[發明專利]激光放大鏡及激光放大裝置

在審

• 申請號: 202011479244.4
• 申請日: 2020-12-15
• 公開（公告）號: CN112615239A
• 公開（公告）日: 2021-04-06
• 發明（設計）人: 陳翔宇;劉雙龍;劉正一
• 申請（專利權）人: 武漢菩濟醫療科技有限公司
• 主分類號: H01S3/06
• 分類號: H01S3/06;H01S3/091
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 呂偉盼

本發明提供一種激光放大鏡及激光放大裝置，激光放大鏡包括激光增益介質、高透膜和高反膜，激光增益介質被設置為在被泵浦光激發后能放大入射的激光，激光增益介質具有相背的第一表面和第二表面；激光增益介質的第一表面設有高透膜；激光增益介質的第二表面設有高反膜。本發明提供的激光放大鏡及激光放大裝置，在實現反射激光光束的功能的同時，還可以對激光進行放大，從而能夠克服激光多次經過普通反射鏡反射后，會導致功率衰減的問題，以實現激光的無衰減傳輸。

技術領域

本發明涉及激光器技術領域，尤其涉及一種激光放大鏡及激光放大裝置。

背景技術

未鍍膜玻璃器件表面將會有大約4％的入射光被反射，采用離子束濺射鍍膜可將反射率提高到99.99％以上。離子束濺射鍍膜過程中，利用高能電場加速離子束，這一加速度會給離子提供顯著的動能(約為10-100eV)。當源材料受到沖擊時，源材料離子從目標“濺射”，并在與光學表面接觸后形成致密膜。離子束濺射鍍膜比使用其他鍍膜要更為光滑，這使得離子束濺射成為唯一一種能夠制造出反射率超過99.99％的“超級鏡面”的鍍膜技術。離子束濺射鍍膜的高密度使其堅固耐用，提高了其耐化學性，延長了鍍膜的使用壽命，使其能夠承受更惡劣的環境。離子束濺射鍍膜的缺點是成本比其他鍍膜更高，因為在光元件中產生了更長的周期時間和應力，可能導致變形和光學畸變。

而激光在經過普通反射鏡反射后，一般會有0.3％到2％的損耗，激光多次經過普通反射鏡反射后，其損耗會不斷增加。激光經反射率98％的普通反射鏡反射20次后，功率會衰減33％，這在高功率的激光系統中是難以接受的。

發明內容

本發明提供一種激光放大鏡及激光放大裝置，用以解決激光多次經過普通反射鏡反射后，會導致功率衰減的問題。

本發明提供一種激光放大鏡，包括激光增益介質、高透膜和高反膜，所述激光增益介質被設置為在被泵浦光激發后能放大入射的激光，所述激光增益介質具有相背的第一表面和第二表面；

所述激光增益介質的第一表面設有所述高透膜；

所述激光增益介質的第二表面設有所述高反膜。

根據本發明提供一種的激光放大鏡，所述激光增益介質為激光晶體或者玻璃體。

根據本發明提供一種的激光放大鏡，所述激光增益介質為Nd:YAG、Yb:YAG、Yb:glass、Er:YAG或者Ti:sapphire。

根據本發明提供一種的激光放大鏡，所述高透膜采用蒸發沉積、等離子濺射或原子層沉積的方式設于所述激光增益介質的第一表面。

根據本發明提供一種的激光放大鏡，所述高反膜采用蒸發沉積、等離子濺射或原子層沉積的方式設于所述激光增益介質的第二表面。

本發明還提供一種激光放大裝置，包括如上所述的激光放大鏡、激光射裝置和泵浦光投射裝置；

所述泵浦光投射裝置用于向所述激光放大鏡投射泵浦光，以使所述激光放大鏡的激光增益介質被泵浦光激發后能放大入射的激光；

所述激光射裝置朝向所述激光放大鏡的高透膜設置，以使激光經所述高透膜進入所述激光增益介質，再經所述激光放大鏡的高反膜反射后，依次經所述激光增益介質和所述高透膜射出所述激光放大鏡。

根據本發明提供一種的激光放大裝置，所述泵浦光投射裝置朝向所述激光放大鏡的高透膜設置，以使同軸的激光和泵浦光垂直入射到所述激光放大鏡上。

根據本發明提供一種的激光放大裝置，所述激光增益介質還具有連接第一表面與第二表面的側面；

所述泵浦光投射裝置朝向所述激光增益介質的側面設置。