[發(fā)明專利]一種離線高透凈色低輻射可鋼鍍膜玻璃及其制造方法

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• 申請日: 2020-12-11
• 公開（公告）號: CN112679112A
• 公開（公告）日: 2021-04-20
• 發(fā)明（設計）人: 章余華;張波;朱海勇;程曉瑜;任建林;熊平
• 申請（專利權）人: 安徽鳳陽玻璃有限公司
• 主分類號: C03C27/06
• 分類號: C03C27/06;C03C17/36
• 代理公司: 安徽中辰臻遠專利代理事務所(普通合伙) 34175
• 代理人: 劉朝琴

1.一種離線高透凈色低輻射可鋼鍍膜玻璃，其特征在于：包括第一玻璃基片和第二玻璃基片，所述第一玻璃片上依次濺射第一氮化硅SiNx、第一氧化鋅鋁ZnAlOx和第一氮鋁硅SiAlNx、金屬銀、第二氮鋁硅SiAlNx、第二氧化鋅鋁ZnAlOx、第二氮化硅SiNx，然后將第二玻璃基片熱壓在第二氮化硅SiNx上，在上述玻璃層一周涂刷高溫液態(tài)玻璃溶液進行封邊，然后離線鋼化。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種離線高透凈色低輻射可鋼鍍膜玻璃，其特征在于：所述第一玻璃基片和第二玻璃基片的厚度分別為3-4mm和1-2mm；所述第一氮化硅SiNx、第一氧化鋅鋁ZnAlOx和第一氮鋁硅SiAlNx的厚度分別為30-50nm、10-20nm和15-20nm，所述金屬銀厚度均在10-20nm，所述第二氮鋁硅SiAlNx、第二氧化鋅鋁ZnAlOx、第二氮化硅SiNx的厚度分別為20-30nm、15-25nm和40-60nm。

3.根據(jù)權利要求2所述的一種離線高透凈色低輻射可鋼鍍膜玻璃，其特征在于：所述第一玻璃基片和第二玻璃基片的厚度分別為3mm和2mm；所述第一氮化硅SiNx、第一氧化鋅鋁ZnAlOx和第一氮鋁硅SiAlNx的厚度分別為40nm、15nm和18nm，所述金屬銀厚度為15nm，所述第二氮鋁硅SiAlNx、第二氧化鋅鋁ZnAlOx、第二氮化硅SiNx的厚度分別為25nm、20nm和50nm。

4.一種離線高透凈色低輻射可鋼鍍膜玻璃的制造方法，其特征在于：具體步驟如下：

S1：選擇第一玻璃基片，將其置于高真空磁控濺射鍍膜設備內，真空設置為2-3MPa,線速度2.5-3.5m/min；

S2：在第一玻璃基片上依次濺射第一氮化硅SiNx、第一氧化鋅鋁ZnAlOx和第一氮鋁硅SiAlNx，上述濺射層的高真空磁控濺射鍍膜設備的功率分別為80KW-100KW、20KW-30KW和5KW-10KW；

S3：在步驟S2中的第一氮鋁硅SiAlNx上濺射金屬銀，高真空磁控濺射鍍膜設備的功率為3KW-5KW；

S4：在步驟S3的金屬銀上依次濺射第二氮鋁硅SiAlNx、第二氧化鋅鋁ZnAlOx、第二氮化硅SiNx，上述濺射層的高真空磁控濺射鍍膜設備的功率分別為5KW-10KW、20KW-30KW和80KW-100KW，然后將濺射后的玻璃置于熱壓機內進行預熱；

S5：向步驟S4中熱壓機內玻璃上蓋上第二玻璃基板進行熱壓貼合，取出；

S6：向步驟S5中形成夾層玻璃一周涂刷高溫液態(tài)玻璃溶液進行封邊，然后離線鋼化。

5.根據(jù)權利要求4所述的一種離線高透凈色低輻射可鋼鍍膜玻璃的制造方法，其特征在于：所述第一氮化硅SiNx、第一氧化鋅鋁ZnAlOx和第一氮鋁硅SiAlNx濺射厚度分別約為第二氮化硅SiNx、第二氧化鋅鋁ZnAlOx和第二氮鋁硅SiAlNx厚度的70-80％。

6.根據(jù)權利要求4所述的一種離線高透凈色低輻射可鋼鍍膜玻璃的制造方法，其特征在于：所述步驟S4中濺射方向相對步驟S2的濺射方向旋轉180°。