[發(fā)明專利]一種鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管中參數(shù)化單元及其實(shí)現(xiàn)方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011471523.6
• 申請(qǐng)日: 2020-12-14
• 公開（公告）號(hào): CN112507491B
• 公開（公告）日: 2022-12-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 江照燿;劉學(xué)剛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 泉芯集成電路制造（濟(jì)南）有限公司
• 主分類號(hào): G06F30/17
• 分類號(hào): G06F30/17;G06Q10/04;G06T11/20;H01L27/02
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 劉猛

本發(fā)明提供了一種鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管中參數(shù)化單元及其實(shí)現(xiàn)方法，包括：提供參數(shù)化單元，所述參數(shù)化單元包括多個(gè)第一結(jié)構(gòu)和多個(gè)第二結(jié)構(gòu)，所述第一結(jié)構(gòu)和所述第二結(jié)構(gòu)為重復(fù)的結(jié)構(gòu)，所述第一結(jié)構(gòu)和所述第二結(jié)構(gòu)的功能不同；改變所述第一結(jié)構(gòu)和/或所述第二結(jié)構(gòu)的圖層設(shè)定，使所述第一結(jié)構(gòu)的功能與所述第二結(jié)構(gòu)的功能相同，和/或，使所述第二結(jié)構(gòu)的功能與所述第一結(jié)構(gòu)的功能相同，使所述第一結(jié)構(gòu)和/或所述第二結(jié)構(gòu)與其他結(jié)構(gòu)形成所需的器件，從而可以實(shí)現(xiàn)器件的特性和器件的面積的平衡，即在最少面積的浪費(fèi)下，得到最佳的器件特性。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體集成電路制造技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說，涉及一種參數(shù)化單元及其實(shí)現(xiàn)方法。

背景技術(shù)

隨著工藝的發(fā)展，鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管以及多圖案技術(shù)(Multiple PatterningTechnology，MPT)的導(dǎo)入已經(jīng)成為二十奈米以下的主流工藝技術(shù)。這些主流技術(shù)雖然讓摩爾定律得以延續(xù)，但同時(shí)也提高了工藝的復(fù)雜度，讓晶圓代工廠不得不將更嚴(yán)格地規(guī)范設(shè)計(jì)規(guī)則即限制性設(shè)計(jì)規(guī)則(Restrictive Design Rule，RDR)定義在設(shè)計(jì)規(guī)則手冊(cè)里。

傳統(tǒng)的參數(shù)化單元按照設(shè)計(jì)規(guī)則手冊(cè)設(shè)計(jì)，可以在最少面積的浪費(fèi)下，得到最佳的器件特性。但是，限制性設(shè)計(jì)規(guī)則的加入，反應(yīng)在版圖設(shè)計(jì)上，會(huì)導(dǎo)致參數(shù)化單元內(nèi)具有越來越多的重復(fù)的結(jié)構(gòu)。雖然這些重復(fù)的結(jié)構(gòu)的數(shù)量越多，器件的特性越佳，但是，也會(huì)帶來浪費(fèi)更多面積的缺點(diǎn)。基于此，如何平衡器件的特性和器件的面積是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的問題之一。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本發(fā)明提供了一種參數(shù)化單元及其實(shí)現(xiàn)方法，以對(duì)參數(shù)化單元內(nèi)重復(fù)的結(jié)構(gòu)進(jìn)行調(diào)整，在最少面積的浪費(fèi)下，得到最佳的器件特性。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：

一種參數(shù)化單元的實(shí)現(xiàn)方法，包括：

提供參數(shù)化單元，所述參數(shù)化單元包括多個(gè)第一結(jié)構(gòu)和多個(gè)第二結(jié)構(gòu)，所述第一結(jié)構(gòu)和所述第二結(jié)構(gòu)為重復(fù)的結(jié)構(gòu)，所述第一結(jié)構(gòu)和所述第二結(jié)構(gòu)的功能不同；

改變所述第一結(jié)構(gòu)和/或所述第二結(jié)構(gòu)的圖層設(shè)定，使所述第一結(jié)構(gòu)的功能與所述第二結(jié)構(gòu)的功能相同，和/或，使所述第二結(jié)構(gòu)的功能與所述第一結(jié)構(gòu)的功能相同；

使所述第一結(jié)構(gòu)和/或所述第二結(jié)構(gòu)與其他結(jié)構(gòu)形成所需的器件。

可選地，所述參數(shù)化單元包括第一器件，所述第一器件包括多個(gè)第一結(jié)構(gòu)和多個(gè)第二結(jié)構(gòu)；則改變所述第一結(jié)構(gòu)和/或所述第二結(jié)構(gòu)的圖層設(shè)定包括：

改變相鄰兩個(gè)第一結(jié)構(gòu)的圖層設(shè)定，使所述相鄰兩個(gè)第一結(jié)構(gòu)的功能與所述第二結(jié)構(gòu)的功能相同；

使所述第一結(jié)構(gòu)和/或所述第二結(jié)構(gòu)與其他結(jié)構(gòu)形成所需的器件包括：

切斷所述相鄰兩個(gè)第一結(jié)構(gòu)之間的連接結(jié)構(gòu)，使所述相鄰兩個(gè)第一結(jié)構(gòu)中一個(gè)第一結(jié)構(gòu)與其他結(jié)構(gòu)形成所需的第二器件，使所述相鄰兩個(gè)第一結(jié)構(gòu)中另一個(gè)第一結(jié)構(gòu)與其他結(jié)構(gòu)形成所需的第三器件。

可選地，所述參數(shù)化單元包括第一器件和第二器件，所述第一器件和所述第二器件均包括多個(gè)第一結(jié)構(gòu)和多個(gè)第二結(jié)構(gòu)；

則改變所述第一結(jié)構(gòu)和/或所述第二結(jié)構(gòu)的圖層設(shè)定包括：

改變所述第一器件中部分第二結(jié)構(gòu)的圖層設(shè)定，使所述第一器件中部分第二結(jié)構(gòu)的功能與所述第二器件中第一結(jié)構(gòu)的功能相同；

改變所述第二器件中的部分第二結(jié)構(gòu)的圖層設(shè)定，使所述第二器件中部分第二結(jié)構(gòu)的功能與所述第一器件中第一結(jié)構(gòu)的功能相同；

使所述第一結(jié)構(gòu)和/或所述第二結(jié)構(gòu)與其他結(jié)構(gòu)形成所需的器件包括：