[發明專利]柔性雙陽離子摻雜的CZTSSe太陽電池界面鈍化方法有效
| 申請號: | 202011502106.3 | 申請日: | 2020-12-17 |
| 公開(公告)號: | CN112490332B | 公開(公告)日: | 2022-07-22 |
| 發明(設計)人: | 程樹英;嚴瓊;鄧輝;孫全震;楊志遠;謝暐昊 | 申請(專利權)人: | 福州大學 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L31/032;H01L31/0216 |
| 代理公司: | 福州元創專利商標代理有限公司 35100 | 代理人: | 丘鴻超;蔡學俊 |
| 地址: | 350108 福建省福州市*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 柔性 陽離子 摻雜 cztsse 太陽電池 界面 鈍化 方法 | ||
1.一種柔性雙陽離子摻雜的CZTSSe太陽電池界面鈍化方法,其特征在于,在CZTSSe/CdS異質結界面形成Li摻雜,實現晶界處納米電場反轉,鈍化異質結界面缺陷,抑制載流子復合;在CZTSSe/Mo背接觸界面形成Ge摻雜,實現能帶調控,鈍化背接觸界面缺陷,抑制電子流向背接觸界面,減小界面復合;
在CZTSSe太陽電池中,吸收層為在兩側分別摻雜Li和Ge的CZTSSe薄膜,在CZTSSe/CdS異質結界面形成Li摻雜的濃度梯度,摻雜濃度從異質結界面到吸收層內部逐漸降低,在CZTSSe/Mo背接觸界面形成Ge摻雜的濃度梯度,摻雜濃度從背接觸界面到吸收層內部逐漸降低。
2.根據權利要求1所述的柔性雙陽離子摻雜的CZTSSe太陽電池界面鈍化方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)清洗柔性襯底并吹干備用;
(2)將單質Cu、Zn、Sn、S、Se和LiOH按比例混合后,加入到乙二胺和乙二硫醇中,加熱攪拌至溶液澄清,制備Li摻雜的CZTSSe前驅體溶液;將單質Cu、Zn、Sn、S、Se和Ge按比例混合后,加入到乙二胺和乙二硫醇中,加熱攪拌至溶液澄清,制備Ge摻雜的CZTSSe前驅體溶液;
(3)在步驟(2)制備的溶液中加入乙醇胺、巰基乙酸、乙二醇甲醚配成的穩定劑,加入穩定劑后加熱攪拌至溶解;
(4)在潔凈的柔性襯底上,利用旋涂法將步驟(3)制得的前驅體溶液分批旋涂并退火,退火溫度為250~350℃,制得預制層薄膜;
(5)將預制層薄膜放置于盛有硒顆粒的石墨盒中,放入充滿氬氣的快速熱退火硒化爐中,升溫到500~600℃,保持一定時間,自然冷卻后得到雙陽離子摻雜的CZTSSe薄膜;
(6)采用化學水浴法在步驟(5)所得的CZTSSe薄膜表面沉積CdS薄膜,作為緩沖層;
(7)采用濺射法在步驟(6)所得的緩沖層上沉積本征氧化鋅i-ZnO薄膜;
(8)采用濺射法在步驟(7)所得的i-ZnO薄膜上沉積摻銦氧化鋅ITO薄膜;
(9)在步驟(8)所得的ITO薄膜上覆蓋掩膜版,采用真空熱蒸發法沉積金屬銀電極。
3.根據權利要求2所述的柔性雙陽離子摻雜的CZTSSe太陽電池界面鈍化方法,其特征在于,所述步驟(1)中,所述柔性襯底為鉬箔、濺射了Mo薄膜的金屬箔或濺射了Mo薄膜的聚酰亞胺薄膜。
4.根據權利要求2所述的柔性雙陽離子摻雜的CZTSSe太陽電池界面鈍化方法,其特征在于,所述步驟(2)中,調整LiOH的加入量,制備不同Li摻雜濃度的CZTSSe前驅體溶液,其中Li/(Li+Cu)的摩爾百分比為0-12%;調整Ge的加入量,制備不同Ge摻雜濃度的CZTSSe前驅體溶液,其中Ge/(Ge+Sn)的摩爾百分比為0-12%,光學帶隙在0.9 eV到1.5 eV之間變化。
5.根據權利要求4所述的柔性雙陽離子摻雜的CZTSSe太陽電池界面鈍化方法,其特征在于,所述步驟(4)中,將前驅體溶液分批旋涂并退火的具體方法為:先分批旋涂并退火不同Ge摻雜濃度的前驅體溶液,Ge摻雜濃度梯度降低,再分批旋涂并退火不同Li摻雜濃度的前驅體溶液,Li摻雜濃度梯度增加;其中,梯度摻雜的CZTSSe薄膜的厚度通過旋涂層數來進行控制。
6.根據權利要求2所述的柔性雙陽離子摻雜的CZTSSe太陽電池界面鈍化方法,其特征在于,所述雙陽離子摻雜的CZTSSe薄膜為鋅黃錫礦結構,薄膜厚度為1~3μm。
7.根據權利要求2所述的柔性雙陽離子摻雜的CZTSSe太陽電池界面鈍化方法,其特征在于,所述步驟(6)中,CdS薄膜的厚度為40-80nm。
8.根據權利要求2所述的柔性雙陽離子摻雜的CZTSSe太陽電池界面鈍化方法,其特征在于,所述步驟(7)中,i-ZnO薄膜的厚度為30-60nm。
9.根據權利要求2所述的柔性雙陽離子摻雜的CZTSSe太陽電池界面鈍化方法,其特征在于,所述步驟(8)中,ITO薄膜的厚度為150-200nm。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





