[發明專利]具有不同正電荷的AIE光敏劑及其制備方法和抗菌應用在審
| 申請號： | 202011497174.5 | 申請日： | 2020-12-17 |
| 公開（公告）號： | CN112521381A | 公開（公告）日： | 2021-03-19 |
| 發明（設計）人： | 唐本忠;石秀娟;郭子健;宋海鵬 | 申請（專利權）人： | 香港科技大學 |
| 主分類號： | C07D417/04 | 分類號： | C07D417/04;C09K11/06;A61K41/00;A61P31/04;A61K49/00 |
| 代理公司： | 深圳市順天達專利商標代理有限公司 44217 | 代理人： | 郭偉剛 |
| 地址： | 中國香港*** | 國省代碼： | 香港;81 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 具有 不同 正電荷 aie 光敏劑 及其 制備 方法 抗菌 應用 | ||
【權利要求書】：
1.一種AIE光敏劑，其特征在于，所述AIE光敏劑包含以下結構：
其中，R選自-CH3、-CH2CH3或中的一種，X-選自I-、Br-、Cl-、或PF6-中的一種。
2.如權利要求1所述的AIE光敏劑，其特征在于，所述AIE光敏劑具有如下結構的TBP-1：
3.如權利要求1所述的AIE光敏劑，其特征在于，所述AIE光敏劑具有如下結構的TBP-2：
4.一種用于制備如權利要求1-3中任一項所述的AIE光敏劑的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括在乙腈溶劑中將
與XCH3,XCH2CH3或中的一種反應而得到所述AIE光敏劑，其中，X-選自I-、Br-、Cl-、或PF6-中的一種。
5.一種如權利要求1-3中任一項所述的AIE光敏劑在選擇性成像細菌方面的應用。
6.如權利要求5所述的應用，其特征在于，所述AIE光敏劑用于無清洗的細菌成像。
7.一種如權利要求1-3中任一項所述的AIE光敏劑在抗菌方面的應用。
8.如權利要求7所述的應用，其特征在于，所述AIE光敏劑在普通白光的照射下可以選擇性殺死細菌。
9.如權利要求7所述的應用，其特征在于，通過TBP-1在暗場抑制哺乳動物細胞內部的革蘭氏陽性菌的生長。
10.如權利要求7所述的應用，其特征在于，通過TBP-2在普通白光照射下抑制哺乳動物細胞內部的革蘭氏陰性菌的生長，在暗場抑制革蘭氏陽性菌的生長。
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