[發明專利]封裝結構與封裝結構的制作方法在審
| 申請號: | 202011531062.7 | 申請日: | 2020-12-22 |
| 公開(公告)號: | CN113140660A | 公開(公告)日: | 2021-07-20 |
| 發明(設計)人: | 梁凱杰;邱國銘;鄭偉德;蔡杰廷 | 申請(專利權)人: | 光寶光電(常州)有限公司;光寶科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/48 | 分類號: | H01L33/48;H01L33/52;H01L33/62 |
| 代理公司: | 北京律和信知識產權代理事務所(普通合伙) 11446 | 代理人: | 張莎莎;謝清萍 |
| 地址: | 213123 江蘇省常州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 封裝 結構 制作方法 | ||
本申請公開一種封裝結構與封裝結構的制作方法。封裝結構包括基板、墻體、光電組件、內覆層以及外覆層。墻體設置在基板上,且墻體與基板之間形成一容置空間。光電組件設置在基板上。光電組件包括一P型接面層與一N型接面層,且P型接面層與N型接面層之間具有一間隙。內覆層設置在P型接面層與N型接面層之間的間隙中。外覆層是披覆在基板的上表面、墻體的內表面以及光電組件的外表面。
技術領域
本申請涉及一種封裝結構與封裝結構的制作方法,特別是涉及一種在PN接面之間具有內覆層的封裝結構與封裝結構的制作方法。
背景技術
目前,深紫外光發光二極管(UVC LED)封裝結構中,發光二極管的PN接面通常會裸露出來,造成PN接面之間的懸鍵產生,影響封裝結構的整體穩定性。此外,容易影響封裝結構的整體穩定性大多是采用其金錫(AuSn)作為固晶膠。金錫在封裝結構的工藝中雖然穩定,但卻有工藝溫度較高且熱傳導系數較低的缺點。然而,若以其他材料取代金錫,例銀材料,雖可解決金錫的缺點,但卻又會產生銀遷移現象(migration)而造成電路短路。
故,如何通過結構設計的改良,以減少懸鍵的產生,并且防止金屬遷移現象,來克服上述的缺陷,已成為該項事業所欲解決的重要課題之一。
發明內容
本申請所要解決的技術問題在于,針對現有技術的不足提供一種封裝結構,其包括基板、墻體、光電組件、內覆層以及外覆層。墻體設置在基板上,墻體與基板之間形成一容置空間。光電組件位于容置空間,光電組件設置在基板上,光電組件包括一P型接面層與一N型接面層,且P型接面層與N型接面層之間具有一間隙。內覆層設置在P型接面層與N型接面層之間的間隙中,內覆層覆蓋P型接面層與N型接面層的相對二內表面。外覆層設置在容置空間,外覆層是披覆在基板的上表面、墻體的內表面以及光電組件的外表面。
為了解決上述的技術問題,本申請所采用的其中一技術方案是提供一種封裝結構的制作方法,其包括:提供一載體,載體包括墻體與兩個金屬墊,墻體內部圍繞兩個金屬墊設置,且兩個金屬墊之間具有溝槽;將一固態填充材料填入溝槽;將一光電組件設置在兩個金屬墊上,光電組件包括P型接面層與N型接面層,P型接面層與N型接面層之間具有對應溝槽的一間隙;進行第一烘烤工藝,將填充材料由固態轉變為熔融態,形成一內覆層,內覆層覆蓋溝槽及間隙的表面;提供一第二填充材料填入墻體內部;進行一二烘烤工藝,使第二填充材料形成一外覆層,外覆層是披覆在基板的上表面、墻體的內表面以及光電組件的外表面。
本申請的其中一有益效果在于,本申請所提供的封裝結構,其能通過“內覆層覆蓋P型接面層與N型接面層的相對二內表面”以及“外覆層是披覆在基板的上表面、墻體的內表面以及光電組件的外表面”的技術方案,以減少懸鍵的產生,并且防止金屬遷移現象。
本申請的另一有益效果在于,本申請所提供的封裝結構的制作方法,其能通過“進行第一烘烤工藝,將填充材料由固態轉變為熔融態,形成一內覆層,內覆層覆蓋溝槽與間隙的表面”以及“進行一二烘烤工藝,使第二填充材料形成一外覆層,外覆層是披覆在基板的上表面、墻體的內表面以及光電組件的外表面”的技術方案,以減少懸鍵的產生,并且防止金屬遷移現象。
為使能更進一步了解本申請的特征及技術內容,請參閱以下有關本申請的詳細說明與附圖,然而所提供的附圖僅用于提供參考與說明,并非用來對本申請加以限制。
附圖說明
圖1為本申請的封裝結構的一實施態樣的示意圖。
圖2為圖1的封裝結構加上透鏡組件的示意圖。
圖3為本申請的封裝結構的另一實施態樣的示意圖。
圖4為圖1的封裝結構在形成時填充第一材料的的示意圖。
圖5為圖1的封裝結構在形成時設置光電組件的第一示意圖。
圖6為圖1的封裝結構在形成時設置光電組件的第二示意圖。
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