[發明專利]一種斷孔制作工藝在審
| 申請號: | 202011483601.4 | 申請日: | 2020-12-15 |
| 公開(公告)號: | CN112752446A | 公開(公告)日: | 2021-05-04 |
| 發明(設計)人: | 彭攀;李德英 | 申請(專利權)人: | 廣州添利電子科技有限公司 |
| 主分類號: | H05K3/46 | 分類號: | H05K3/46;H05K3/42 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 510000 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 制作 工藝 | ||
1.一種斷孔制作工藝,其特征在于:工藝設計:包括內層圖形制作和外層制作;
內層圖形制作:芯板圖形制作,包括干膜圖形、蝕刻和褪膜;芯板圖形蓋樹脂處理,包括芯板鐳射和涂抗電鍍材料;疊板壓板;
外層制作:鉆孔和孔金屬化外層圖形。
2.根據權利要求1所述的一種斷孔制作工藝,其特征在于:制作流程:
內層圖形制作:
S1、覆銅芯板間過電孔需隔斷時:將干膜貼附在覆銅芯板兩側;在干膜上制作干膜圖形;蝕刻未被干膜保護區域;褪除干膜得到內層圖形;在內層圖形上印抗電鍍材料;
S2、覆銅芯板上下層間過電孔需隔斷時:在覆銅芯板上鐳射鉆孔;在鐳射孔內填充抗電鍍材料;在已填充抗電鍍材料的覆銅芯板兩側貼附干膜;在干膜上制作干膜圖形;蝕刻未被干膜保護區域;褪除干膜得到內層圖形;
S3、覆銅芯板間過電孔需隔斷且覆銅芯板上下層間過電孔需隔斷時:在覆銅芯板上鐳射鉆孔;在鐳射孔內填充抗電鍍材料;在已填充抗電鍍材料的覆銅芯板兩側貼附干膜;在干膜上制作干膜圖形;蝕刻未被干膜保護區域;褪除干膜得到內層圖形;在內層圖形上印抗電鍍材料;
外層制作:
對芯板進行壓合,對壓合后的芯板外層進行鉆孔,并將鉆好的孔進行孔金屬化處理,再用常規PCB外層圖形制作設備制作芯板外層圖形,外層圖形制作后進行絲印阻焊作業,并加上絲印阻焊油墨,阻焊油墨附著在板上,并進行絲印字符作業,然后送入鑼板機內進形鑼板作業,最后進行表面處理,制得外層。
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