[發(fā)明專利]內(nèi)燃機(jī)的氣缸蓋構(gòu)造

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011438143.2
• 申請(qǐng)日: 2020-12-10
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112952555B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-09-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 松原直義;古南吉浩;船戶一平
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 豐田自動(dòng)車株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01T21/02
• 分類號(hào): H01T21/02;H01T13/08
• 代理公司: 北京市中咨律師事務(wù)所 11247
• 代理人: 柴智敏;段承恩

本發(fā)明涉及能夠提高著火穩(wěn)定性并且降低燃燒偏差的內(nèi)燃機(jī)的氣缸蓋構(gòu)造。火花塞具備筒狀的接地電極、比接地電極的頂端向頂端側(cè)突出的絕緣子以及比絕緣子的頂端向頂端側(cè)突出的中心電極。火花塞安裝于向氣缸蓋的內(nèi)壁面貫通的貫通孔。此時(shí)，在將露出到氣缸蓋的內(nèi)壁面?zhèn)鹊慕拥仉姌O的表面中的、在中心電極與接地電極之間流動(dòng)的氣流的氣流方向的最下游的位置設(shè)為第一位置，將氣缸蓋的內(nèi)壁面中的、在氣流方向上的中心電極的下游側(cè)最接近中心電極的位置設(shè)為第二位置的情況下，火花塞配置在第一位置與第二位置處于同一氣流線上的位置、或者配置在第一位置比第二位置向從內(nèi)壁面后退的一側(cè)凹陷的位置。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及內(nèi)燃機(jī)的氣缸蓋構(gòu)造。

背景技術(shù)

在專利文獻(xiàn)1中公開(kāi)了涉及內(nèi)燃機(jī)的火花塞的技術(shù)。該技術(shù)的火花塞具備筒狀的接地電極、從接地電極向頂端側(cè)突出的筒狀的絕緣子、以及從絕緣子進(jìn)一步向頂端側(cè)突出的中心電極。當(dāng)向中心電極施加高頻電壓時(shí)，在接地電極與中心電極之間發(fā)生放電。在該技術(shù)中，通過(guò)對(duì)接地電極的形狀進(jìn)行設(shè)計(jì)，使放電與絕緣子分離，確保穩(wěn)定的著火性。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開(kāi)2016-58196號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明所要解決的課題

在內(nèi)燃機(jī)的燃燒室中產(chǎn)生氣流。當(dāng)放電路徑被氣流拉長(zhǎng)時(shí)，大范圍的混合氣被加熱，對(duì)著火性有積極影響。然而，另一方面，有時(shí)由于放電路徑的變動(dòng)等，放電路徑會(huì)在中途短路而變短。因此，在上述的以往的技術(shù)中，在著火的穩(wěn)定性、降低燃燒偏差方面留有改善的余地。

本發(fā)明是鑒于上述那樣的課題而做出的發(fā)明，目的在于提供一種能夠提高著火穩(wěn)定性并且降低燃燒偏差的內(nèi)燃機(jī)的氣缸蓋構(gòu)造。

用于解決課題的技術(shù)方案

為了解決上述的課題，第1發(fā)明應(yīng)用于在向氣缸蓋的內(nèi)壁面貫通的貫通孔安裝有火花塞的內(nèi)燃機(jī)的氣缸蓋構(gòu)造。火花塞具備：筒狀的接地電極；絕緣子，保持在接地電極的內(nèi)側(cè)，并且比接地電極的頂端向頂端側(cè)突出；以及中心電極，保持在絕緣子的內(nèi)側(cè)，并且比絕緣子的頂端向頂端側(cè)突出。在將露出到氣缸蓋的內(nèi)壁面?zhèn)鹊慕拥仉姌O的表面中的、在中心電極與接地電極之間流動(dòng)的氣流的氣流方向的最下游的位置設(shè)為第一位置，將氣缸蓋的內(nèi)壁面中的、在氣流方向上的中心電極的下游側(cè)最接近中心電極的位置設(shè)為第二位置的情況下，火花塞配置在第一位置與第二位置處于同一氣流線上的位置、或者配置在第一位置比第二位置向從內(nèi)壁面后退的一側(cè)凹陷的位置。

在第2發(fā)明中，在第1發(fā)明的基礎(chǔ)上還具有以下的特征。

接地電極包括筒狀的側(cè)面部、和覆蓋側(cè)面部的頂端的頂端面。第一位置位于頂端面的外緣。并且，第二位置位于氣缸蓋的內(nèi)壁面中的貫通孔的外緣。

在第3發(fā)明中，在第1或第2發(fā)明的基礎(chǔ)上還具有以下的特征。

氣流方向是在通過(guò)火花塞的火花塞中心軸且垂直于內(nèi)燃機(jī)的曲軸的軸向的面上，沿著內(nèi)壁面從氣缸蓋的進(jìn)氣側(cè)朝向排氣側(cè)的方向。

在第4發(fā)明中，在第1發(fā)明～第3發(fā)明中的任一發(fā)明的基礎(chǔ)上還具有以下的特征。

氣缸蓋在氣流方向上的中心電極的下游側(cè)具有從周圍的內(nèi)壁面突出的臺(tái)階部。

在第5發(fā)明中，在第4發(fā)明的基礎(chǔ)上還具有以下的特征。

臺(tái)階部構(gòu)成為，隨著朝向氣流方向的下游側(cè)，從周圍的內(nèi)壁面突出的突出量變大。