[發明專利]顯示面板及其制作方法以及電子設備在審
| 申請號: | 202011457402.6 | 申請日: | 2020-12-10 |
| 公開(公告)號: | CN112599697A | 公開(公告)日: | 2021-04-02 |
| 發明(設計)人: | 何瑞亭;李曉康 | 申請(專利權)人: | 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/52 | 分類號: | H01L51/52;H01L27/32;H01L51/56 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570 | 代理人: | 何輝 |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市東湖新技術*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 面板 及其 制作方法 以及 電子設備 | ||
1.一種顯示面板,其特征在于,包括:
基底,包括開關元件;
第一電極,設于部分所述基底上;所述第一電極與所述開關元件連接;
第一像素定義層,設于所述第一電極以及部分所述基底上,所述第一像素定義層上設置有第一開口,所述第一開口用于將所述第一電極裸露在外;
第二像素定義層,設于所述第一像素定義層上,所述第二像素定義層上設置有第二開口,所述第二開口的位置與所述第一開口的位置對應;且所述第二開口靠近所述第一像素定義層側的寬度小于所述第一開口的寬度;
反射層,包括第一子部,所述第一子部設于所述第二開口的內側壁上;所述反射層的厚度小于所述第一像素定義層的厚度;
發光層,設于所述第一電極上;
功能層,設于所述發光層、所述反射層以及部分所述第二像素定義層上;
第二電極,設于所述功能層上。
2.根據權利要求1所述的顯示面板,其特征在于,
所述第一像素定義層的厚度小于所述反射層的厚度與所述發光層的厚度之和。
3.根據權利要求1所述的顯示面板,其特征在于,
所述第一像素定義層的厚度大于所述反射層的厚度的兩倍。
4.根據權利要求3所述的顯示面板,其特征在于,
所述反射層還包括第二子部,所述第二子部設于部分所述第一電極上,所述第一子部與所述第二子部間隔設置。
5.根據權利要求4所述的顯示面板,其特征在于,
所述第二子部的材料的反射率大于所述第一電極的材料的反射率。
6.根據權利要求1所述的顯示面板,其特征在于,
所述第二像素定義層包括間隔設置的第一限定部和第二限定部,所述第一限定部和所述第二限定部之間的間隙區與所述第二開口的位置對應,所述第一限定部的底部和所述第二限定部的底部之間的間隙小于所述第一開口的寬度。
7.根據權利要求1所述的顯示面板,其特征在于,
所述第二電極的材料的反射率小于所述反射層的材料的反射率。
8.根據權利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板還可包括間隙子,所述間隙子設于部分所述第二像素定義層上,且所述間隙子的位置與所述第二開口的位置不重疊;
所述第一像素定義層的材料和所述第二像素定義層的材料均為有機光阻材料,所述第一像素定義層的材料的極性和所述第二像素定義層的材料的極性相反;和/或
所述間隙子的材料與所述第一像素定義層的材料相同。
9.一種電子設備,其特征在于,包括如權利要求1至8任意一項所述的顯示面板。
10.一種顯示面板的制作方法,其特征在于,包括:
制作基底,所述基底包括開關元件;
在所述基底上制作第一電極;所述第一電極與所述開關元件連接;
在所述第一電極以及所述基底上依次制作第一像素定義層以及第二像素定義層;其中所述第一像素定義層上形成有第一開口和所述第二像素定義層上形成有第二開口;所述第一開口用于將所述第一電極裸露在外;所述第二開口的位置與所述第一開口的位置對應;其中所述第二開口靠近所述第一像素定義層側的寬度小于所述第一開口的寬度;
在所述第二開口的內側壁上制作反射層;
在所述第一電極上制作發光層;
在所述發光層、所述反射層以及部分所述第二像素定義層上制作功能層;
在所述功能層上制作第二電極。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





