[發明專利]一種取樣裝置在審
| 申請號: | 202011471588.0 | 申請日: | 2020-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN112683586A | 公開(公告)日: | 2021-04-20 |
| 發明(設計)人: | 李在桓 | 申請(專利權)人: | 西安奕斯偉硅片技術有限公司;西安奕斯偉材料技術有限公司 |
| 主分類號: | G01N1/10 | 分類號: | G01N1/10;B08B3/02;B08B9/093;B08B13/00 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243 | 代理人: | 胡影;李紅標 |
| 地址: | 710065 陜西省西安市*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 取樣 裝置 | ||
本發明提供一種取樣裝置,包括:箱體,箱體內限定有第一腔室和第二腔室,第一腔室與第二腔室連通;取樣結構,取樣結構設置于第一腔室中;機械臂,機械臂上設有夾爪,夾爪在第一腔室與第二腔室中可移動;清洗結構,清洗結構設在第二腔室中。在本發明的取樣裝置中,取樣結構設置于第一腔室中,機械臂上設有夾爪,夾爪在第一腔室與第二腔室中可移動,清洗結構設在第二腔室中,在取樣過程中,可以通過夾爪來夾取取樣瓶和瓶蓋,通過清洗結構可以清洗取樣瓶和瓶蓋,可以在第一腔室中完成取樣,避免外部環境中的污染物進入藥液,提高清洗液的檢測結果的準確性,保證硅片的清洗效果,提高硅片的加工質量。
技術領域
本發明涉及硅片技術領域,具體涉及一種取樣裝置。
背景技術
在硅片生產過程中,顆粒和不純物等各種雜質會導致硅片表面受到污染,在清洗工藝中使用藥液對硅片表面的顆粒和金屬進行去除。如果藥液本身受到污染,也會對硅片表面產生污染,需要取樣分析清洗液是否污染,但是在取樣過程中,操作員以及周圍環境中的污染物會進入到清洗液,導致清洗液的檢測結果不準確,影響硅片的清洗效果,導致硅片的加工質量降低。
發明內容
有鑒于此,本發明提供一種取樣裝置,用以解決在取樣過程中,操作員以及周圍環境中的污染物會進入到清洗液,導致清洗液的檢測結果不準確的問題。
為解決上述技術問題,本發明采用以下技術方案:
本發明實施例提供一種取樣裝置,包括:
箱體,所述箱體內限定有第一腔室和第二腔室,所述第一腔室與所述第二腔室連通;
取樣結構,所述取樣結構設置于所述第一腔室中;
機械臂,所述機械臂上設有夾爪,所述夾爪在所述第一腔室與所述第二腔室中可移動;
清洗結構,所述清洗結構設在所述第二腔室中。
其中,所述箱體上設有擋板,所述擋板在第一位置與第二位置之間移動,當所述擋板位于所述第一位置時,所述擋板隔斷所述第一腔室與所述第二腔室;當所述擋板位于所述第二位置時,所述第一腔室與所述第二腔室連通。
其中,所述取樣結構包括取樣管,所述取樣管可活動。
其中,所述取樣管上設有調節閥以導通或關閉所述取樣管。
其中,所述箱體的底部設有承載板,所述承載板與所述箱體的底壁間隔開,所述承載板上設有通孔。
其中,所述清洗結構包括至少一個噴嘴,所述噴嘴位于所述承載板的上方。
其中,所述箱體的底壁上設有排出口。
其中,所述夾爪圍繞第一軸線可旋轉,所述第一軸線與所述箱體的底壁垂直。
其中,所述夾爪沿上下方向可移動。
其中,所述機械臂包括第一機械臂和第二機械臂,所述第二機械臂設在所述第一機械臂上,所述第二機械臂的至少部分可在所述第一腔室與所述第二腔室中移動,所述夾爪設在所述第二機械臂上。
根據本發明實施例的取樣裝置,包括:箱體,所述箱體內限定有第一腔室和第二腔室,所述第一腔室與所述第二腔室連通;取樣結構,所述取樣結構設置于所述第一腔室中;機械臂,所述機械臂上設有夾爪,所述夾爪在所述第一腔室與所述第二腔室中可移動;清洗結構,所述清洗結構設在所述第二腔室中。在本發明的取樣裝置中,所述取樣結構設置于所述第一腔室中,所述機械臂上設有夾爪,所述夾爪在所述第一腔室與所述第二腔室中可移動,所述清洗結構設在所述第二腔室中,在取樣過程中,可以通過夾爪來夾取取樣瓶和瓶蓋,通過清洗結構可以清洗取樣瓶和瓶蓋,可以在第一腔室中完成取樣,避免外部環境中的污染物進入藥液,提高清洗液的檢測結果的準確性,保證硅片的清洗效果,提高硅片的加工質量。
附圖說明
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