[發(fā)明專利]一種拋光液供給性能核準裝置和化學機械拋光系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011494774.6 | 申請日: | 2020-12-17 |
| 公開(公告)號: | CN112658970A | 公開(公告)日: | 2021-04-16 |
| 發(fā)明(設計)人: | 許振杰;梁清波 | 申請(專利權)人: | 華海清科股份有限公司 |
| 主分類號: | B24B37/005 | 分類號: | B24B37/005;B24B37/34;B24B49/00;B24B57/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 300350 天津市津*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 拋光 供給 性能 核準 裝置 化學 機械拋光 系統(tǒng) | ||
1.一種拋光液供給性能核準裝置,其特征在于,包括固定座、水平板和定位件,所述固定座可拆卸地設置于拋光盤的外周壁,所述水平板連接于所述固定座的頂部并朝向拋光盤的中心設置,所述定位件設置于固定座的側部并位于水平板的下部;所述定位件的內側壁為圓弧結構,所述圓弧結構的尺寸與拋光墊的外徑相匹配;所述水平板設置于拋光墊與拋光液供給臂之間,拋光液經由所述拋光液供給臂的端部滴落至所述水平板的頂面,水平板的頂面設置有刻度線以量測拋光液的滴落位置。
2.如權利要求1所述的拋光液供給性能核準裝置,其特征在于,所述定位件的圓弧結構與所述拋光盤同心設置。
3.如權利要求2所述的拋光液供給性能核準裝置,其特征在于,所述定位件的部分或全部位于所述拋光盤的上側,所述定位件位于所述拋光盤上側的高度大于所述拋光墊的厚度。
4.如權利要求1所述的拋光液供給性能核準裝置,其特征在于,所述水平板朝向拋光盤的端面的投影線與拋光盤的中心點重合,所述刻度線為圓弧線,所述圓弧線的圓心與所述拋光盤或拋光墊的中心重合。
5.如權利要求1所述的拋光液供給性能核準裝置,其特征在于,還包括顯示試紙,其設置于所述水平板的頂面,拋光液滴落至顯示試紙后,所述顯示試紙的顏色發(fā)生改變。
6.如權利要求5所述的拋光液供給性能核準裝置,其特征在于,所述顯示試紙與拋光液匹配設置,其粘接于所述水平板的頂面。
7.如權利要求1所述的拋光液供給性能核準裝置,其特征在于,所述水平板平行于所述拋光墊設置,所述水平板的底面與拋光墊的頂面之間的間距為5mm-10mm。
8.如權利要求1所述的拋光液供給性能核準裝置,其特征在于,所述固定座、水平板和定位件由非金屬材料制成。
9.如權利要求8所述的拋光液供給性能核準裝置,其特征在于,所述水平板和定位件由聚苯硫醚制成。
10.一種化學機械拋光系統(tǒng),其特征在于,包括權利要求1至9任一項所述的拋光液供給性能核準裝置。
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