[發明專利]細外徑磁控旋轉陰極及用于提高沉積速率的方法

在審

• 申請號: 202011487268.4
• 申請日: 2020-12-16
• 公開（公告）號: CN112553586A
• 公開（公告）日: 2021-03-26
• 發明（設計）人: 宋光耀;田修波;李建偉
• 申請（專利權）人: 松山湖材料實驗室
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/16
• 代理公司: 深圳市千納專利代理有限公司 44218
• 代理人: 陳培瓊

1.一種細外徑磁控旋轉陰極，其包括靶管，其特征在于：其還包括設置在靶管內的靶芯，該靶芯包括磁芯座和磁鐵，所述磁芯座上偏心設有水道孔，該水道孔的回水口位于所述磁芯座的下端位置，若干磁鐵分布在所述磁芯座的外壁上。

2.根據權利要求1所述的細外徑磁控旋轉陰極，其特征在于，所述磁芯座的外壁上設有用來安裝所述磁鐵的裝配槽。

3.根據權利要求2所述的細外徑磁控旋轉陰極，其特征在于，所述裝配槽的開口兩側設有方便取放所述磁鐵的缺口。

4.根據權利要求3所述的細外徑磁控旋轉陰極，其特征在于，所述缺口的寬度為1～2mm。

5.根據權利要求1所述的細外徑磁控旋轉陰極，其特征在于，直接在所述磁芯座上軸向開孔形成所述水道孔，該水道孔與磁芯座為一體結構。

6.根據權利要求1所述的細外徑磁控旋轉陰極，其特征在于，所述磁芯座的外壁上設有固置凹位，在該固置凹位上固置有金屬空心管形成所述水道孔，該金屬空心管與磁芯座為分體結構。

7.根據權利要求1所述的細外徑磁控旋轉陰極，其特征在于，所述水道孔的內孔壁與磁芯座的外壁之間距離為1.5～2mm。

8.根據權利要求1所述的細外徑磁控旋轉陰極，其特征在于，所述靶管的外徑≤25mm。

9.根據權利要求1所述的細外徑磁控旋轉陰極，其特征在于，所述靶管上端通過固定套安裝在靶管旋轉軸上，所述靶管的下端設有密封蓋，該密封蓋的中心位置設有限位軸承，該限位軸承上設有磁芯旋轉軸，該磁芯旋轉軸的上端與所述磁芯座的下端相固定，所述磁芯座的上端與中空連接件相連接，該中空連接件上軸向設有與所述水道孔相連通的過水孔。

10.一種應用權利要求1-9任意一項所述的細外徑磁控旋轉陰極來提高沉積速率的方法，其特征在于，磁控濺射鍍膜設備采用權利要求1-9任意一項所述的細外徑磁控旋轉陰極來作為陰極；靶材為Ti，基片采用金屬不銹鋼片，靶基距設為97.5mm，以1m/min作直線運動；鍍膜所使用氣體為Ar，壓力設為5.0E-1Pa，陰極使用的功率為10kW。