[發(fā)明專(zhuān)利]一種超大背板內(nèi)外層圖形的制作方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011509070.1
• 申請(qǐng)日: 2020-12-18
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112888175B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-03-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 樂(lè)祿安;宋建遠(yuǎn);戴勇
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 珠海崇達(dá)電路技術(shù)有限公司;深圳崇達(dá)多層線(xiàn)路板有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H05K3/06
• 分類(lèi)號(hào): H05K3/06
• 代理公司: 深圳市精英專(zhuān)利事務(wù)所 44242
• 代理人: 巫苑明

1.一種超大背板內(nèi)外層圖形的制作方法，將超大背板分為左邊的第一線(xiàn)路圖形區(qū)域、右邊的第二線(xiàn)路圖形區(qū)域以及位于第一線(xiàn)路圖形區(qū)域和第二線(xiàn)路圖形區(qū)域之間的線(xiàn)路交接區(qū)域，其特征在于，所述制作方法包括以下步驟：

S1、在超大背板上貼膜，而后通過(guò)曝光和顯影在第一線(xiàn)路圖形區(qū)域和線(xiàn)路交接區(qū)域分別形成第一線(xiàn)路圖形和第一交接線(xiàn)路圖形，且第一交接線(xiàn)路圖形的線(xiàn)寬大于設(shè)計(jì)所需的線(xiàn)寬，第二線(xiàn)路圖形區(qū)域處被膜整體覆蓋住；

S2、通過(guò)蝕刻在第一線(xiàn)路圖形區(qū)域和線(xiàn)路交接區(qū)域制作出第一線(xiàn)路和第一交接線(xiàn)路，再退膜；

S3、在超大背板上貼膜，而后通過(guò)曝光和顯影在第二線(xiàn)路圖形區(qū)域和線(xiàn)路交接區(qū)域分別形成第二線(xiàn)路圖形和第二交接線(xiàn)路圖形，第二交接線(xiàn)路圖形的線(xiàn)寬大于設(shè)計(jì)所需的線(xiàn)寬，且第二交接線(xiàn)路圖形的線(xiàn)寬≤第一交接線(xiàn)路圖形的線(xiàn)寬，第一線(xiàn)路圖形區(qū)域處被膜整體覆蓋住；

S4、通過(guò)蝕刻在第二線(xiàn)路圖形區(qū)域和線(xiàn)路交接區(qū)域制作出第二線(xiàn)路和第二交接線(xiàn)路，再退膜；

S5、在超大背板上貼膜，而后通過(guò)曝光和顯影在線(xiàn)路交接區(qū)域形成設(shè)計(jì)所需寬度的交接線(xiàn)路圖形，第一線(xiàn)路圖形區(qū)域和第二線(xiàn)路圖形區(qū)域處被膜整體覆蓋住；

S6、通過(guò)蝕刻在線(xiàn)路交接區(qū)域制作出交接線(xiàn)路，再退膜，所述第一線(xiàn)路、交接線(xiàn)路和第二線(xiàn)路構(gòu)成超大背板的線(xiàn)路。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超大背板內(nèi)外層圖形的制作方法，其特征在于，步驟S1中，第一交接線(xiàn)路圖形的線(xiàn)寬在設(shè)計(jì)所需寬度的基礎(chǔ)上預(yù)大8-10倍。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的超大背板內(nèi)外層圖形的制作方法，其特征在于，步驟S3中，第二交接線(xiàn)路圖形的線(xiàn)寬在設(shè)計(jì)所需寬度的基礎(chǔ)上預(yù)大6-8倍。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的超大背板內(nèi)外層圖形的制作方法，其特征在于，步驟S1之前還包括以下步驟：

S0、在第一線(xiàn)路圖形區(qū)域、第二線(xiàn)路圖形區(qū)域和線(xiàn)路交接區(qū)域中的同一板邊上均鉆出至少兩個(gè)靶孔。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的超大背板內(nèi)外層圖形的制作方法，其特征在于，步驟S0中，在線(xiàn)路交接區(qū)域的板邊鉆出三個(gè)呈等邊三角形的第一靶孔，并在第一線(xiàn)路圖形區(qū)域的板邊鉆出兩個(gè)與其中一個(gè)第一靶孔構(gòu)成等邊三角形的第二靶孔，在第二線(xiàn)路圖形區(qū)域的板邊鉆出兩個(gè)與其中一個(gè)第一靶孔構(gòu)成等邊三角形的第三靶孔。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的超大背板內(nèi)外層圖形的制作方法，其特征在于，步驟S1中，曝光時(shí)以三個(gè)第一靶孔和兩個(gè)第二靶孔作為對(duì)位孔。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的超大背板內(nèi)外層圖形的制作方法，其特征在于，步驟S3中，曝光時(shí)以三個(gè)第一靶孔和兩個(gè)第三靶孔作為對(duì)位孔。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的超大背板內(nèi)外層圖形的制作方法，其特征在于，步驟S5中，曝光時(shí)以三個(gè)第一靶孔作為對(duì)位孔。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超大背板內(nèi)外層圖形的制作方法，其特征在于，所述第一線(xiàn)路圖形區(qū)域和線(xiàn)路交接區(qū)域的尺寸之和以及第二線(xiàn)路圖形區(qū)域和線(xiàn)路交接區(qū)域的尺寸之和均≤曝光機(jī)的最大制作尺寸。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超大背板內(nèi)外層圖形的制作方法，其特征在于，步驟S1、S3和S5中，在超大背板上貼的膜均為干膜。