本發(fā)明涉及蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)一種蒸鍍?cè)垂┝涎b置及蒸鍍?cè)垂┝戏椒āＦ渲姓翦冊(cè)垂┝涎b置包括蒸鍍組件、驅(qū)動(dòng)組件、預(yù)蒸探頭、蒸鍍探頭和控制模塊，蒸鍍組件包括用于蒸鍍的工作位和用于預(yù)蒸的等候位，工作位和等候位上均設(shè)置有加熱組件，坩堝置于加熱組件內(nèi)，位于等候位的加熱組件能對(duì)其上的坩堝內(nèi)的材料預(yù)蒸至預(yù)設(shè)蒸鍍速率；驅(qū)動(dòng)組件用于驅(qū)動(dòng)工作位和等候位上的加熱組件調(diào)換位置；預(yù)蒸探頭用于檢測(cè)等候位上材料的蒸鍍速率；蒸鍍探頭用于檢測(cè)工作位上材料的蒸鍍速率；控制模塊用于根據(jù)預(yù)設(shè)指令或操作指令控制蒸鍍組件、驅(qū)動(dòng)組件、預(yù)蒸探頭或蒸鍍探頭執(zhí)行預(yù)設(shè)動(dòng)作。本發(fā)明的蒸鍍組件能連續(xù)蒸鍍，提高了蒸鍍效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及蒸鍍技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種蒸鍍?cè)垂┝涎b置及蒸鍍?cè)垂┝戏椒ā?/p>

背景技術(shù)

有機(jī)薄膜電致發(fā)光顯示器件(OLED)，是有機(jī)半導(dǎo)體材料在電場(chǎng)作用下發(fā)光的一項(xiàng)新興技術(shù)，近年來(lái)得到了迅速發(fā)展。OLED照明產(chǎn)品的低能耗、環(huán)保、超薄、高色彩飽和度、面光源等優(yōu)點(diǎn)，使其成為未來(lái)照明產(chǎn)品發(fā)展的主流趨勢(shì)之一。現(xiàn)如今OLED照明器件主要通過(guò)蒸發(fā)鍍膜的方法制備，在實(shí)際生產(chǎn)中，因?yàn)槠湟诟哒婵諚l件下生產(chǎn)，并且具有多道蒸鍍工藝，現(xiàn)如今產(chǎn)線方案主要采用團(tuán)簇式(Cluster)結(jié)構(gòu)，即多個(gè)八角腔體相連，每個(gè)八角腔體的各個(gè)邊上安裝不同功能的蒸鍍腔體，處于中間的八角腔體作為傳輸用，內(nèi)部安裝有傳輸用機(jī)械手，所蒸鍍的產(chǎn)品(玻璃基片)依次通過(guò)每個(gè)八角腔體。

現(xiàn)有技術(shù)中，因團(tuán)簇式結(jié)構(gòu)的特點(diǎn)，一般采用點(diǎn)蒸發(fā)源。但是由于整個(gè)產(chǎn)線較長(zhǎng)，因而要求蒸鍍時(shí)間較長(zhǎng)，需要有機(jī)、金屬束源中的材料較多，為盛放較多的材料，一般需要點(diǎn)蒸發(fā)源的坩堝較大，而坩堝較大則會(huì)引起蒸鍍到基板上的材料均勻性變差；另外，蒸鍍過(guò)程中，通常需要較多時(shí)間對(duì)坩堝進(jìn)行預(yù)熱，降低了蒸鍍效率。

所以，亟需一種蒸鍍?cè)垂┝涎b置，以解決上述問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

基于以上所述，本發(fā)明的目的在于提供一種蒸鍍?cè)垂┝涎b置及蒸鍍機(jī)，能實(shí)現(xiàn)連續(xù)蒸鍍，蒸鍍效率較高。

為達(dá)上述目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：

一種蒸鍍?cè)垂┝涎b置，包括：

蒸鍍組件，包括用于蒸鍍的工作位和用于預(yù)蒸的等候位，所述工作位和所述等候位上均設(shè)置有加熱組件，坩堝置于所述加熱組件內(nèi)，位于所述等候位的所述加熱組件能對(duì)其上的所述坩堝內(nèi)的材料預(yù)蒸至預(yù)設(shè)蒸鍍速率；

驅(qū)動(dòng)組件，用于驅(qū)動(dòng)所述工作位和所述等候位上的所述加熱組件調(diào)換位置；

預(yù)蒸探頭，用于檢測(cè)所述等候位上材料的蒸鍍速率；

蒸鍍探頭，用于檢測(cè)所述工作位上材料的蒸鍍速率；

控制模塊，用于根據(jù)預(yù)設(shè)指令或操作指令控制所述蒸鍍組件、所述驅(qū)動(dòng)組件、所述預(yù)蒸探頭或所述蒸鍍探頭執(zhí)行預(yù)設(shè)動(dòng)作。

作為一種蒸鍍?cè)垂┝涎b置的優(yōu)選方案，所述蒸鍍?cè)垂┝涎b置還包括供料組件和取放組件；

所述供料組件包括存儲(chǔ)架，所述存儲(chǔ)架上設(shè)置多個(gè)放置位，用于放置盛放材料或蒸鍍完成的所述坩堝；

所述取放組件能在所述放置位和所述等候位之間取放所述坩堝。

作為一種蒸鍍?cè)垂┝涎b置的優(yōu)選方案，所述驅(qū)動(dòng)組件包括第一驅(qū)動(dòng)和設(shè)置于所述第一驅(qū)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)端的底座，所述加熱組件設(shè)置在所述底座上，所述第一驅(qū)動(dòng)能通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)所述底座，將所述工作位的所述加熱組件和所述等候位的所述加熱組件調(diào)換位置。

作為一種蒸鍍?cè)垂┝涎b置的優(yōu)選方案，所述蒸鍍?cè)垂┝涎b置還包括蒸鍍腔、供料腔和活動(dòng)擋板，所述工作位位于所述蒸鍍腔內(nèi)，所述等候位位于所述供料腔內(nèi)，所述活動(dòng)擋板位于所述工作位和所述等候位之間，且并被配置為能被所述驅(qū)動(dòng)組件驅(qū)動(dòng)，以將達(dá)到預(yù)設(shè)蒸鍍速率的所述坩堝從所述供料腔轉(zhuǎn)動(dòng)到所述蒸鍍腔，同時(shí)將蒸鍍完成的所述坩堝轉(zhuǎn)動(dòng)到所述供料腔。