[發明專利]一種利用等離子弧制備納米二氧化鋯粉體的方法

在審

• 申請號: 202011435214.3
• 申請日: 2020-12-10
• 公開（公告）號: CN112408473A
• 公開（公告）日: 2021-02-26
• 發明（設計）人: 王開新;楊得全;韓成良;謝勁松;趙世維
• 申請（專利權）人: 合肥中航納米技術發展有限公司
• 主分類號: C01G25/02
• 分類號: C01G25/02;B82Y40/00
• 代理公司: 合肥輝達知識產權代理事務所(普通合伙) 34165
• 代理人: 汪守勇

1.一種利用等離子弧制備納米二氧化鋯粉體的方法，其特征在于，首先對氫氧化鋯粉進行研磨處理，然后通過等離子弧火焰燃燒法制備得到納米二氧化鋯粉體。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，對氫氧化鋯粉進行研磨處理的步驟為：

將氫氧化鋯粉加入至球磨機中進行粗粉碎，然后利用圓盤氣流磨進行超細粉碎。

3.如權利要求1或2所述的方法，其特征在于，通過等離子弧火焰燃燒法制備得到納米二氧化鋯粉體步驟為：

①、等離子弧火焰燃燒法反應

首先，啟動等離子電源，等離子弧反應室頂部的發生器開始工作，形成等離子電弧焰流；然后通過進料器向等離子弧反應室內部頂端輸送研磨處理后的氫氧化鋯粉，氫氧化鋯粉經過等離子電弧焰流快速反應獲得二氧化鋯粉體，并下落至等離子弧反應室的底部；

②、二氧化鋯粉體的多級分離和收集

在氣流作用下，等離子弧反應室底部的二氧化鋯粉體進入多級分離器中，經過多級分離后被收集器儲存；

③、氣流循環

抽氣泵置于收集器和凈化器之間，氣流從等離子弧反應室依次進入多級分離器、收集器、抽氣泵和凈化器，經過凈化處理的氣體經過壓縮機存儲升壓后再次通入等離子弧反應室的頂部形成氣流循環；凈化器和壓縮機之間的氣流管道上設有閥門，供輸入新鮮空氣+高純氧氣和排出氣體所用。

4.如權利要求3所述的方法，其特征在于，等離子弧反應室頂部的焰流溫度為1500～2500℃可調，反應時間為低于1s。

5.如權利要求3所述的方法，其特征在于，等離子電源的功率為30～70kW可調。