[發明專利]具有透明工件表面模式的計量系統

有效

• 申請號: 202011504114.1
• 申請日: 2020-12-18
• 公開（公告）號: CN113008789B
• 公開（公告）日: 2022-05-10
• 發明（設計）人: R.K.布萊爾
• 申請（專利權）人: 株式會社三豐
• 主分類號: G01N21/01
• 分類號: G01N21/01;G01N21/88
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 邸萬奎

1.一種計量系統，包括：

光源；

透鏡，其輸入從被光源照射的工件的表面產生的圖像光，并沿著成像光路傳輸所述圖像光；

照相機，其接收沿著成像光路傳輸的圖像光并提供工件的圖像，其中，所述系統的聚焦位置被配置為在沿著Z高度方向靠近工件的聚焦范圍內的多個位置上可變；

一個或多個處理器；以及

耦合到所述一個或多個處理器并存儲程序指令的存儲器，當所述程序指令由所述一個或多個處理器執行時，使得所述一個或多個處理器至少：

獲取包括多個圖像的圖像堆棧，其中，所述圖像堆棧的每個圖像被獲取為對應于聚焦范圍內的不同Z高度，并且所述圖像堆棧的每個圖像包括工件的第一表面和工件的第二表面，第一表面是透明或半透明中的至少一個，第二表面通過第一表面至少部分可觀察；

基于所述圖像堆棧的圖像確定多個聚焦曲線；

對于每個聚焦曲線，確定對應于第一表面的第一局部聚焦峰以及對應于第二表面的第二局部聚焦峰；

顯示包括由用戶根據用于選擇第一表面或第二表面的選項來選擇的第一選擇表面的第一顯示圖像，其中第一選擇表面是以下各項中的一個：

第一選擇表面是第一表面，對于這種情況，基于第一局部聚焦峰而不基于第二局部聚焦峰，第一顯示圖像包括第一表面而不包括通過第一表面至少部分可觀察的第二表面；或者

第一選擇表面是通過第一表面至少部分可觀察的第二表面，對于這種情況，基于第二局部聚焦峰而不基于第一局部聚焦峰，第一顯示圖像包括第二表面而不包括第一表面。

2.根據權利要求1所述的系統，其中，獲取所述圖像堆棧包括將圖案投影到第一表面和第二表面上，這導致聚焦曲線中的至少一些局部聚焦峰比將在相同圖像獲取過程和條件但沒有投影圖案的情況下產生的局部聚焦峰高。

3.根據權利要求2所述的系統，其中，當所述程序指令由所述一個或多個處理器執行時，還使得所述一個或多個處理器在不利用所述圖案投影的情況下獲取第二圖像堆棧，并且對于第二圖像堆棧，第一局部聚焦峰被用于確定來自第二圖像堆棧的什么圖像數據對應于第一表面，其中，第一選擇表面是第一表面，并且來自第二圖像堆棧的對應于第一表面的圖像數據被用于顯示包括第一表面的第一顯示圖像。

4.根據權利要求1所述的系統，其中，第一顯示圖像是包括第一選擇表面的第一顯示二維2D擴展景深EDOF圖像。

5.根據權利要求4所述的系統，其中，當所述程序指令由所述一個或多個處理器執行時，還使得所述一個或多個處理器還基于與第一顯示2D EDOF圖像所基于的相同的局部聚焦峰來顯示包括第一選擇表面的第一顯示三維3D圖像。

6.根據權利要求1所述的系統，其中，第一顯示圖像是包括第一選擇表面的第一顯示3D圖像。

7.根據權利要求1所述的系統，其中，當所述程序指令由所述一個或多個處理器執行時，還使得所述一個或多個處理器基于應用于第一顯示圖像中的第一選擇表面的一個或多個視頻工具的操作來確定第一選擇表面上的兩個特征之間的尺寸。

8.根據權利要求7所述的系統，其中，所述一個或多個視頻工具包括尺寸測量工具、點工具、框工具、圓工具或弧工具中的至少一個。

9.根據權利要求1所述的系統，其中，當所述程序指令由所述一個或多個處理器執行時，還使得所述一個或多個處理器在不同時間顯示第二選擇表面的第二顯示圖像，第二選擇表面由用戶根據用于選擇第一表面或第二表面的選項來選擇，其中第二選擇表面是以下各項中的一個：

當第一選擇表面是第一表面時，第二選擇表面是第二表面，對于這種情況，基于第二局部聚焦峰而不基于第一局部聚焦峰，第二顯示圖像包括第二表面而不包括第一表面；

當第一選擇表面是第二表面時，第二選擇表面是第一表面，對于這種情況，基于第一局部聚焦峰而不基于第二局部聚焦峰，第二顯示圖像包括第一表面而不包括第二表面。