[發明專利]內存設計方法、裝置、終端及存儲介質

有效

• 申請號: 202011519775.1
• 申請日: 2020-12-21
• 公開（公告）號: CN112560369B
• 公開（公告）日: 2023-06-27
• 發明（設計）人: 金葆暉;孫立洲
• 申請（專利權）人: 上海逸集晟網絡科技有限公司
• 主分類號: G06F30/323
• 分類號: G06F30/323
• 代理公司: 上海晨皓知識產權代理事務所(普通合伙) 31260
• 代理人: 成麗杰

1.一種內存設計方法，其特征在于，包括：

根據內存創建指令確定待設計內存的屬性信息；

根據篩選指令在第一區域中顯示預設的內存單元模塊；

根據所述屬性信息從所述第一區域中顯示的內存單元模塊進行選擇，生成一個或多個內存設計方案并顯示在第二區域中；其中，所述第二區域包括內存顯示區域，用于根據所述內存設計方案中各內存單元模塊的尺寸將所述內存單元模塊拼接并以矩形框的形式顯示；

根據內存生成指令拼接所述內存設計方案中的內存單元模塊，生成待設計內存的設計代碼；

所述屬性信息至少包括：內存類型、地址深度、端口寬度以及方向；

在所述根據篩選指令在第一區域中顯示預設的內存單元模塊之后，還包括：

當所述內存創建指令指示以自定義模式生成待設計內存時，根據所述內存創建指令在第三區域中顯示待設計內存的尺寸輪廓；

根據模板選取指令將被選取的內存單元模塊顯示在所述待設計內存的尺寸輪廓中；所述內存單元模塊在所述待設計內存的尺寸輪廓中顯示的大小根據所述內存單元模塊的寬度以及深度確定；

當所述待設計內存的尺寸輪廓中的區域分配完畢后，拼接所述第一區域顯示的內存單元模塊，生成所述待設計內存的設計代碼。

2.根據權利要求1所述的內存設計方法，其特征在于，所述根據內存生成指令拼接所述內存設計方案中內存單元模塊，生成待設計內存的設計代碼，包括：

根據所述內存創建指令確定所述待設計內存的主芯片的連線寬度和地址深度；

根據所述主芯片的連線寬度拼接所述第二區域中內存單元模塊的連線寬度；

根據所述主芯片的地址深度拼接所述第二區域中內存單元模塊的地址深度。

3.根據權利要求1所述的內存設計方法，其特征在于，所述根據篩選指令在第一區域中顯示預設的內存單元模塊，包括：

根據第一篩選指令對生成所述內存設計方案的可選內存單元模塊進行標記。

4.根據權利要求1所述的內存設計方法，其特征在于，在根據所述屬性信息從所述第一區域中顯示的內存單元模塊進行選擇，生成一個或多個內存設計方案并顯示在第二區域中之后，還包括：

根據模板選取指令確定替換的內存單元模塊并顯示待選擇的內存單元模塊；其中，所述待選擇的內存單元模塊小于或等于所述替換的內存單元模塊的尺寸。

5.根據權利要求1所述的內存設計方法，其特征在于，所述根據模板選取指令將被選取的內存單元模塊顯示在所述待設計內存的尺寸輪廓中，包括：

根據所述模板選取指令確定所述待設計內存的尺寸輪廓中被選擇區域的尺寸大小；

根據所述被選擇區域的尺寸大小確定待選取的內存單元模塊。

6.一種內存設計裝置，其特征在于，包括：

屬性確定模塊，用于根據內存創建指令確定待設計內存的屬性信息；

第一顯示模塊，用于根據篩選指令在第一區域中顯示預設的內存單元模塊；

第二顯示模塊，用于根據所述屬性信息從所述第一區域中顯示的內存單元模塊進行選擇，生成多個內存設計方案并顯示在第二區域中；其中，所述第二區域包括內存顯示區域，用于根據所述內存設計方案中各內存單元模塊的尺寸將所述內存單元模塊拼接并以矩形框的形式顯示；

代碼處理模塊，用于根據內存生成指令拼接所述內存設計方案中內存單元模塊，生成待設計內存的設計代碼；

所述屬性信息至少包括：內存類型、地址深度、端口寬度以及方向；

在所述第一顯示模塊根據篩選指令在第一區域中顯示預設的內存單元模塊之后，所述內存設計裝置用于：

當所述內存創建指令指示以自定義模式生成待設計內存時，根據所述內存創建指令在第三區域中顯示待設計內存的尺寸輪廓；

根據模板選取指令將被選取的內存單元模塊顯示在所述待設計內存的尺寸輪廓中；所述內存單元模塊在所述待設計內存的尺寸輪廓中顯示的大小根據所述內存單元模塊的寬度以及深度確定；

當所述待設計內存的尺寸輪廓中的區域分配完畢后，拼接所述第一區域顯示的內存單元模塊，生成所述待設計內存的設計代碼。