[發(fā)明專利]一種涂膠機(jī)的噴涂方法以及噴涂系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011459538.0 | 申請(qǐng)日: | 2020-12-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112619933B | 公開(公告)日: | 2022-02-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉玉倩;鄭如意;呂磊;陳威;賈月明 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京半導(dǎo)體專用設(shè)備研究所(中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十五研究所) |
| 主分類號(hào): | B05B12/00 | 分類號(hào): | B05B12/00 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 劉鳳 |
| 地址: | 100176 北京*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 涂膠 噴涂 方法 以及 系統(tǒng) | ||
本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N涂膠機(jī)的噴涂方法以及噴涂系統(tǒng),其中,所述噴涂方法包括:獲取涂膠機(jī)噴頭的第一運(yùn)動(dòng)軌跡,控制涂膠機(jī)噴頭按照第一運(yùn)動(dòng)軌跡進(jìn)行噴涂;獲取涂膠機(jī)噴頭的第二運(yùn)動(dòng)軌跡,控制涂膠機(jī)噴頭按照第二運(yùn)動(dòng)軌跡進(jìn)行噴涂;若未達(dá)到噴涂截止條件,則再更新第二運(yùn)動(dòng)軌跡,并按照更新后的第二運(yùn)動(dòng)軌跡重新執(zhí)行步驟控制涂膠機(jī)噴頭按照第二運(yùn)動(dòng)軌跡進(jìn)行噴涂;其中,第一運(yùn)動(dòng)軌跡和第二運(yùn)動(dòng)軌跡是相同的;第二運(yùn)動(dòng)軌跡至少部分的位于按照第一運(yùn)動(dòng)軌跡進(jìn)行噴涂所得到的少噴涂區(qū)域中;第一運(yùn)動(dòng)軌跡和第二運(yùn)動(dòng)軌跡相差預(yù)設(shè)距離。這樣一來(lái),本申請(qǐng)能夠在一定程度上解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的因疊加產(chǎn)生的均勻性差的問(wèn)題,進(jìn)而提高噴頭噴涂的均勻性。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請(qǐng)涉及集成電路設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,涉及一種涂膠機(jī)的噴涂方法以及噴涂系統(tǒng)。
背景技術(shù)
目前,隨著集成電路產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,噴霧式涂膠機(jī)一般采用超聲噴頭實(shí)現(xiàn)光刻膠的霧化,由工作臺(tái)帶動(dòng)噴頭對(duì)真空吸附方式固定在承片臺(tái)上的硅片進(jìn)行精密噴涂。噴霧式涂膠機(jī)工作過(guò)程中,硅片以真空吸附方式固定在承片臺(tái)上,噴涂過(guò)程一般由多次的噴涂疊加來(lái)完成,當(dāng)噴頭完成某次噴涂時(shí),工作臺(tái)帶動(dòng)噴頭到下一次噴涂位置。
現(xiàn)有的涂膠機(jī)噴膠工藝中,每次噴涂起點(diǎn)一致,多次噴涂軌跡完全重合,這樣,一條X向噴涂軌跡在Y向上并不均勻,需X向噴涂軌跡在Y向上相互疊加,由于噴涂軌跡完全重合,會(huì)因疊加造成均勻性誤差累積,從而造成Y向均勻性差的問(wèn)題。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本申請(qǐng)的目的在于提供一種涂膠機(jī)的噴涂方法以及噴涂系統(tǒng),能夠在一定程度上解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的因疊加產(chǎn)生的均勻性差的問(wèn)題,進(jìn)而提高硅片噴涂的均勻性。
第一方面,本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N涂膠機(jī)的噴涂方法,所述噴涂方法包括:
獲取涂膠機(jī)噴頭的第一運(yùn)動(dòng)軌跡;
控制所述涂膠機(jī)噴頭按照所述第一運(yùn)動(dòng)軌跡進(jìn)行噴涂;
獲取涂膠機(jī)噴頭的第二運(yùn)動(dòng)軌跡;
控制所述涂膠機(jī)噴頭按照所述第二運(yùn)動(dòng)軌跡進(jìn)行噴涂;
若未達(dá)到噴涂截止條件,則再更新第二運(yùn)動(dòng)軌跡,并按照更新后的第二運(yùn)動(dòng)軌跡重新執(zhí)行步驟控制所述涂膠機(jī)噴頭按照第二運(yùn)動(dòng)軌跡進(jìn)行噴涂;其中,所述第一運(yùn)動(dòng)軌跡和所述第二運(yùn)動(dòng)軌跡是相同的;所述第二運(yùn)動(dòng)軌跡至少部分的位于按照所述第一運(yùn)動(dòng)軌跡進(jìn)行噴涂所得到的少噴涂區(qū)域中;所述第一運(yùn)動(dòng)軌跡和所述第二運(yùn)動(dòng)軌跡相差預(yù)設(shè)距離;
其中,所述控制所述涂膠機(jī)噴頭按照所述第一運(yùn)動(dòng)軌跡進(jìn)行噴涂,包括:
控制所述涂膠機(jī)噴頭按照所述第一運(yùn)動(dòng)軌跡進(jìn)行第一次噴涂;
當(dāng)?shù)谝淮螄娡拷Y(jié)束后,控制涂膠機(jī)卡盤沿著第一方向旋轉(zhuǎn)預(yù)設(shè)角度;
繼續(xù)控制所述涂膠機(jī)噴頭按照所述第一運(yùn)動(dòng)軌跡進(jìn)行第二次噴涂;
當(dāng)?shù)诙螄娡拷Y(jié)束后,控制涂膠機(jī)卡盤沿著與第一方向相反的第二方向旋轉(zhuǎn)預(yù)設(shè)角度。
優(yōu)選地,所述控制所述涂膠機(jī)噴頭按照所述第二運(yùn)動(dòng)軌跡進(jìn)行噴涂,包括:
控制所述涂膠機(jī)噴頭按照所述第二運(yùn)動(dòng)軌跡進(jìn)行第一次噴涂;
當(dāng)?shù)谝淮螄娡拷Y(jié)束后,控制涂膠機(jī)卡盤沿著第一方向旋轉(zhuǎn)預(yù)設(shè)角度;
繼續(xù)控制所述涂膠機(jī)噴頭按照所述第二運(yùn)動(dòng)軌跡進(jìn)行第二次噴涂;
當(dāng)?shù)诙螄娡拷Y(jié)束后,控制涂膠機(jī)卡盤沿著與第一方向相反的第二方向旋轉(zhuǎn)預(yù)設(shè)角度。
優(yōu)選地,通過(guò)以下步驟判斷是否達(dá)到噴涂截止條件:
獲取所述涂膠機(jī)噴頭的預(yù)設(shè)噴涂總數(shù);
統(tǒng)計(jì)所述涂膠機(jī)噴頭按照所述第一運(yùn)動(dòng)軌跡和按照所述第二運(yùn)動(dòng)軌跡進(jìn)行噴涂的實(shí)時(shí)噴涂總數(shù);
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B05B12-14 .用于將從數(shù)種液體中選擇的一種液體或其他流體供給到一個(gè)噴流出口
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