[發(fā)明專利]一種納米FeCx 有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011471267.0 | 申請日: | 2020-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN112626491B | 公開(公告)日: | 2022-02-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 杜立永;何冬梅;丁玉強 | 申請(專利權(quán))人: | 江南大學(xué) |
| 主分類號: | C23C16/32 | 分類號: | C23C16/32;C23C16/455 |
| 代理公司: | 哈爾濱市陽光惠遠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 23211 | 代理人: | 林娟 |
| 地址: | 214000 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 納米 fec base sub | ||
1.一種納米FeCx材料的制備方法,其特征在于,所述方法包括以下步驟:將襯底放置于原子層沉積設(shè)備的反應(yīng)腔中,在真空條件下,以脈沖形式向反應(yīng)腔中通入氣相Fe前驅(qū)體進行沉積,單個脈沖的持續(xù)時間為0.1~20s,沉積溫度為150~320℃,得到沉積有Fe前驅(qū)體的襯底;然后向體系中充入惰性氣體進行吹掃清洗;清洗后,將氣相碳源以脈沖形式通入原子層沉積設(shè)備的反應(yīng)腔,與沉積在襯底上的Fe前驅(qū)體進行單原子反應(yīng),得到含單原子層FeCx納米材料的襯底;最后再向體系中充入惰性氣體進行吹掃清洗,即完成一個ALD生長循環(huán);重復(fù)ALD生長循環(huán)0~2000次,即可得到生長有一定厚度的納米FeCx材料的襯底;
其中,所述碳源為甲醇、乙醇、丙醇、丁醇中的一種或幾種;所述Fe前驅(qū)體為具有式1所示結(jié)構(gòu)的化合物,
其中R,R1表示異丙基、仲丁基、異丁基中的任意一種,R,R1相同或不同。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種納米FeCx材料的制備方法,其特征在于,所述襯底包括硅、氧化硅、氮化硅、TaN中的一種或幾種。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種納米FeCx材料的制備方法,其特征在于,所述以脈沖形式向反應(yīng)腔中通入氣相Fe前驅(qū)體的單個脈沖的持續(xù)時間為1~15s。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種納米FeCx材料的制備方法,其特征在于,所述氣相Fe前驅(qū)體在載氣存在條件下以脈沖形式通入,所述載氣的流量為10~200sccm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1、2或4任一所述的一種納米FeCx材料的制備方法,其特征在于,氣相碳源在載氣存在條件下以脈沖形式通入原子層沉積設(shè)備的反應(yīng)腔,所述載氣的流量為20~200sccm。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種納米FeCx材料的制備方法,其特征在于,所述載氣為高純氮氣或高純氬氣。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種納米FeCx材料的制備方法,其特征在于,所述載氣為高純氮氣或高純氬氣。
8.根據(jù)權(quán)利要求1~2、4或6~7任一所述的一種納米FeCx材料的制備方法,其特征在于,將氣相碳源以脈沖形式通入反應(yīng)腔的單個脈沖的持續(xù)時間為0.1~20s。
9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種納米FeCx材料的制備方法,其特征在于,將氣相碳源以脈沖形式通入反應(yīng)腔的單個脈沖的持續(xù)時間為0.1~20s。
10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種納米FeCx材料的制備方法,其特征在于,將氣相碳源以脈沖形式通入反應(yīng)腔的單個脈沖的持續(xù)時間為0.1~20s。
11.根據(jù)權(quán)利要求1~2、4、6~7或9~10任一所述的一種納米FeCx材料的制備方法,其特征在于,循環(huán)的次數(shù)為100~2000次。
12.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種納米FeCx材料的制備方法,其特征在于,循環(huán)的次數(shù)為100~2000次。
13.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種納米FeCx材料的制備方法,其特征在于,循環(huán)的次數(shù)為100~2000次。
14.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種納米FeCx材料的制備方法,其特征在于,循環(huán)的次數(shù)為100~2000次。
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C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
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