[發(fā)明專利]一種光刻膠去膠液及其制備方法和應(yīng)用

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• 申請日: 2020-12-16
• 公開（公告）號: CN112540515A
• 公開（公告）日: 2021-03-23
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 梁豹;方磊;杜冰;劉文永;邱柱;劉偉;張茂;張兵;趙建龍;向文勝;朱坤;陸蘭
• 申請（專利權(quán)）人: 江蘇艾森半導(dǎo)體材料股份有限公司
• 主分類號: G03F7/32
• 分類號: G03F7/32
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 鞏克棟

1.一種光刻膠去膠液，其特征在于，所述光刻膠去膠液以重量份數(shù)計包括氫氧化季銨0.5-10份、有機(jī)溶劑65-85份、有機(jī)醇胺1-20份、有機(jī)醇0.1-5份、金屬保護(hù)劑0.01-5份和阻蝕劑0.1-5份。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻膠去膠液，其特征在于，所述光刻膠去膠液以重量份數(shù)計包括氫氧化季銨2-8份、有機(jī)溶劑70-80份、有機(jī)醇胺5-15份、有機(jī)醇1-4份、金屬保護(hù)劑1-4份和阻蝕劑1-4份。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光刻膠去膠液，其特征在于，所述氫氧化季銨包括四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨、乙基三甲基氫氧化銨、二乙基二甲基氫氧化銨、甲基三丙基氫氧化銨、丁基三甲基氫氧化銨、甲基三丁基氫氧化銨、(2-羥基乙基)三甲基氫氧化銨、(2-羥基乙基)三乙基氫氧化銨、(3-羥基丙基)三乙基氫氧化銨、氫氧化四乙醇銨、苯基三甲基氫氧化銨或苯甲基三甲基氫氧化銨中任意一種或至少兩種的組合，優(yōu)選四甲基氫氧化銨和四丙基氫氧化銨的組合。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項(xiàng)所述的光刻膠去膠液，其特征在于，所述有機(jī)溶劑包括N-甲基吡咯烷酮、二甲基亞砜、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、乙二醇單丁醚、乙二醇單甲醚、丙二醇單丁醚、二乙二醇單甲醚或二乙二醇單丁醚中任意一種或至少兩種的組合，優(yōu)選二甲基亞砜。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項(xiàng)所述的光刻膠去膠液，其特征在于，所述有機(jī)醇胺包括單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺或二甘醇胺中任意一種或至少兩種的組合。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項(xiàng)所述的光刻膠去膠液，其特征在于，所述有機(jī)醇包括一元醇、二元醇或三元醇中任意一種或至少兩種的組合，優(yōu)選二元醇；

優(yōu)選地，所述一元醇包括乙醇、異丙醇或3-甲基-3-甲氧基-1-丁醇中任意一種或至少兩種的組合；

優(yōu)選地，所述二元醇包括乙二醇和/或丙二醇；

優(yōu)選地，所述三元醇包括丙三醇。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的光刻膠去膠液，其特征在于，所述金屬保護(hù)劑包括有機(jī)硅烷類化合物，所述有機(jī)硅烷類化合物包括3-氨丙基三甲氧基硅烷、(3-氨丙基)三乙氧基硅烷、二乙烯三胺基丙基三甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、正辛基三甲氧基硅烷、正癸基三甲氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-氨丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-巰丙基三甲氧基硅烷或γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷中任意一種或至少兩種的組合，優(yōu)選3-氨丙基三甲氧基硅烷。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的光刻膠去膠液，其特征在于，所述阻蝕劑包括苯并三氮唑、苯并咪唑、3-氨基-1,2,4-三唑、5-苯基四唑、5-氨基-1H-四唑、咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑、2-巰基苯并咪唑、2-巰基苯并噻唑、2,5-二巰基噻二唑、N,N-二乙基羥胺、半胱氨酸、氨基硫脲、N,N-二苯基硫脲、2-硫脲嘧啶、硅酸乙酯、8-羥基喹啉、8-羥基異喹啉、硫代蘋果酸、沒食子酸、植酸或兒茶酚中任意一種或至少兩種的組合，優(yōu)選苯并三氮唑和苯并咪唑的組合。

9.一種根據(jù)權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述的光刻膠去膠液的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括以下步驟：將氫氧化季銨、有機(jī)醇胺、有機(jī)醇、金屬保護(hù)劑和阻蝕劑溶于有機(jī)溶劑中，得到所述光刻膠去膠液。

10.一種根據(jù)權(quán)利要求1-8中任一項(xiàng)所述的光刻膠去膠液在半導(dǎo)體封裝或晶圓制造中的應(yīng)用。