[發明專利]一種離線高透凈色低輻射可鋼鍍膜玻璃及其制造方法

在審

• 申請號: 202011461599.0
• 申請日: 2020-12-11
• 公開（公告）號: CN112679112A
• 公開（公告）日: 2021-04-20
• 發明（設計）人: 章余華;張波;朱海勇;程曉瑜;任建林;熊平
• 申請（專利權）人: 安徽鳳陽玻璃有限公司
• 主分類號: C03C27/06
• 分類號: C03C27/06;C03C17/36
• 代理公司: 安徽中辰臻遠專利代理事務所(普通合伙) 34175
• 代理人: 劉朝琴

本發明公開了一種離線高透凈色低輻射可鋼鍍膜玻璃，包括第一玻璃基片和第二玻璃基片，所述第一玻璃片上依次濺射第一氮化硅SiNx、第一氧化鋅鋁ZnAlOx和第一氮鋁硅SiAlNx、金屬銀、第二氮鋁硅SiAlNx、第二氧化鋅鋁ZnAlOx、第二氮化硅SiNx，然后將第二玻璃基片熱壓在第二氮化硅SiNx上，在上述玻璃層一周涂刷高溫液態玻璃溶液進行封邊，然后離線鋼化，制造方法采用高真空磁控濺射鍍膜設備進行逐層濺射鍍膜。本發明將濺射層設置在夾層玻璃之間，提高了濺射層的使用壽命，不僅能有效隔離輻射，還能具備對自然光的高透過率，透過率為85.2?87.3％。

技術領域

本發明涉及低輻射可鋼鍍膜玻璃技術領域，尤其涉及一種離線高透凈色低輻射可鋼鍍膜玻璃及其制造方法。

背景技術

現有的普通透明玻璃應用很廣泛，其透射范圍正好與太陽輻射光譜區域重合，因此，在透過可見光的同時，陽光中的紅外線熱能也能大量透過玻璃，而2.5-5um中紅外波段的熱能又被大量的吸收，對暖氣發出的波長5um以上的熱輻射，普通玻璃不能直接透過而是近乎完全吸收，并通過傳導、輻射及與空氣對流的方式將能熱傳遞到室外，使室內的溫度降低，另外，普通玻璃不能阻擋紫外線，易使室內的家俱和織物褪色，目前還有一種離線髙透低輻射鍍膜玻璃，是由錫Sn銀Ag、鎳鉻NiCr和硅Si或鋅Zn通過雙端離線高真空磁控濺射技術生成的不同厚度金屬化合物層和金屬層組成的。

然而在濺射涂層時，厚度不易過大，不然濺射效果不佳，濺射不均勻，但需要提高低輻射的效果，往往需要多次濺射相同結構層達到其需要效果，由于濺射層次變多，導致其表面易被損壞，而且濺射過程中一旦出現濺射異常，會出現局部濺射效果差問題，而對于同一臺設備相同濺射條件下，在一個部位出現濺射問題的概率相對較高，若采用多層濺射，濺射方向翻轉將蓋上濺射不佳問題。

發明內容

本發明旨在至少在一定程度上解決相關技術中的技術問題之一。為此，本發明的一個目的在于提出一種離線高透凈色低輻射可鋼鍍膜玻璃及其制備方法，解決多層濺射后涂層易損壞問題，并保證了其對自然光的高透過率。

根據本發明提出的一種離線高透凈色低輻射可鋼鍍膜玻璃，包括第一玻璃基片和第二玻璃基片，所述第一玻璃片上依次濺射第一氮化硅SiNx、第一氧化鋅鋁ZnAlOx和第一氮鋁硅SiAlNx、金屬銀、第二氮鋁硅SiAlNx、第二氧化鋅鋁ZnAlOx、第二氮化硅SiNx，然后將第二玻璃基片熱壓在第二氮化硅SiNx上，在上述玻璃層一周涂刷高溫液態玻璃溶液進行封邊，然后離線鋼化。

在本發明的一些實施例中，所述第一玻璃基片和第二玻璃基片的厚度分別為3-4mm和1-2mm；所述第一氮化硅SiNx、第一氧化鋅鋁ZnAlOx和第一氮鋁硅SiAlNx的厚度分別為30-50nm、10-20nm和15-20nm，所述金屬銀厚度均在10-20nm，所述第二氮鋁硅SiAlNx、第二氧化鋅鋁ZnAlOx、第二氮化硅SiNx的厚度分別為20-30nm、15-25nm和40-60nm。

在本發明的另一些實施例中，所述第一玻璃基片和第二玻璃基片的厚度分別為3mm和2mm；所述第一氮化硅SiNx、第一氧化鋅鋁ZnAlOx和第一氮鋁硅SiAlNx的厚度分別為40nm、15nm和18nm，所述金屬銀厚度為15nm，所述第二氮鋁硅SiAlNx、第二氧化鋅鋁ZnAlOx、第二氮化硅SiNx的厚度分別為25nm、20nm和50nm。

一種離線高透凈色低輻射可鋼鍍膜玻璃的制造方法，具體步驟如下：

S1：選擇第一玻璃基片，將其置于高真空磁控濺射鍍膜設備內，真空設置為2-3MPa,線速度2.5-3.5m/min；

S2：在第一玻璃基片上依次濺射第一氮化硅SiNx、第一氧化鋅鋁ZnAlOx和第一氮鋁硅SiAlNx，上述濺射層的高真空磁控濺射鍍膜設備的功率分別為80KW-100KW、20KW-30KW和5KW-10KW；