[發(fā)明專利]激光放大鏡及激光放大裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011479244.4
• 申請(qǐng)日: 2020-12-15
• 公開（公告）號(hào): CN112615239A
• 公開（公告）日: 2021-04-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳翔宇;劉雙龍;劉正一
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 武漢菩濟(jì)醫(yī)療科技有限公司
• 主分類號(hào): H01S3/06
• 分類號(hào): H01S3/06;H01S3/091
• 代理公司: 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002
• 代理人: 呂偉盼

1.一種激光放大鏡，其特征在于，包括激光增益介質(zhì)、高透膜和高反膜，所述激光增益介質(zhì)被設(shè)置為在被泵浦光激發(fā)后能放大入射的激光，所述激光增益介質(zhì)具有相背的第一表面和第二表面；

所述激光增益介質(zhì)的第一表面設(shè)有所述高透膜；

所述激光增益介質(zhì)的第二表面設(shè)有所述高反膜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光放大鏡，其特征在于，所述激光增益介質(zhì)為激光晶體或者玻璃體。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的激光放大鏡，其特征在于，所述激光增益介質(zhì)為Nd:YAG、Yb:YAG、Yb:glass、Er:YAG或者Ti:sapphire。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光放大鏡，其特征在于，所述高透膜采用蒸發(fā)沉積、等離子濺射或原子層沉積的方式設(shè)于所述激光增益介質(zhì)的第一表面。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光放大鏡，其特征在于，所述高反膜采用蒸發(fā)沉積、等離子濺射或原子層沉積的方式設(shè)于所述激光增益介質(zhì)的第二表面。

6.一種激光放大裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的激光放大鏡、激光射裝置和泵浦光投射裝置；

所述泵浦光投射裝置用于向所述激光放大鏡投射泵浦光，以使所述激光放大鏡的激光增益介質(zhì)被泵浦光激發(fā)后能放大入射的激光；

所述激光射裝置朝向所述激光放大鏡的高透膜設(shè)置，以使激光經(jīng)所述高透膜進(jìn)入所述激光增益介質(zhì)，再經(jīng)所述激光放大鏡的高反膜反射后，依次經(jīng)所述激光增益介質(zhì)和所述高透膜射出所述激光放大鏡。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的激光放大裝置，其特征在于，所述泵浦光投射裝置朝向所述激光放大鏡的高透膜設(shè)置，以使同軸的激光和泵浦光垂直入射到所述激光放大鏡上。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的激光放大裝置，其特征在于，所述激光增益介質(zhì)還具有連接第一表面與第二表面的側(cè)面；

所述泵浦光投射裝置朝向所述激光增益介質(zhì)的側(cè)面設(shè)置。