[發(fā)明專利]一種高光效閃光燈罩的制備工藝在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011466980.6 | 申請日: | 2020-12-14 |
| 公開(公告)號: | CN112626463A | 公開(公告)日: | 2021-04-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 吳建曉 | 申請(專利權(quán))人: | 廣東阿特斯科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C23C14/06;C23C14/20;B29C45/00;B08B3/12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 高光效 閃光 燈罩 制備 工藝 | ||
1.一種高光效閃光燈罩的制備工藝,其特征在于,包括如下步驟:
(1)注塑成型罩本體:利用塑料材料注塑成型罩本體,所述罩本體的外表面均勻布設(shè)有若干個菱形凸塊,所述罩本體中心設(shè)有聚光盤;
(2)罩本體鍍膜加工:對注塑成型的罩本體的外表面進(jìn)行真空蒸鍍以形成一層用于增強(qiáng)光效的鍍膜;
(3)表面清洗:將鍍膜完成的高光效閃光燈罩放置到超聲波清洗設(shè)備內(nèi)進(jìn)行清洗。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高光效閃光燈罩的制備工藝,其特征在于,所述步驟(2)具體包括以下步驟:
(2.1)鍍前清潔:對蒸鍍用的真空室側(cè)壁、以及用于固定罩本體的固定架表面進(jìn)行清潔,以去除油污、銹跡和殘余鍍料;
(2.2)抽真空加熱預(yù)處理:對真空室進(jìn)行抽真空,然后加熱固定好的罩本體,以去除真空室的水分和脫附罩本體表面的氣體,然后經(jīng)真空泵抽氣體排出真空室;
(2.3)對蒸發(fā)源通以低功率的電:對蒸發(fā)源通以低功率的電,進(jìn)行鍍膜料的預(yù)熱或者預(yù)熔,為防止蒸發(fā)到基板上;
(2.4)對蒸發(fā)源通以大功率的電:用擋板遮蓋住蒸發(fā)源及源物質(zhì),然后通以大功率的電,將鍍膜材料迅速加熱到鍍膜料的蒸發(fā)溫度,蒸鍍時再移開擋板;
(2.5)蒸鍍和取件:蒸鍍過程對罩本體進(jìn)行加熱,同時控制真空室的真空度,當(dāng)罩本體外表面的膜層厚度達(dá)到要求后,用擋板蓋住蒸發(fā)源并停止加熱,然后取出鍍有膜層的罩本體,即制得所述高光效閃光燈罩。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高光效閃光燈罩的制備工藝,其特征在于:所述塑料材料為聚甲基丙烯酸甲酯。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高光效閃光燈罩的制備工藝,其特征在于:所述菱形凸塊的厚度為0.1mm~0.18mm,所述聚光盤為六棱臺結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高光效閃光燈罩的制備工藝,其特征在于:所述用于增強(qiáng)光效的鍍膜的厚度為4μm~9μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高光效閃光燈罩的制備工藝,其特征在于:所述用于增強(qiáng)光效的鍍膜設(shè)置為金剛石鍍膜、Ag鍍膜、Au鍍膜或Cu鍍膜中的一種。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種能增強(qiáng)光效的閃光燈罩的制備工藝,其特征在于:所述步驟(2.2)中,所述加熱罩本體的溫度為40℃~50℃,所述加熱罩本體的時間為0.5h~2h。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種能增強(qiáng)光效的閃光燈罩的制備工藝,其特征在于:所述步驟(2.3)中,對蒸發(fā)源通以80W~90W的低功率的電。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種能增強(qiáng)光效的閃光燈罩的制備工藝,其特征在于:所述步驟(2.4)中,用擋板遮蓋住蒸發(fā)源及源物質(zhì),然后通以1000W~2000W的大功率的電。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種能增強(qiáng)光效的閃光燈罩的制備工藝,其特征在于:所述步驟(2.5)中,蒸鍍過程對罩本體進(jìn)行加熱的溫度為45℃~55℃。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





