[發明專利]OLED器件的制備方法及OLED器件

有效

• 申請號: 202011454798.9
• 申請日: 2020-12-10
• 公開（公告）號: CN112599711B
• 公開（公告）日: 2022-07-29
• 發明（設計）人: 彭燦
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56;H01L51/50;H01L21/02
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 杜蕾

一種OLED器件的制備方法，所述方法包括：在一襯底基板上制備陽極金屬層；在所述陽極金屬層上制備空穴注入層，若檢測出所述空穴注入層的表面發生成膜不均勻現象，則對所述空穴注入層進行第一返工清洗流程后重新制備所述空穴注入層；在所述空穴注入層上制備空穴傳輸層，若檢測出所述空穴傳輸層的表面發生成膜不均勻現象，則對所述空穴傳輸層進行第二返工清洗流程后重新制備所述空穴傳輸層；在所述空穴傳輸層上制備有機發光層，若檢測出所述有機發光層的表面發生成膜不均勻現象，則對所述有機發光層進行所述第二返工清洗流程后重新制備所述有機發光層；依次在所述有機發光層上沉積電子傳輸層、電子注入層以及陰極金屬層，最后得到所述OLED器件。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種OLED器件的制備方法及OLED器件。

背景技術

OLED器件(Organic Light Emitting Diode，有機發光二極體)以其低功耗、響應速度快、對比度高，色域廣、較LCD(Liquid Crystal Display，液晶顯示器)輕薄、可實現柔性顯示等特殊品質，正在逐漸擴大其市場影響力。目前主流量產OLED器件的工藝為FMM(Fine Metal Mask，精細金屬掩膜版)蒸鍍工藝，可實現小尺寸高PPI(Pixels Per Inch，像素密度)的OLED屏幕的量產。在大尺寸OLED顯示領域，韓國LG公司采用蒸鍍工藝實現量產，但大尺寸蒸鍍工藝以及膜層結構復雜，良率低，物料成本高，暫時難以實現低成本制備OLED器件。

利用噴墨打印(Inkjet Print，IJP)技術，可以通過打印機的噴頭，精確將發光材料噴印在像素界定層限定的范圍內，并通過調整溶質的濃度，控制成膜的厚度。這一方案相比目前的蒸鍍有機物的方案，存在幾個顯著優點：1、節省材料，可以僅在發光需要的區域打印功能材料，而不需要通過掩膜版整面蒸鍍；2、QD材料難以通過蒸鍍方式制備成膜。噴墨打印OLED不需在真空中進行，只需要控制噴頭精度即可實現高精度打印。但是目前IJP打印設備打印頭穩定性不佳，會在打印過程中產生橋接(bridge，相鄰的像素的墨水從像素定義層的凹槽中溢出而搭接在一起)的現象或者不同的子像素之間墨水體積不一致(體積差異≥1％)的狀況，導致打印OLED器件的發光功能層后出現成膜不均勻(Mura)，造成顯示不良現象發生，進而影響了OLED器件的生產良率。

綜上所述，有必要提供一種OLED器件的制備方法及OLED器件，以解決現有技術所存在的問題。

發明內容

本發明提供一種OLED器件的制備方法及OLED器件，以解決現有的OLED器件的制備方法及OLED器件，由于噴墨打印設備打印頭穩定性不佳，會在打印過程中產生橋接現象或者不同的子像素之間墨水體積不一致的狀況，導致打印OLED器件的發光功能層后出現成膜不均勻，造成顯示不良現象發生，進而影響了OLED器件的生產良率的技術問題。

為達到上述目的，本發明實施例采用如下技術方案：

本發明提供一種OLED器件的制備方法，所述方法包括：

S10，在一襯底基板上制備陽極金屬層；

S20，在所述陽極金屬層上采用噴墨打印工藝制備空穴注入層，若檢測出所述空穴注入層的表面發生成膜不均勻現象，則對所述空穴注入層進行第一返工清洗流程后重新制備所述空穴注入層，直至所述空穴注入層的表面沒有不均勻現象；

S30，在所述空穴注入層上采用噴墨打印工藝制備空穴傳輸層，若檢測出所述空穴傳輸層的表面發生成膜不均勻現象，則對所述空穴傳輸層進行第二返工清洗流程后重新制備所述空穴傳輸層，直至所述空穴傳輸層的表面沒有不均勻現象；

S40，在所述空穴傳輸層上采用噴墨打印工藝制備有機發光層，若檢測出所述有機發光層的表面發生成膜不均勻現象，則對所述有機發光層進行所述第二返工清洗流程后重新制備所述有機發光層，直至所述有機發光層的表面沒有不均勻現象；