所述控制器從所述傳感器獲取所得的所述顯影腔室的濕度高于第二預設值時,所述控制器控制所述電子開關關閉,停止向所述顯影腔室補水。
進一步地,所述傳感器高出所述顯影腔室的底部3~8毫米。
進一步地,所述傳感器具有指示燈,當所述指示燈發出藍色光線時,所述控制器控制所述電子開關打開,通過所述補水管向所述顯影腔室補水;當所述指示燈發出紅色光線時,所述控制器控制所述電子開關關閉,停止向所述顯影腔室補水。
進一步地,所述顯影腔室具有一入口,所述補水管的出水口設于所述顯影腔室的入口的底部。
進一步地,所述第一預設值為所述顯影腔室初始濕度的95%。
進一步地,所述第二預設值為所述顯影腔室初始濕度的105%。
為實現上述目的,本發明還提供一種顯影裝置的應用方法,包括以下步驟:將一基板傳入至如前文所述的顯影裝置的顯影腔室內;通過傳感器檢測所述顯影腔室的濕度;通過控制器控制補水機構中的電子開關,當所述控制器從所述傳感器獲取所得的所述顯影腔室的濕度低于第一預設值時,所述控制器控制所述電子開關打開,通過補水管向所述顯影腔室補水;當所述控制器從所述傳感器獲取所得的所述顯影腔室的濕度高于第二預設值時,所述控制器控制所述電子開關關閉,停止向所述顯影腔室補水;以及對所述基板進行顯影處理。
進一步地,通過傳感器檢測所述顯影腔室的濕度包括以下步驟:當所述傳感器上的指示燈發出藍色光線時,所述控制器控制所述電子開關打開,通過所述補水管向所述顯影腔室補水;當所述傳感器上的指示燈發出紅色光線時,所述控制器控制所述電子開關關閉,停止向所述顯影腔室補水。
進一步地,所述第一預設值為所述顯影腔室初始濕度的95%;所述第二預設值為所述顯影腔室初始濕度的105%。
為實現上述目的,本發明還提供一種顯示面板,其由如前文所述的顯影裝置的應用方法制備而成。
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