[發(fā)明專利]一種蝕刻廢液制備弱酸性次氯酸水工藝及系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011474745.3
• 申請日: 2020-12-14
• 公開（公告）號(hào): CN112408329A
• 公開（公告）日: 2021-02-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 傅新民;康淵;黃明;孟勇;劉玉珍;李宏隆;黃新雅;王敬宇;付亮;王浩銘
• 申請（專利權(quán)）人: 廣西鴻盈達(dá)環(huán)境科技有限公司;傅新民
• 主分類號(hào): C01B11/06
• 分類號(hào): C01B11/06;C01B11/04;C01B7/07;C25C1/12;C25B1/26
• 代理公司: 廣西中知科創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 45130
• 代理人: 趙團(tuán)軍

1.一種蝕刻廢液制備弱酸性次氯酸水工藝，其特征在于，包括下述步驟，

S1、廢液的電解：將電解酸性氯化銅蝕刻液廢液作為電解液進(jìn)行電解，以在陰極板上獲得金屬銅及在陽極板上獲得含雜質(zhì)的氯氣；

S2、氯氣的處理：將步驟S1中雜質(zhì)氯氣進(jìn)行收集，且將雜質(zhì)氯氣依次通過稀硫酸溶液及純水，以去除氯氣中的銅離子及雜氣體，并以獲得有效氯氣；

S3、弱酸性次氯酸水的制備：對步驟S2獲得的有效氯氣依次通過氫氧化鈉溶液及鹽酸溶液，以依次獲得次氯酸鈉溶液、弱酸性次氯酸水。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種蝕刻廢液制備弱酸性次氯酸水工藝，其特征在于：所述步驟S3中，所述次氯酸鈉溶液的氯酸鈉質(zhì)量分?jǐn)?shù)為10Wt％，所述鹽酸溶液的中鹽酸質(zhì)量分?jǐn)?shù)為35Wt％，所述弱酸性次氯酸水的濃度為500ppm。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種蝕刻廢液制備弱酸性次氯酸水工藝，其特征在于：在所述步驟S3中，每5kg的次氯酸鈉溶液在制備所述弱酸性次氯酸水時(shí)需要加水947.365kg。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種蝕刻廢液制備弱酸性次氯酸水工藝所采用的蝕刻廢液制備弱酸性次氯酸水系統(tǒng)，其特征在于：包括廢液處理模塊(1)、氣體處理模塊(2)及制備模塊，

所述廢液處理模塊(1)包括儲(chǔ)存區(qū)(11)及電解槽(12)，所述儲(chǔ)存區(qū)(11)用于獲取蝕刻液生產(chǎn)線的電解酸性氯化銅蝕刻液廢液，且所述儲(chǔ)存區(qū)(11)與所述電解槽(12)連接；

所述氣體處理模塊(2)包括銅離子去除裝置(21)及雜氣體去除裝置(22)，所述銅離子去除裝置(21)內(nèi)設(shè)有稀硫酸溶液，且所述銅離子去除裝置(21)的入口端與所述電解槽(12)的陽極收集區(qū)連接，所述銅離子去除裝置(21)的出口端與所述雜氣體去除裝置(22)連接，所述雜氣體去除裝置(22)設(shè)有純水；

所述制備模塊包括次氯酸鈉溶液生成裝置(3)及次氯酸水生成裝置(4)，

所述次氯酸鈉溶液生成裝置(3)設(shè)有氫氧化鈉溶液，且所述次氯酸鈉溶液生成裝置(3)一端與所述雜氣體去除裝置(22)導(dǎo)通連接，另一端與所述次氯酸水生成裝置(4)導(dǎo)通連接；

所述次氯酸水生成裝置(4)包括生成箱(41)，所述生成箱(41)內(nèi)設(shè)有鹽酸溶液，且所述生成箱(41)與所述次氯酸鈉溶液生成裝置(3)導(dǎo)通連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種蝕刻廢液制備弱酸性次氯酸水系統(tǒng)，其特征在于：所述銅離子去除裝置(21)及所述雜氣體去除裝置(22)均設(shè)有冷卻裝置(5)，兩所述冷卻裝置(5)分別所述銅離子去除裝置(21)及所述雜氣體去除裝置(22)連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種蝕刻廢液制備弱酸性次氯酸水系統(tǒng)，其特征在于：所述銅離子去除裝置(21)、所述雜氣體去除裝置(22)及所述生成箱(41)內(nèi)均設(shè)有監(jiān)控裝置(65)，所述監(jiān)管裝置(65)包括離子濃度傳感器、氣體濃度傳感器及溫度傳感器。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種蝕刻廢液制備弱酸性次氯酸水系統(tǒng)，其特征在于：所述銅離子去除裝置(21)的入口端通過第一管道(61)與所述電解槽(12)導(dǎo)通連接，且所述銅離子去除裝置(21)的出口端通過第二管道(62)與所述雜氣體去除裝置(22)的入口端導(dǎo)通連接，所述雜氣體去除裝置(22)的出口端通過第三管道(63)與所述次氯酸鈉溶液生成裝置(3)導(dǎo)通連接，所述第一管道(61)、第二管道(62)及所述第三管道(63)均分別設(shè)有射流機(jī)(64)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種蝕刻廢液制備弱酸性次氯酸水系統(tǒng)，其特征在于：所述次氯酸鈉溶液生成裝置(3)包括反應(yīng)箱(31)、儲(chǔ)液罐(32)、溶液罐(33)及噴射混合器(34)，所述反應(yīng)箱(31)與所述第三管道(63)遠(yuǎn)離所述雜氣體去除裝置(22)的一端導(dǎo)通連接，所述儲(chǔ)液罐(32)及所述溶液罐(33)均設(shè)于所述反應(yīng)箱(31)外，且所述儲(chǔ)液罐(32)及所述溶液罐(33)分別設(shè)有水及氫氧化鈉溶液；所述噴射混合器(34)設(shè)于所述反應(yīng)箱(31)內(nèi)，且所述噴射混合器(34)分別與所述儲(chǔ)液罐(32)及所述溶液罐(33)導(dǎo)通連接。