[發(fā)明專利]一種射頻器件量測系統(tǒng)及方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011507991.4
• 申請日: 2020-12-18
• 公開（公告）號: CN112698175A
• 公開（公告）日: 2021-04-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張棘勇;章景恒
• 申請（專利權(quán)）人: 武漢衍熙微器件有限公司
• 主分類號: G01R31/26
• 分類號: G01R31/26
• 代理公司: 深圳紫藤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 張曉薇

1.一種射頻器件量測系統(tǒng)，其特征在于，包括量測裝置、探針臺、數(shù)據(jù)存儲服務(wù)器以及數(shù)據(jù)處理服務(wù)器；

所述探針臺，用于依次連接晶圓上的多個晶粒；

所述量測裝置，用于在所述探針臺連接所述多個晶粒中的目標(biāo)晶粒時，獲取所述目標(biāo)晶粒的散射參數(shù)并傳輸至所述數(shù)據(jù)存儲服務(wù)器，并使探針臺連接下一個晶粒；

所述數(shù)據(jù)存儲服務(wù)器，用于存儲所述目標(biāo)晶粒的散射參數(shù)；

所述數(shù)據(jù)處理服務(wù)器，用于根據(jù)預(yù)設(shè)的量測參數(shù)，對所述數(shù)據(jù)存儲服務(wù)器中所述目標(biāo)晶粒的散射參數(shù)進(jìn)行處理，生成所述量測參數(shù)的參數(shù)數(shù)據(jù)。

2.如權(quán)利要求1所述的射頻器件量測系統(tǒng)，其特征在于，所述數(shù)據(jù)處理服務(wù)器，還用于根據(jù)預(yù)設(shè)的量測參數(shù)，從預(yù)設(shè)的策略池中選擇對應(yīng)的計算策略，以根據(jù)所述計算策略對所述目標(biāo)晶粒對應(yīng)的散射參數(shù)進(jìn)行計算，生成所述量測參數(shù)的參數(shù)數(shù)據(jù)。

3.如權(quán)利要求1所述的射頻器件量測系統(tǒng)，其特征在于，所述預(yù)設(shè)的量測參數(shù)包括由至少一個性能參數(shù)組成的性能參數(shù)集合，所述參數(shù)數(shù)據(jù)包括所述性能參數(shù)集合中每個性能參數(shù)對應(yīng)的量測值；

所述數(shù)據(jù)處理服務(wù)器，還用于根據(jù)每個性能參數(shù)，從數(shù)據(jù)存儲服務(wù)器中獲取相應(yīng)的散射參數(shù)，并對獲取的散射參數(shù)進(jìn)行處理，生成每個性能參數(shù)對應(yīng)的量測值；

所述數(shù)據(jù)存儲服務(wù)器，還用于存儲所述數(shù)據(jù)處理服務(wù)器生成的量測值。

4.如權(quán)利要求3所述的射頻器件量測系統(tǒng)，其特征在于，所述數(shù)據(jù)處理服務(wù)器，還用于將每個性能參數(shù)對應(yīng)的量測值與預(yù)設(shè)相對應(yīng)的目標(biāo)值范圍進(jìn)行比較，以判斷所述目標(biāo)晶粒是否合格；

當(dāng)每個性能參數(shù)對應(yīng)的量測值都分別在對應(yīng)的目標(biāo)值范圍內(nèi)時，生成判斷所述目標(biāo)晶粒合格的判斷結(jié)果；否則，生成判斷所述目標(biāo)晶粒不合格的判斷結(jié)果；

所述數(shù)據(jù)存儲服務(wù)器，還用于存儲所述數(shù)據(jù)處理服務(wù)器生成的判斷結(jié)果。

5.如權(quán)利要求3所述的射頻器件量測系統(tǒng)，其特征在于，所述數(shù)據(jù)處理服務(wù)器，還用于根據(jù)預(yù)設(shè)的工藝站點參數(shù)，從數(shù)據(jù)存儲服務(wù)器中獲取對應(yīng)性能參數(shù)的量測值，并對獲取的量測值進(jìn)行計算，將計算結(jié)果作為所述工藝站點所需的輸入數(shù)據(jù)。

6.如權(quán)利要求1-4任一項所述的射頻器件量測系統(tǒng)，其特征在于，所述數(shù)據(jù)處理服務(wù)器，還用于根據(jù)用戶對預(yù)設(shè)的量測參數(shù)的更改設(shè)置操作，對預(yù)設(shè)的量測參數(shù)進(jìn)行更改設(shè)置，并根據(jù)更改設(shè)置后的量測參數(shù)從所述數(shù)據(jù)存儲服務(wù)器中獲取目標(biāo)晶粒對應(yīng)的散射參數(shù)，以對獲取到的散射參數(shù)進(jìn)行計算，生成所述更改設(shè)置后的量測參數(shù)的參數(shù)數(shù)據(jù)。

7.如權(quán)利要求4所述的射頻器件量測系統(tǒng)，其特征在于，所述射頻器件量測系統(tǒng)，還包括數(shù)據(jù)展示平臺；

所述數(shù)據(jù)處理服務(wù)器，還用于將所述目標(biāo)晶粒的量測值和判斷結(jié)果傳輸至所述數(shù)據(jù)展示平臺；

所述數(shù)據(jù)展示平臺，用于將所述目標(biāo)晶粒的量測值和判斷結(jié)果進(jìn)行顯示。

8.如權(quán)利要求7所述的射頻器件量測系統(tǒng)，其特征在于，所述量測裝置為網(wǎng)絡(luò)分析儀；

所述網(wǎng)絡(luò)分析儀，還用于將目標(biāo)晶粒的散射參數(shù)以.SNP文件格式發(fā)送至所述數(shù)據(jù)存儲服務(wù)器。

9.如權(quán)利要求1所述的射頻器件量測系統(tǒng)，其特征在于，所述數(shù)據(jù)存儲服務(wù)器，還用于存儲所述量測裝置獲取的目標(biāo)晶粒所在的晶圓編號和所述目標(biāo)晶粒的位置坐標(biāo)；

所述數(shù)據(jù)展示平臺，還用于將所述目標(biāo)晶粒所在的晶圓編號和所述目標(biāo)晶粒的位置坐標(biāo)進(jìn)行顯示。

10.一種射頻器件量測方法，其特征在于，應(yīng)用于射頻器件量測系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括量測裝置、探針臺、數(shù)據(jù)存儲服務(wù)器以及數(shù)據(jù)處理服務(wù)器，所述方法包括以下步驟：

控制探針臺依次連接晶圓上的多個晶粒；

在所述探針臺連接所述多個晶粒中的目標(biāo)晶粒時，控制所述量測裝置獲取所述目標(biāo)晶粒的散射參數(shù)并傳輸至所述數(shù)據(jù)存儲服務(wù)器，并使探針臺連接下一個晶粒；

控制所述數(shù)據(jù)存儲服務(wù)器存儲所述目標(biāo)晶粒的散射參數(shù)；

控制所述數(shù)據(jù)處理服務(wù)器根據(jù)預(yù)設(shè)的量測參數(shù)，對所述數(shù)據(jù)存儲服務(wù)器中目標(biāo)晶粒的散射參數(shù)進(jìn)行處理，生成所述量測參數(shù)的參數(shù)數(shù)據(jù)。