[發明專利]成膜裝置、使用其的成膜方法及電子器件的制造方法

有效

• 申請號: 202011503085.7
• 申請日: 2020-12-18
• 公開（公告）號: CN113005403B
• 公開（公告）日: 2023-06-20
• 發明（設計）人: 石井博;柏倉一史
• 申請（專利權）人: 佳能特機株式會社
• 主分類號: C23C14/12
• 分類號: C23C14/12;C23C14/24;C23C14/50;H10K71/16;H10K59/10
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 韓卉

本發明涉及成膜裝置、使用其的成膜方法及電子器件的制造方法。更有效地抑制向靜電吸盤吸附時的褶皺的產生。一種成膜裝置，經由掩模在基板上對成膜材料進行成膜，其中，成膜裝置包括：基板支承部，其配置于腔室內，支承所述基板的周緣部；基板吸附部件，其配置于所述腔室內的所述基板支承部的上方，用于吸附由所述基板支承部支承的所述基板；以及控制部，其控制所述基板支承部朝向所述基板吸附部件的升降，所述基板支承部包括支承所述基板的角的附近的第1支承部、第2支承部以及支承與第1支承部、第2支承部不同的部分的第3支承部，所述控制部對所述第1支承部至第3支承部獨立地進行升降控制。

技術領域

本發明涉及成膜裝置、使用該成膜裝置的成膜方法及電子器件的制造方法。

背景技術

在有機EL顯示裝置(有機EL顯示器)的制造中，在形成構成有機EL顯示裝置的有機發光元件(有機EL元件；OLED)時，將從成膜裝置的蒸發源蒸發的蒸鍍材料經由形成有像素圖案的掩模蒸鍍到基板上，從而形成有機物層、金屬層。

在向上蒸鍍方式(日文：デポアップ)的成膜裝置中，蒸發源設置在成膜裝置的真空容器的下部，基板配置在真空容器的上部，向基板的下表面進行蒸鍍。在這樣的向上蒸鍍方式的成膜裝置中，基板由基板保持件的支承部支承下表面的周緣，以避免對形成于作為成膜面的下表面的有機物層/電極層造成損傷。在該情況下，隨著基板的尺寸變大，未被基板保持件的支承部支承的基板的中央部會因基板的自重而撓曲，這成為降低蒸鍍精度的一個要因。對于向上蒸鍍方式之外的方式的成膜裝置，也有可能產生因基板的自重導致的撓曲。

作為用于減小因基板的自重導致的撓曲的方法，研究了使用靜電吸盤的技術。也就是說，在基板的上部設置靜電吸盤，使靜電吸盤吸附由基板保持件的支承部支承的基板的上表面，從而基板的中央部被靜電吸盤的靜電引力拉拽，能夠減小基板的撓曲。

發明內容

發明要解決的課題

但是，在這樣使用靜電吸盤從上方吸附基板的方式中，若要將基板的整個面同時吸附，則有時基板不會平坦地吸附于靜電吸盤，特別是在中央部產生褶皺。

也就是說，若在使由基板支承部支承的基板朝向靜電吸盤上升(或使靜電吸盤朝向基板下降)而使基板與靜電吸盤相互接近或接觸的狀態下，對靜電吸盤的整個面施加吸附電壓，則由支承部支承的基板的周緣部比撓曲的中央部先吸附于靜電吸盤，由此，基板中央部的撓曲未被充分排出，使得褶皺殘留。

雖然研究了用于抑制該向靜電吸盤吸附時的褶皺的產生的技術，但依然存在無法充分抑制褶皺的產生的課題。

因此，本發明鑒于上述的課題，目的在于更有效地抑制向靜電吸盤吸附時的褶皺的產生。

用于解決課題的手段

本發明的一實施方式的成膜裝置經由掩模在基板上對成膜材料進行成膜，其中，所述成膜裝置包括：基板支承部，其配置于腔室內，支承所述基板的周緣部；基板吸附部件，其配置于所述基板支承部的上方，用于吸附由所述基板支承部支承的所述基板；以及控制部，其控制所述基板支承部朝向所述基板吸附部件的升降，所述基板支承部至少包括：第1支承部，其支承所述基板的經由第1角相鄰的2個邊各自的所述第1角的附近；第2支承部，其支承所述基板的經由所述第1角的對角即第2角相鄰的2個邊各自的所述第2角的附近；以及第3支承部，其支承與所述第1支承部及所述第2支承部不同的部分，所述控制部對所述第1支承部至第3支承部獨立地進行升降控制。