[發(fā)明專利]一種發(fā)光層及其制備方法和應(yīng)用

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011520919.5
• 申請(qǐng)日: 2020-12-21
• 公開（公告）號(hào): CN112652694A
• 公開（公告）日: 2021-04-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張志寬;高丹鵬;楊麗敏;徐冰;孫小衛(wèi)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳撲浪創(chuàng)新科技有限公司
• 主分類號(hào): H01L33/50
• 分類號(hào): H01L33/50;H01L33/44;H01L33/26;H01L33/00;H01L27/15
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 潘登

本發(fā)明涉及一種發(fā)光層及其制備方法和應(yīng)用，所述發(fā)光層包括藍(lán)光驅(qū)動(dòng)電路以及設(shè)置在所述藍(lán)光驅(qū)動(dòng)電路上的至少兩個(gè)顯示單元，所述顯示單元包括依次并排設(shè)置的綠光發(fā)光單元、紅光發(fā)光單元和藍(lán)光發(fā)光單元。其中，綠光發(fā)光單元由層疊設(shè)置的第一藍(lán)光光源層和綠光量子點(diǎn)沉積層組成，且第一藍(lán)光光源層靠近所述藍(lán)光驅(qū)動(dòng)電路。其中，紅光發(fā)光單元由層疊設(shè)置的第二藍(lán)光光源層和紅光量子點(diǎn)沉積層組成，且第二藍(lán)光光源層靠近所述藍(lán)光驅(qū)動(dòng)電路。所述發(fā)光層制備工藝簡(jiǎn)單、涂布效果好、色彩控制簡(jiǎn)單。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及LED顯示領(lǐng)域，尤其涉及一種發(fā)光層及其制備方法和應(yīng)用。

背景技術(shù)

現(xiàn)代社會(huì)中，顯示領(lǐng)域的發(fā)展也日益成為影響人們生活品質(zhì)的重要因素，因此對(duì)顯示器件的要求也越來(lái)越高，因此發(fā)光光譜非常窄、色度純高、顯示色域廣和可大幅超過(guò)NTSC的色域范圍的量子點(diǎn)材料作為新一代的發(fā)光材料在LED顯示領(lǐng)域嶄露頭角。

CN106920790A公開了一種全彩微顯示器件及其制備方法，該發(fā)明通過(guò)倒裝LED芯片陣列和量子點(diǎn)色轉(zhuǎn)換技術(shù)實(shí)現(xiàn)，即，由倒裝LED芯片激發(fā)量子點(diǎn)，分別產(chǎn)生紅綠藍(lán)三原色，發(fā)出紅綠藍(lán)光色的三個(gè)GaN基發(fā)光結(jié)構(gòu)組成一個(gè)像素，所述倒裝LED芯片是基于藍(lán)寶石襯底的LED芯片并且倒裝焊接到帶有驅(qū)動(dòng)電路的基板上，用于光色轉(zhuǎn)換的量子點(diǎn)填充于藍(lán)寶石襯底出光面的溝槽，填充量子點(diǎn)后覆蓋上保護(hù)材料。通過(guò)這種手段得到的顯示器件體積小、分辨率高、色彩控制簡(jiǎn)單，但是這種方法工藝放大性較低，產(chǎn)業(yè)化較難。

CN105388660A公開了一種COA型陣列基板的制備方法，該發(fā)明在電場(chǎng)作用下使導(dǎo)電材料和量子點(diǎn)能夠發(fā)生聚合，其中導(dǎo)電材料是摻雜有或未摻雜有石墨烯的PEDOT、PProDOT、PEDOT衍生物或PProDOT衍生物，量子點(diǎn)材料經(jīng)過(guò)含有羧基的ProDOT衍生物或EDOT衍生物修飾，然后用電化學(xué)沉積的方法在基板上形成包括紅色濾光層、綠色濾光層及藍(lán)色濾光層的量子點(diǎn)彩色濾光膜，該發(fā)明無(wú)需使用高溫工序，有效提高了量子點(diǎn)利用率，同時(shí)能夠節(jié)省兩到三次光刻工藝，從而降低成本、保護(hù)環(huán)境；且得到的量子點(diǎn)彩膜通過(guò)化學(xué)鍵與電極層連接，具有較高的連接強(qiáng)度，避免了光刻膠與基板連接強(qiáng)度不夠?qū)е碌膭兟涞炔涣嫉漠a(chǎn)生。但是該方法所得的顯示器件對(duì)設(shè)備能力和精度要求很高，難以實(shí)現(xiàn)像素級(jí)涂布。

因此，開發(fā)一種工藝簡(jiǎn)單、涂布效果好、色彩控制簡(jiǎn)單的發(fā)光層十分重要。

發(fā)明內(nèi)容

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明的目的在于提供一種發(fā)光層及其制備方法和應(yīng)用，所述發(fā)光層制備工藝簡(jiǎn)單、涂布效果好、色彩控制簡(jiǎn)單。

為達(dá)此目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：

第一方面，本發(fā)明提供一種發(fā)光層，所述發(fā)光層包括藍(lán)光驅(qū)動(dòng)電路以及設(shè)置在所述藍(lán)光驅(qū)動(dòng)電路上的至少兩個(gè)(例如5個(gè)、10個(gè)、15個(gè)等)顯示單元，所述顯示單元包括依次并排設(shè)置的綠光發(fā)光單元、紅光發(fā)光單元和藍(lán)光發(fā)光單元；

所述綠光發(fā)光單元由層疊設(shè)置的第一藍(lán)光光源層和綠光量子點(diǎn)沉積層組成，且所述第一藍(lán)光光源層靠近所述藍(lán)光驅(qū)動(dòng)電路；

所述紅光發(fā)光單元由層疊設(shè)置的第二藍(lán)光光源層和紅光量子點(diǎn)沉積層組成，且所述第二藍(lán)光光源層靠近所述藍(lán)光驅(qū)動(dòng)電路；

所述藍(lán)光發(fā)光單元為第三藍(lán)光光源層。

本發(fā)明所述發(fā)光層通過(guò)控制藍(lán)光光源的開啟、關(guān)閉、光源功率來(lái)激發(fā)紅光、綠光量子點(diǎn)沉積層，實(shí)現(xiàn)超高色域的全彩顯示。

優(yōu)選地，所述紅光量子點(diǎn)沉積層和綠光量子點(diǎn)沉積層各自獨(dú)立地呈線狀子像素條的形狀。

優(yōu)選地，所述子像素條的寬度為1-45μm，例如5μm、10μm、15μm、20μm、25μm、30μm、35μm、40μm、45μm等。

優(yōu)選地，所述量子點(diǎn)沉積基板包括透明絕緣基材和薄膜的組合，且所述薄膜靠近綠光量子點(diǎn)沉積層或紅光量子點(diǎn)沉積層。