[發(fā)明專利]復(fù)合材料X射線測(cè)試的標(biāo)準(zhǔn)尺寸樣品制備方法及測(cè)試方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011491655.5
• 申請(qǐng)日: 2020-12-16
• 公開（公告）號(hào): CN113418949A
• 公開（公告）日: 2021-09-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 紀(jì)福征;王雪明;崔郁;安學(xué)峰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中航復(fù)合材料有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): G01N23/2251
• 分類號(hào): G01N23/2251;G01N23/2202
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種復(fù)合材料X射線測(cè)試的標(biāo)準(zhǔn)尺寸樣品的制備方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：

選取設(shè)定直徑的玻璃微珠鑲嵌在充滿環(huán)氧樹脂的樣品槽內(nèi)，固化成為標(biāo)準(zhǔn)尺寸樣品；

采用所述設(shè)定直徑的玻璃微珠，粘接到導(dǎo)電碳膠帶上，放在離子濺射儀內(nèi)噴金處理設(shè)定時(shí)間，成為SEM樣品，粘接到小樣品臺(tái)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合材料X射線測(cè)試的標(biāo)準(zhǔn)尺寸樣品的制備方法，其特征在于，所述設(shè)定直徑的玻璃微珠的粒徑為10-500μm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合材料X射線測(cè)試的標(biāo)準(zhǔn)尺寸樣品的制備方法，其特征在于，所述設(shè)定時(shí)間為1-2min。

4.一種復(fù)合材料X射線測(cè)試的標(biāo)準(zhǔn)尺寸樣品的測(cè)試方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：

利用X射線三維顯微鏡測(cè)量鑲嵌在環(huán)氧樹脂樣品中的玻璃微珠的尺寸；

利用場(chǎng)發(fā)射環(huán)境電子顯微鏡測(cè)量噴金處理后的玻璃微珠的尺寸；

通過對(duì)比所述玻璃微珠、所述噴金處理后的玻璃微珠的尺寸，確定所述環(huán)氧樹脂樣品為標(biāo)準(zhǔn)尺寸樣品。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的復(fù)合材料X射線測(cè)試的標(biāo)準(zhǔn)尺寸樣品的測(cè)試方法，其特征在于，所述利用X射線三維顯微鏡測(cè)量鑲嵌在環(huán)氧樹脂樣品中的玻璃微珠的尺寸，具體包括如下步驟：

將鑲嵌在所述環(huán)氧樹脂樣品中的所述玻璃微珠粘接在十字式樣品臺(tái)的頂端，放入高襯度X射線三維顯微鏡樣品臺(tái)固定；

選取設(shè)定測(cè)試電壓、設(shè)定電流、設(shè)定曝光時(shí)間、設(shè)定穿透率及設(shè)定圖像分辨率，測(cè)量所述玻璃微珠的直徑，截取保存測(cè)量的圖像。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的復(fù)合材料X射線測(cè)試的標(biāo)準(zhǔn)尺寸樣品的測(cè)試方法，其特征在于，所述設(shè)定測(cè)試電壓為140KV，所述設(shè)定電流為70μA，所述設(shè)定曝光時(shí)間為5s、所述設(shè)定穿透率為50％，所述設(shè)定圖像分辨率為0.5μm。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的復(fù)合材料X射線測(cè)試的標(biāo)準(zhǔn)尺寸樣品的測(cè)試方法，其特征在于，所述利用場(chǎng)發(fā)射環(huán)境電子顯微鏡測(cè)量噴金處理后的玻璃微珠的尺寸，具體包括如下步驟：

將噴金處理后的玻璃微珠放入所述場(chǎng)發(fā)射環(huán)境電子顯微鏡，在高真空模式下，選擇設(shè)定電壓及設(shè)定電子束流；

當(dāng)圖像的清晰度達(dá)到設(shè)定條件時(shí)，測(cè)量所述噴金處理后的玻璃微珠的直徑，并保存測(cè)量的SEM圖像。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的復(fù)合材料X射線測(cè)試的標(biāo)準(zhǔn)尺寸樣品的測(cè)試方法，其特征在于，所述設(shè)定電壓為10KV，所述設(shè)定電子束流為3.5pA。

9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的復(fù)合材料X射線測(cè)試的標(biāo)準(zhǔn)尺寸樣品的測(cè)試方法，其特征在于，對(duì)所述玻璃微珠、所述噴金處理后的玻璃微珠的尺寸至少進(jìn)行三次測(cè)量。