[發明專利]一種防止激光化學氣相沉積中沉積氣體結晶化的裝置和方法

在審

• 申請號: 202011448030.0
• 申請日: 2020-12-09
• 公開（公告）號: CN112680723A
• 公開（公告）日: 2021-04-20
• 發明（設計）人: 楊軍;董岱;王天一
• 申請（專利權）人: 蘇州科韻激光科技有限公司
• 主分類號: C23C16/52
• 分類號: C23C16/52;C23C16/455;C23C16/44
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 鞏克棟

本發明涉及一種防止激光化學氣相沉積中沉積氣體結晶化的裝置和方法，所述裝置包括沉積氣體儲存容器、反應腔體以及連接兩者用于輸送沉積氣體的管路，沿所述沉積氣體的流動方向，所述管路包括至少兩個溫度流失區域；對應所述溫度流失區域，所述裝置還設置溫度保持裝置與第一溫度監測裝置，所述第一溫度監測裝置的監測目標溫度呈遞增趨勢。利用所述裝置，可以保持所述管路內的沉積氣體為持續氣化狀態，有效地防止了沉積氣體在管路內部或反應腔體內的基板上遇冷凝固發生結晶化現象，有效地避免了管路堵塞或基板報廢等嚴重問題，有效地避免了巨大的經濟損失。

技術領域

本發明涉及激光化學氣相沉積技術領域，具體涉及一種防止激光化學氣相沉積中沉積氣體結晶化的裝置和方法。

背景技術

激光化學氣相沉積(Laser Chemical Vapor Deposition，LCVD)是一種通過激光束的光子能量激發和促進將化學氣體或蒸汽在基板表面反應合成涂層或納米材料的方法。目前，LCVD主要用作一種修補方法，主要用于修補顯示基板上的斷線等缺陷。例如CN103744201A公開了一種液晶顯示面板的修復方法及修復系統，所述修復方法包括以下步驟：步驟1、提供液晶顯示面板，該液晶顯示面板上的電路有斷路；步驟2、通過激光化學氣相沉積法在液晶顯示面板上形成石墨烯，以連通該斷路，所述修復方法制程簡單，修復效果好，且以甲烷等常見氣體為碳源氣體，利于環境保護；并可以通過控制激光的照射與否控制石墨烯的層數，進而控制石墨烯的導電率，提升修復效果；同時，還可以調整激光的光斑半徑，則可控制石墨烯生長線路的分辨率，調整激光光路，使光斑能按設定的路徑對斷路區域進行加熱，沉積出所需要的石墨烯線路或形狀。

CN107342231A公開了一種薄膜晶體管的柵極斷線修補方法，包括以下步驟：(1)在薄膜晶體管的柵極斷線處的兩端定位兩個點；(2)在定位到的兩個點上，分別采用激光穿透該點的刻蝕阻擋層和柵絕緣層進行打孔，當孔到達柵極所在層時停止，形成孔1和孔2；(3)采用激光化學氣相沉積法從孔1的位置開始沿薄膜晶體管的外表面注膜，到達孔2的位置時停止，在兩孔之間形成一層注膜層，從而使孔1和孔2電氣連接。通過所述修補方法可以實現跨層的柵極斷線修補。

CN107145019A公開了一種顯示基板的修復方法、修復系統、顯示基板及顯示面板，所述修復方法包括：在檢測到顯示基板的信號線發生斷路或者短路之后，在信號線發生斷路的斷開處或者在信號線短路修復時形成的斷開處，形成修復線；至少在所述修復線所在區域形成保護層。所述修復方法在對信號線的斷開處形成修復線之后，還要進一步形成保護層將該修復線保護起來，消除了后段的清洗、涂覆等工藝對該修復線的影響，避免其脫落導致修復失敗，從而提高了修復效果和產品品質。

CN102736341A公開了一種液晶顯示面板及其修復方法，所述修復方法包括：檢測所述面板以確定存在點缺陷的子像素區域；電連接點缺陷所在的子像素區域和與其相鄰的正常顯示的子像素區域，其中，所述正常顯示的子像素區域和所述點缺陷所在的子像素區域用于同一顏色的顯示；斷開出現所述點缺陷的子像素區域中的薄膜晶體管和與其對應的數據線以及像素電極之間的連接。通過所述修復方法能夠使亮點變為好點，提高了液晶顯示面板的顯示品質，并且可適用于對無需存儲電容的電極設計的液晶顯示面板進行修復。

在實施LCVD時，需要在相應位置照射激光束，使得在該位置上可以集中沉積，從而達到修復目的，而在具體修復過程中，需要在修復位置供應包含目標金屬元素的金屬源氣體，進而通過LCVD技術發生化學反應，生成相應涂層。然而，金屬源氣體一般是含有金屬元素的有機氣體，例如六羰基鉻(Cr(CO)₆)，極易在管路內部或基板上遇冷凝固生成結晶，造成管路堵塞或基板報廢等嚴重問題，造成巨大的經濟損失，針對該問題，現有技術并沒有公開任何技術方案。

綜上所述，目前亟需開發一種防止激光化學氣相沉積中金屬源氣體結晶化的方法。

發明內容