[發(fā)明專利]一種鈮酸鋰電光調(diào)制器及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011448550.1 | 申請日: | 2020-12-09 |
| 公開(公告)號: | CN114609805A | 公開(公告)日: | 2022-06-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳玉萍;劉一岸;陳險(xiǎn)峰;顏雄碩 | 申請(專利權(quán))人: | 上海交通大學(xué) |
| 主分類號: | G02F1/01 | 分類號: | G02F1/01;G02F1/03;G02F1/035 |
| 代理公司: | 上海旭誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31220 | 代理人: | 鄭立 |
| 地址: | 200240 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 鈮酸鋰 電光 調(diào)制器 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明提供了一種鈮酸鋰電光調(diào)制器,包括襯底、基于絕緣體上鈮酸鋰薄膜(LNOI)制成的脊型波導(dǎo)、電極、電介質(zhì)(Dielectrics)以及覆蓋層。其中,鈮酸鋰薄膜置于一層微米厚度的絕緣體上,絕緣層為二氧化硅,鈮酸鋰薄膜的厚度為300?900納米。首先在鈮酸鋰薄膜上加工出脊型波導(dǎo),在脊型波導(dǎo)的兩側(cè)各設(shè)置有電極,在脊型波導(dǎo)與電極之間的區(qū)域填充有電介質(zhì)。在脊型波導(dǎo)、電極以及電介質(zhì)的上方設(shè)置有覆蓋層。電介質(zhì)的介電常數(shù)大于覆蓋層的介電常數(shù)。本發(fā)明還提供了一種制備鈮酸鋰電光調(diào)制器的方法。本發(fā)明提供的鈮酸鋰電光調(diào)制器,可在不改變波導(dǎo)和電極結(jié)構(gòu)的前提下,將半波電壓降低至原本的1/4左右,且不引入額外的生產(chǎn)成本。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于光信息處理領(lǐng)域,尤其涉及一種鈮酸鋰電光調(diào)制器及其制備方法。
背景技術(shù)
激光外調(diào)制技術(shù)一直是光通信領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)。基于鈮酸鋰電光效應(yīng)的相位和強(qiáng)度調(diào)制器具有大帶寬、低損耗,在高速光通信領(lǐng)域極具應(yīng)用前景。體材料鈮酸鋰上基于鈦擴(kuò)散或質(zhì)子交換波導(dǎo)的電光調(diào)制器已商業(yè)化并被廣泛使用。現(xiàn)有技術(shù)中存在的基于體材料鈮酸鋰的鈦擴(kuò)散或質(zhì)子交換波導(dǎo),波導(dǎo)寬度為5-8微米,電極與波導(dǎo)用二氧化硅覆蓋。由于波導(dǎo)寬度較大,為了獲得較低的半波電壓,器件設(shè)計(jì)尺寸為0.8-4厘米。波導(dǎo)寬度較大同時(shí)造成了其光局域能力受到限制,導(dǎo)致調(diào)制帶寬受到限制(約10G赫茲)。此外,器件的設(shè)計(jì)尺寸太大導(dǎo)致器件不便于大規(guī)模集成,難以滿足現(xiàn)代通信對于調(diào)制帶寬快速提升的需求。
為了解決以上問題,現(xiàn)有技術(shù)中出現(xiàn)了基于絕緣體上鈮酸鋰薄膜(LNOI)的電光調(diào)制器。基于絕緣體上鈮酸鋰薄膜的脊型波導(dǎo)相較于傳統(tǒng)體材料鈮酸鋰中的鈦擴(kuò)散或質(zhì)子交換波導(dǎo),寬度更小,擁有更強(qiáng)的光局域能力。例如,現(xiàn)有技術(shù)中存在利用CMOS兼容的工藝在鈮酸鋰薄膜上制備的調(diào)制帶寬100G赫茲的馬赫·曾德干涉型強(qiáng)度調(diào)制器。其電極長度為1厘米,半波電壓降低到了2.3伏。
半波電壓作為與器件功耗直接相關(guān)的指標(biāo),一直是技術(shù)人員最為關(guān)心的指標(biāo)之一。降低半波電壓能夠直接降低器件功耗,在大規(guī)模集成的前提下,單一器件功耗的降低意味著整體功耗大幅降低,因此在現(xiàn)有技術(shù)的基礎(chǔ)上,不影響器件尺寸、調(diào)制能力的前提下,進(jìn)一步發(fā)明一種降低鈮酸鋰電光調(diào)制器的半波電壓的技術(shù)手段是有益的。由于這種降低半波電壓的技術(shù)手段,是通過降低功耗來節(jié)約器件成本的,因此在大規(guī)模集成的生產(chǎn)過程中,優(yōu)選地不應(yīng)引入額外的生產(chǎn)成本,以免抵消因?yàn)楣慕档吞峁┑慕档统杀镜男Ч?/p>
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種鈮酸鋰電光調(diào)制器,包括波導(dǎo)、電極和覆蓋層,其特征在于,所述覆蓋層被設(shè)置在所述波導(dǎo)和所述電極的表面,并覆蓋所述波導(dǎo)和所述電極的表面,在所述波導(dǎo)與所述電極之間,設(shè)置有電介質(zhì)(Dielectrics)。
進(jìn)一步地,所述電介質(zhì)所采用的材料的介電常數(shù)大于所述覆蓋層的材料的介電常數(shù)。
進(jìn)一步地,所述波導(dǎo)包括單脊型波導(dǎo),所述電極為多個(gè),所述多個(gè)電極中至少包含第一電極和第二電極,所述第一電極和第二電極被分別設(shè)置于所述單脊型波導(dǎo)的兩側(cè)。
進(jìn)一步地,所述電介質(zhì)包括第一部分和第二部分,所述第一部分被設(shè)置于所述第一電極與所述單脊型波導(dǎo)之間,所述第二部分被設(shè)置于所述第二電極與所述單脊型波導(dǎo)之間。
進(jìn)一步地,所述波導(dǎo)包括雙脊型波導(dǎo),所述雙脊型波導(dǎo)包括第二脊型波導(dǎo)與第三脊型波導(dǎo),所述電極為多個(gè),所述多個(gè)電極中至少包含第三電極、第四電極以及第五電極,所述第三電極被設(shè)置于所述第二脊型波導(dǎo)的外側(cè),所述第四電極被設(shè)置于所述第二脊型波導(dǎo)與第三脊型波導(dǎo)之間,所述第五電極被設(shè)置于所述第三脊型波導(dǎo)外側(cè)。
進(jìn)一步地,所述電介質(zhì)包括第三、第四、第五、第六部分,所述第三部分被設(shè)置于所述第三電極與所述第二脊型波導(dǎo)之間,所述第四部分被設(shè)置于所述第二脊型波導(dǎo)與所述第四電極之間,所述第五部分被設(shè)置于所述第四電極與所述第三脊型波導(dǎo)之間,所述第六部分被設(shè)置于所述第三脊型波導(dǎo)與所述第五電極之間。
進(jìn)一步地,所述雙脊型波導(dǎo)的材料包括X或Y切絕緣體上鈮酸鋰薄膜。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





