[發(fā)明專利]用于處理電路版圖的方法、設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011491209.4 | 申請(qǐng)日: | 2020-12-16 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112580296A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-03-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 不公告發(fā)明人 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 全芯智造技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G06F30/398 | 分類號(hào): | G06F30/398 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 黃倩 |
| 地址: | 230088 安徽省合肥市高新區(qū)*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 處理 電路 版圖 方法 設(shè)備 存儲(chǔ) 介質(zhì) | ||
1.一種處理電路版圖的方法,包括:
生成用于對(duì)電路版圖執(zhí)行設(shè)計(jì)規(guī)則檢查的多個(gè)子作業(yè),其中每個(gè)子作業(yè)對(duì)應(yīng)于所述電路版圖的一個(gè)版圖單元,并且至少指定要對(duì)所述版圖單元執(zhí)行設(shè)計(jì)規(guī)則檢查的一個(gè)或多個(gè)操作;
基于多個(gè)處理設(shè)備的配置信息和所述一個(gè)或多個(gè)操作的復(fù)雜度,將所述多個(gè)子作業(yè)分配給所述多個(gè)處理設(shè)備,所述多個(gè)處理設(shè)備中的至少一個(gè)處理設(shè)備被配置有加速處理資源;以及
基于所述多個(gè)處理設(shè)備對(duì)所述多個(gè)子作業(yè)處理的結(jié)果,確定對(duì)所述電路版圖執(zhí)行設(shè)計(jì)規(guī)則檢查的檢查結(jié)果。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述復(fù)雜度取決于所述一個(gè)或多個(gè)操作是否涉及對(duì)所述版圖單元中的幾何圖形的相對(duì)位置的處理。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中基于多個(gè)處理設(shè)備的所述配置信息和所述一個(gè)或多個(gè)操作的復(fù)雜度,將所述多個(gè)子作業(yè)分配給所述多個(gè)處理設(shè)備包括:
基于所述多個(gè)處理設(shè)備的所述配置信息,從所述多個(gè)處理設(shè)備中確定多對(duì)處理設(shè)備,每對(duì)處理設(shè)備包括未被配置有所述加速處理資源的第一處理設(shè)備和被配置有所述加速處理資源的第二處理設(shè)備;以及
如果所述一個(gè)或多個(gè)操作包括第一操作和復(fù)雜度高于所述第一操作的第二操作,其中所述第一操作不涉及對(duì)所述相對(duì)位置的處理并且所述第二操作涉及對(duì)所述相對(duì)位置的處理,則將所述每個(gè)子作業(yè)分配給所述多對(duì)處理設(shè)備中的相應(yīng)的一對(duì)處理設(shè)備,使得所述第一操作由所述第一處理設(shè)備執(zhí)行,并且所述第二操作由所述第二處理設(shè)備執(zhí)行。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法,其中基于多個(gè)處理設(shè)備的所述配置信息和所述一個(gè)或多個(gè)操作的復(fù)雜度,將所述多個(gè)子作業(yè)分配給所述多個(gè)處理設(shè)備包括:
基于所述多個(gè)處理設(shè)備的所述配置信息,從所述多個(gè)處理設(shè)備中確定第一組處理設(shè)備和第二組處理設(shè)備,所述第一組處理設(shè)備為未被配置有所述加速處理資源的一組處理設(shè)備,所述第二組處理設(shè)備為被配置有所述加速處理資源的一組處理設(shè)備;
如果所述多個(gè)子作業(yè)中的第一組子作業(yè)包括第一操作且不包括復(fù)雜度高于所述第一操作的第二操作,其中所述第一操作不涉及對(duì)所述相對(duì)位置的處理并且所述第二操作涉及對(duì)所述相對(duì)位置的處理,則將所述第一組子作業(yè)分配給所述第一組處理設(shè)備;以及
如果所述多個(gè)子作業(yè)中的第二組子作業(yè)包括所述第二操作而不包括所述第一操作,則將所述第二組子作業(yè)分配給所述第二組處理設(shè)備。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其中第一版圖單元的尺寸不同于第二版圖單元的尺寸,所述第一版圖單元為與所述第一組子作業(yè)中的每個(gè)子作業(yè)相對(duì)應(yīng)的版圖單元,并且所述第二版圖單元為與所述第二組子作業(yè)中的每個(gè)作業(yè)相對(duì)應(yīng)的版圖單元。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述每個(gè)子作業(yè)還指定圖案搜索操作,所述圖案搜索操作用于從所述版圖單元確定多個(gè)圖案,每個(gè)圖案包括所述版圖單元的至少一個(gè)幾何圖形,并且生成所述多個(gè)子作業(yè)包括:
將所述每個(gè)子作業(yè)設(shè)置為對(duì)通過(guò)所述圖案搜索操作而確定的所述多個(gè)圖案執(zhí)行所述一個(gè)或多個(gè)操作。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其中所述每個(gè)子作業(yè)還指定圖案分類操作,所述圖案分類操作用于從所述多個(gè)圖案中確定屬于相同類型的一組圖案并且從所述一組圖案中選擇參考圖案,并且將所述每個(gè)子作業(yè)設(shè)置為對(duì)所述多個(gè)圖案執(zhí)行所述一個(gè)或多個(gè)操作包括:
將所述每個(gè)子作業(yè)設(shè)置為:
對(duì)所述參考圖案執(zhí)行所述一個(gè)或多個(gè)操作,以獲得對(duì)所述參考圖案的檢查結(jié)果;并且
通過(guò)將所述檢查結(jié)果應(yīng)用于所述一組圖案中除所述參考圖案之外的其余圖案,對(duì)所述其余圖案執(zhí)行所述一個(gè)或多個(gè)操作。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述一個(gè)或多個(gè)操作包括以下至少一項(xiàng):
針對(duì)所述版圖單元中的一組幾何圖形的偏置操作,
用于組合所述版圖單元中的幾何圖形的組合操作,
用于改變所述相對(duì)位置的幾何圖形移位操作,或
用于改變所述相對(duì)位置的幾何圖形邊緣移動(dòng)操作。
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