[發明專利]一種光刻機靜電消除裝置

在審

• 申請號: 202011488399.4
• 申請日: 2020-12-16
• 公開（公告）號: CN112490166A
• 公開（公告）日: 2021-03-12
• 發明（設計）人: 鐘敏
• 申請（專利權）人: 上海圖雙精密裝備有限公司
• 主分類號: H01L21/677
• 分類號: H01L21/677;H01L21/027;H05F3/00
• 代理公司: 上海申新律師事務所 31272
• 代理人: 黨蕾

本發明公開了一種光刻機靜電消除裝置，屬于半導體靜電消除領域，應用于晶圓傳輸過程中去除晶圓表面的靜電，包括：預對準機構，預對準機構具有一預對準臺；傳輸通道，傳輸通道內設有一導軌，導軌的一端固定連接于預對準臺的一側；晶圓傳輸載臺，晶圓傳輸載臺設置于導軌上，用于放置晶圓，并沿著導軌的方向傳輸；工作臺，設置于傳輸通道的上方；靜電消除裝置，固定設置于工作臺上，且位于傳輸通道的下方。本技術方案具有如下優點或有益效果：通過將靜電消除裝置設置于光刻機的工作臺上，且靜電消除裝置位于晶圓傳輸載臺的上方，在晶圓傳輸過程中，去除晶圓表面的靜電，避免忘記去除靜電，導致晶圓表面損壞，以提高晶圓的成品率。

技術領域

本發明涉及半導體靜電消除領域，尤其涉及一種光刻機靜電消除裝置。

背景技術

光刻是半導體集成電路制造的常用工藝。光刻工藝過程中，顯影劑等化學溶劑或者清洗時的純水與旋轉的晶圓表面發生摩擦時，會產生靜電放電現象，使得電荷積聚并遺留在半導體晶圓的表面，后續濕法工藝中引起局部強烈的電化學反應，在晶圓表面造成損傷，從而導致成品率降低或者可靠性風險。

現有技術中通常是在晶圓進入傳輸通道之前，退出傳輸通道之后采用靜電消除裝置消除晶圓表面的靜電，這種方法需要依賴于操作人員按照規范操作，可能會由于疏忽而導致發生危險，因此亟需提出一種光刻機靜電消除裝置，來克服現有技術中出現的上述問題。

發明內容

針對現有技術中存在的上述問題，現提供一種光刻機靜電消除裝置，具體技術方案如下所示：

一種光刻機靜電消除裝置，應用于晶圓傳輸過程中去除所述晶圓表面的靜電，包括：

一預對準機構，所述預對準機構具有一預對準臺，用于對所述晶圓進行預對準；

一傳輸通道，所述傳輸通道內設有一導軌，所述導軌的一端固定連接于所述預對準臺的一側；

一晶圓傳輸載臺，所述晶圓傳輸載臺設置于所述導軌上，用于放置所述晶圓，并沿著所述導軌的方向傳輸；

一工作臺，設置于所述傳輸通道的上方；

一靜電消除裝置，固定設置于所述工作臺上，且位于所述傳輸通道的下方，于所述晶圓沿著所述導軌傳輸時，消除所述晶圓表面的靜電。

優選地，所述靜電消除裝置包括一固定支架和離子棒，所述離子棒固定安裝于所述固定支架上。

優選地，所述固定支架呈L形。

優選地，所述固定支架上設有多個呈間隔分布的安裝孔，所述離子棒固定安裝于所述安裝孔中。

優選地，所述離子棒包括離子針和銅管，所述離子針鑲嵌入所述銅管內；

所述離子針上設有多個孔洞，所述孔洞均勻分布在所述離子針上。

優選地，所述孔洞面向所述固定支架設置。

優選地，所述靜電消除裝置設置于所述工作臺的上表面，或嵌入于所述工作臺的容納腔中。

優選地，所述靜電消除裝置采用靜電消除器實現。

優選地，所述靜電消除裝置設有2個，2個所述靜電消除裝置間隔設置于所述傳輸通道的正上方。

優選地，所述靜電消除裝置與所述晶圓相隔一預設距離。

本技術方案具有如下優點或有益效果：

本發明通過將靜電消除裝置設置于光刻機的工作臺上，且靜電消除裝置位于晶圓傳輸載臺的上方，在晶圓傳輸過程中，去除晶圓表面的靜電，避免忘記去除靜電，導致晶圓表面損壞，以提高晶圓的成品率。

附圖說明

圖1為本發明一種光刻機靜電消除裝置的結構示意圖；