[發(fā)明專利]一種移印設備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011521384.3
• 申請日: 2020-12-21
• 公開（公告）號: CN112477401B
• 公開（公告）日: 2023-10-20
• 發(fā)明（設計）人: 黨金龍
• 申請（專利權）人: 四川銳坤電子技術有限公司
• 主分類號: B41F17/00
• 分類號: B41F17/00
• 代理公司: 成都魚爪智云知識產(chǎn)權代理有限公司 51308
• 代理人: 王珍

1.一種移印設備，其特征在于，包括機箱，以及設置在所述機箱內(nèi)的輸送組件、Flux涂覆組件、Flux刮平組件、Flux檢測組件和Flux浸蘸組件；

所述輸送組件包括直線電機，所述直線電機上設有與其滑動配合的浸蘸平臺，所述浸蘸平臺上設有浸蘸凹槽；

所述Flux涂覆組件包括罩設在所述直線電機上的涂覆架，所述涂覆架上設有用于向所述浸蘸凹槽注射Flux的注射管；

所述Flux刮平組件包括罩設在所述直線電機上的刮平架，所述刮平架上設有刮平結(jié)構，所述刮平結(jié)構用于所述浸蘸凹槽內(nèi)填充的Flux刮平；

所述Flux檢測組件包括罩設在所述直線電機上的檢測架，所述檢測架上設有激光測距儀，所述激光測距儀用于檢測所述浸蘸凹槽內(nèi)填充的Flux高度；

所述Flux浸蘸組件包括罩設在所述直線電機上的浸蘸架，所述浸蘸架上設有用于放置Wafer的浸蘸臺，所述浸蘸臺上設有夾持結(jié)構，所述夾持結(jié)構用于所述浸蘸臺上Wafer的夾持，所述浸蘸架上設有帶動浸蘸架縱向升降的伸縮結(jié)構，所述Flux涂覆組件、所述Flux刮平組件、所述Flux檢測組件和所述Flux浸蘸組件順次設置。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種移印設備，其特征在于，所述機箱包括下機柜，以及設置在所述下機柜上側(cè)的上機柜，所述輸送組件、Flux涂覆組件、Flux刮平組件、Flux檢測組件和Flux浸蘸組件均設置在所述上機柜內(nèi)。

3.根據(jù)權利要求2所述的一種移印設備，其特征在于，所述下機柜的下側(cè)設有行走機構，所述行走機構由多個萬向輪組成，所述輸送電機上設有數(shù)顯千分尺。

4.根據(jù)權利要求1所述的一種移印設備，其特征在于，所述涂覆架為L形，所述涂覆架的縱向部與所述機箱垂直連接，所述涂覆架的橫向部位于所述直線電機的上方，所述注射管與所述涂覆架的橫向部滑動配合。

5.根據(jù)權利要求4所述的一種移印設備，其特征在于，所述涂覆架的橫向部上設有與其滑動配合的滑動架，所述注射管設置在所述滑動架上，所述注射管與所述滑動架縱向滑動配合。

6.根據(jù)權利要求1所述的一種移印設備，其特征在于，所述刮平結(jié)構包括Flux刮刀，所述刮平架上設有帶動所述Flux刮刀縱向升降的氣缸。

7.根據(jù)權利要求6所述的一種移印設備，其特征在于，所述Flux刮刀的數(shù)量為兩個，兩個所述Flux刮刀對稱設置，兩個所述Flux刮刀均連接有氣缸。

8.根據(jù)權利要求1所述的一種移印設備，其特征在于，所述檢測架的下側(cè)相對設有調(diào)節(jié)平臺，所述激光測距儀與所述調(diào)節(jié)平臺滑動配合，所述調(diào)節(jié)平臺上的數(shù)量為兩個。

9.根據(jù)權利要求1所述的一種移印設備，其特征在于，所述夾持結(jié)構為氣動夾爪，所述氣動夾爪的數(shù)量為多個，所述伸縮結(jié)構為氣缸。

10.根據(jù)權利要求9所述的一種移印設備，其特征在于，所述浸蘸臺上設有多個不同尺寸的定位柱，所述浸蘸臺上設有與所述定位柱等數(shù)量的定位檢測器，多個所述定位檢測器分別與多個所述定位柱對應配合。