[發明專利]一種涂膠機的噴涂方法以及噴涂系統

有效

• 申請號: 202011459538.0
• 申請日: 2020-12-11
• 公開（公告）號: CN112619933B
• 公開（公告）日: 2022-02-22
• 發明（設計）人: 劉玉倩;鄭如意;呂磊;陳威;賈月明
• 申請（專利權）人: 北京半導體專用設備研究所（中國電子科技集團公司第四十五研究所）
• 主分類號: B05B12/00
• 分類號: B05B12/00
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 劉鳳

1.一種涂膠機的噴涂方法，其特征在于，所述噴涂方法包括：

獲取涂膠機噴頭的第一運動軌跡；

控制所述涂膠機噴頭按照所述第一運動軌跡進行噴涂；

獲取涂膠機噴頭的第二運動軌跡；

控制所述涂膠機噴頭按照所述第二運動軌跡進行噴涂；

若未達到噴涂截止條件，則再更新第二運動軌跡，并按照更新后的第二運動軌跡重新執行步驟控制所述涂膠機噴頭按照第二運動軌跡進行噴涂；其中，所述第一運動軌跡和所述第二運動軌跡是相同的；所述第二運動軌跡至少部分的位于按照所述第一運動軌跡進行噴涂所得到的少噴涂區域中；所述第一運動軌跡和所述第二運動軌跡相差預設距離；

其中，所述控制所述涂膠機噴頭按照所述第一運動軌跡進行噴涂，包括：

控制所述涂膠機噴頭按照所述第一運動軌跡進行第一次噴涂；

當第一次噴涂結束后，控制涂膠機卡盤沿著第一方向旋轉預設角度；

繼續控制所述涂膠機噴頭按照所述第一運動軌跡進行第二次噴涂；

當第二次噴涂結束后，控制涂膠機卡盤沿著與第一方向相反的第二方向旋轉預設角度。

2.根據權利要求1所述的噴涂方法，其特征在于，所述控制所述涂膠機噴頭按照所述第二運動軌跡進行噴涂，包括：

控制所述涂膠機噴頭按照所述第二運動軌跡進行第一次噴涂；

當第一次噴涂結束后，控制涂膠機卡盤沿著第一方向旋轉預設角度；

繼續控制所述涂膠機噴頭按照所述第二運動軌跡進行第二次噴涂；

當第二次噴涂結束后，控制涂膠機卡盤沿著與第一方向相反的第二方向旋轉預設角度。

3.根據權利要求2所述的噴涂方法，其特征在于，通過以下步驟判斷是否達到噴涂截止條件：

獲取所述涂膠機噴頭的預設噴涂總數；

統計所述涂膠機噴頭按照所述第一運動軌跡和按照所述第二運動軌跡進行噴涂的實時噴涂總數；

若所述實時噴涂總數達到所述預設噴涂總數，則確定所述涂膠機噴頭達到噴涂截止條件。

4.根據權利要求1所述的噴涂方法，其特征在于，所述預設距離為沿著同一方向的所述第一運動軌跡和所述第二運動軌跡之間的相差距離。

5.根據權利要求4所述的噴涂方法，其特征在于，通過以下公式確定所述預設距離：

；

其中，Sy表示所述預設距離，dy表示所述涂膠機噴頭沿第三方向移動的單位距離，其中，所述第三方向為與所述第一運動軌跡或所述第二運動軌跡垂直的方向，N表示所述涂膠機噴頭的預設噴涂總數，n表示當前的噴涂次數，[ ]表示取整。

6.根據權利要求5所述的噴涂方法，其特征在于，通過以下步驟更新第二運動軌跡：

獲取所述第一運動軌跡和所述第二運動軌跡之間相差的預設距離；

控制所述涂膠機噴頭從當前第二運動軌跡上沿著所述第三方向移動所述預設距離，得到更新后的第二運動軌跡。

7.根據權利要求1所述的噴涂方法，其特征在于，所述少噴涂區域由所述第一運動軌跡中任意相鄰的部分第一運動軌跡形成的區域。

8.根據權利要求3所述的噴涂方法，其特征在于，所述預設噴涂總數為偶數。

9.一種涂膠機的噴涂系統，其特征在于，所述噴涂系統包括：

第一獲取模塊，用于獲取涂膠機噴頭的第一運動軌跡；

第一控制模塊，用于控制所述涂膠機噴頭按照所述第一運動軌跡進行噴涂；

第二獲取模塊，用于獲取涂膠機噴頭的第二運動軌跡；

第二控制模塊，用于控制所述涂膠機噴頭按照所述第二運動軌跡進行噴涂；

處理模塊，用于若未達到噴涂截止條件，則再更新第二運動軌跡，并按照更新后的第二運動軌跡重新執行步驟控制所述涂膠機噴頭按照第二運動軌跡進行噴涂；其中，所述第一運動軌跡和所述第二運動軌跡是相同的；所述第二運動軌跡至少部分的位于按照所述第一運動軌跡進行噴涂所得到的少噴涂區域中；所述第一運動軌跡和所述第二運動軌跡相差預設距離；

其中，第一控制模塊在用于控制所述涂膠機噴頭按照所述第一運動軌跡進行噴涂時，第一控制模塊具體用于：

控制所述涂膠機噴頭按照所述第一運動軌跡進行第一次噴涂；

當第一次噴涂結束后，控制涂膠機卡盤沿著第一方向旋轉預設角度；

繼續控制所述涂膠機噴頭按照所述第一運動軌跡進行第二次噴涂；

當第二次噴涂結束后，控制涂膠機卡盤沿著與第一方向相反的第二方向旋轉預設角度。