[發明專利]蒸發源以及包括該蒸發源的沉積設備在審
| 申請號: | 202011454479.8 | 申請日: | 2020-12-10 |
| 公開(公告)號: | CN112981328A | 公開(公告)日: | 2021-06-18 |
| 發明(設計)人: | 金振杰 | 申請(專利權)人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司: | 北京德琦知識產權代理有限公司 11018 | 代理人: | 翟洪玲;周艷玲 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 蒸發 以及 包括 沉積 設備 | ||
1.一種蒸發源,包括:
儲存部,包括用于容納沉積源材料的坩堝以及將由所述坩堝形成的空間劃分為多個內部空間的分隔件;
液位控制部,設置在所述多個內部空間中的每個中,并且將所述多個內部空間中的每個劃分為多個子空間,所述液位控制部在平面圖中具有格子結構;
噴嘴部,所述噴嘴部設置在所述儲存部上并且用于噴射所述沉積源材料;
殼體,所述儲存部和所述噴嘴部設置在所述殼體中;以及
加熱部,所述加熱部設置在所述儲存部與所述殼體之間并且用于加熱所述坩堝。
2.根據權利要求1所述的蒸發源,其中,所述液位控制部永久地固定到所述儲存部或者可拆卸地插入到所述多個內部空間中。
3.根據權利要求2所述的蒸發源,其中,所述坩堝包括矩形的底部,所述底部的長邊在第一方向上延伸并且所述底部的短邊在與所述第一方向正交的第二方向上延伸;和側壁部,所述側壁部從所述底部在與所述第一方向和所述第二方向兩者相交的第三方向上延伸,并且
其中,所述分隔件被設置為與所述坩堝的長邊相交。
4.根據權利要求3所述的蒸發源,其中,所述側壁部在所述第三方向上延伸的高度大于所述分隔件在所述第三方向上延伸的高度。
5.根據權利要求4所述的蒸發源,其中,所述液位控制部在所述第三方向上延伸的高度等于或小于所述分隔件的高度。
6.根據權利要求5所述的蒸發源,其中,所述液位控制部包括:
第一板,具有平行于由所述第一方向和所述第三方向形成的平面的平坦表面;以及
第二板,與所述第一板相交并且具有平行于由所述第二方向和所述第三方向形成的平面的平坦表面。
7.根據權利要求6所述的蒸發源,其中,所述第一板包括第一開口,所述第一開口形成在所述第一板的至少一個邊緣部處,并且允許所述沉積源材料通過所述第一開口連通,并且
所述第二板包括第二開口,所述第二開口形成在所述第二板的至少一個邊緣部處,并且允許所述沉積源材料通過所述第二開口連通。
8.根據權利要求7所述的蒸發源,其中,所述儲存部進一步包括緊固部,所述緊固部設置在所述坩堝的所述底部上,并且結合到所述第一開口或所述第二開口以緊固所述液位控制部。
9.根據權利要求3所述的蒸發源,其中,所述噴嘴部包括:
噴嘴板,具有平行于所述坩堝的所述底部的平坦表面;以及
從所述噴嘴板突出的至少一個噴嘴。
10.根據權利要求9所述的蒸發源,進一步包括輻射熱阻隔板,所述輻射熱阻隔板具有所述噴嘴插入的孔并且覆蓋所述噴嘴板。
11.一種沉積設備,包括:
腔室;
蒸發源,所述蒸發源設置在所述腔室中并且用于提供沉積源材料;以及
蒸發源轉移部,所述蒸發源轉移部設置在所述腔室中并且用于轉移所述蒸發源,
其中,所述蒸發源包括:
儲存部,包括用于容納所述沉積源材料的坩堝以及將由所述坩堝形成的空間劃分為多個內部空間的分隔件;
液位控制部,設置在所述多個內部空間中的每個中,并且將所述多個內部空間中的每個劃分為多個子空間,所述液位控制部在平面圖中具有格子結構;
噴嘴部,所述噴嘴部設置在所述儲存部上并且用于噴射所述沉積源材料;
殼體,所述儲存部和所述噴嘴部設置在所述殼體中;以及
加熱部,所述加熱部設置在所述儲存部與所述殼體之間并且用于加熱所述坩堝。
12.根據權利要求11所述的沉積設備,其中,所述腔室包括彼此相鄰設置的第一腔室和第二腔室。
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